BE726362A - - Google Patents
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Classifications
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- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
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- Treating Waste Gases (AREA)
Description
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La présente invention est relative à un procédé de production d'acide -chlorhydrique anhydre et aqueux sensiblement exempt de soufre.
La présente invention concerne, plus particulièrement, sans cependant y être limitée, le traitement de HC1, tel qu'il provient d'un four Manheim. La combustion d'un tel four est nor- malement entretenue à l'aide de gaz naturel et est utilisée pour réaliser la réaction suivante :
EMI1.1
2KCl + H2SO4 # K2SO4 + 2HCl 'En raison de cette réaction, une certaine partie d'anhydride sulfureux est également produite. 11 en résulte que le HCL final produit..). qu'il soit aqueux ou anhydre contient normalement .une quantité appréciable de SO2 en tant qu'impureté.
II existe de nombreuses applications ou le SO2 est acceptable, mais il en existe d'autres où même des quantités minimes sont considérées comme étant extrêmement préjudiciables- C'est le cas, par exemple, d es utilisateurs de HC1 destinés à l'acidif- cation des produits de pétrole. De mime, le produit anhydre classique n'est pas toujours satisfaisant pour 1*industrie- - électronique où du HC1 anhydre est couramment utilisé pour l'atta- -que de plaquettes isolantes de silicone-
Par conséquent, la rpésente invention a pour objet principal un procédé grâce auquel la teneur en SO2 du HC1, qu'il soit aqueux ou anhydre, est réduite jusqu'au point de rendre -le produit entièrement acceptable -pour 'les domaines d'utilisation susmentionnés.
La présente invention a aussi pour objet d'atteindre ce but à un coût minimal.
<Desc/Clms Page number 2>
D'antres objets et caractéristiques de la présente
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invention'apparaltront 3. la lecture de la description détaillée qui suit en .référence aux dessins ci-annexés qui représentent sciématiquement à titre illustratif un système convenant à la -mise en oeuvre du- procédé se3au, ,lxizwen,ion.
Bien que le système ,particulier-.tel que représenté soit destiné à être intégré à, ou im-erposé dans un ensemble d'équipements-convenant au traitement -de vapeurs provenant -d-l'un --four Manheim, son application na doit pas être considérée .comme étant limitée. Cependant, une trêve description du traitement
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qui se- déroule- en-amont-da-systëme illustré est jointe ici gaz des fins de rappel uniquement. Qu'il s-affisé ct dü iie 3:ai vapeur provenant du four est d'abord soumise à une humidification adiabatique avec de l'eau et du HC1 aqueux -afi-n-d '-en réduire .la température.
Les vapeurs sont ensuite lavées avec du HC1 aqueux faible de manière à en éliminer les poussières entraînées, consis- tant principalement en fines de K2SO4, et elles sont ensuite absor- bées dans de l'eau qui est transportée vers un réservoir d'ex- pansion en même temps que le produit de fond de l'unité de lavage.
Selon la présente invention {voir le dessin ci.-.annexé) le liquide provenant du réservoir d'expansion même, dont la compo- sition est telle qu'indiquée sur le dessin, est introduit dans le purgeur 10 avec du chlore (réservoir 11) utilisé en -une quantrté supérieure à celle qui est nécessaire pour oxyder- le SO2 en acide sulfurique selon l'équation suivante :
EMI2.3
so2 + 2H20 + C:
1-----...--. 2HCl. + 112504 Le produit de fond du purgeur 10 constitué de manière
EMI2.4
typique de 3 -de BC1, de 3D de H2SC1p et de 73 " de Hg0, est utilise dans 1 opération de lavage Snenentiomnéa
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Le produit du sommet du purgeur 10, constitué de
HC1, H20 et de H2SO4, est amené à passer par une conduite 12 pourvue d'un collecteur ou piège 14, dans un éliminateurde brouillard 16. Dans ce dernier élément, sensiblement les der- niêres parcelles de H2SO4 sont éliminées. Cet acide aqueux, en même temps que la matière provenant du collecteur ou piège 14, est transporté vers la conduite à la partie INFérieur du pur- geur 10, -cependant que des vapeurs de HC1 aqueux,dont on a enle- vé le brouillard sont -introduites dans un condenseur 20.
Pour éliminer l'excès de-chlore, c'est-à-dire le chlore non consommé au cours de l'oxydation en H2SO4 de la¯ teneur en SO2 du liquide d'alimentation,le HC1 aqueux-du conderseur 20 est amené à passer à travers une couche de carbone activé 22.
De la couche de carbone, le produit constitué de HC1 aqueux -sensiblement exempt de soufre contenant normalement environ 35 % de HC1est conduit au réservoir de stockage du procuit aqueux.
La partie droite du dessin se-,rapporte à la produc- tion de HC1 anhydre sensiblement exempt de soufre selon le procédé de la.présente invention. On considère ici que la matière traitée provient d'un système tel que décrit plus haut, excepté que l'on en omet l'addition de chlore 11. Dans un tel cas, le produit du type HCl aqueux (provenant du réservoir de stockage de produits aqueux) contient, de manière typique 300 parties par million de SO2 On fait passer cette liqueur -en même temps- que du chlore élémentaire admis à partir du réservoir 28 dans un purgeur 30. Ici à nouveau, le chlore est utilisé en excès stoechiométrique par rapport A la teneur en SO2 du produit d'alimentation.
Le produit de tête du purgeur 30 est amené par la/ conduite 32 dans le condenseur 20, cependant que le produit de /
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EMI4.1
fond., contenant, de manière typique, zip de Hel et 3- %-de H20 - et 5 ppm de C12' ¯ensgorté 3r.ers un second purgeur 34.
De ce dernier est. -sGU1>i-Fé--t::-omm.e produit de fond une solution aqueuse de BEI contenant environ 21 % de.lICl...- Cette, rela- tion est alors transportée vers le réservoir d'expansion 9 qui
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alimente le-pürgeur 10.
Le produit de tête du purgeur 34 est-transporte par une conduite 36 dans un -condenseur 38 qui est relié à un sépara- teur 40. Le liquide qui y est séparé est amené à passer dans le
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purgeur .34 par une conduite -4-1, cependant que le NCI .gazeux humide est t>mnsporté vers la partie inférieure dmune tour de séchage 42.
Le séchage du gaz dans un tel élément -s'effectue avec du H2SO4 admis à partir d'un purgeur 44, soumis à de l'air provenant d'une soufflante 48, La fonction du purgeur 44 en combinaison avecla
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soufflante 1.8 est d'éliminer -le S02 du H2S04 .provenant du réservoir 46.. Par ce moyen, la teneur en SO, du H250. est normalement réduite jusqü-t-l environ 1 ppm. Le C12 résiduel, dans le gaz humid4introduit dans la tour de séenage IL21 est éliminé par réaction-avec le Srésiduel dans le 1Í2S04 provenant du purgeur 44.
Le HCl gazeux sensiblement séché provenant de l'élé-
EMI4.5
ment 42 est admis à passer à travers des éléments7 siccaij-Ka ù2 et 64 contenant respectivement,-en tant qu'agents siccatifs, de l'oxyde d'aluminium et du chlorure d'aluminium. De ce dernier élément, le-gaz sec est-transporté par la conduite 52 vers un compresseur 54 dont la conduite de sortie mène à un réservoir de stockage de produits anhydre 56.
LEGENDE DES DESSINS
EMI4.6
VA - vapeur d'eau - VS = .vers stockage C - condensât SPI - réservoir"'1ie- stockage R - refroidissement de produits aqueux A - air RSi'li = 3erroïr -e3e stockage de- prod1dt&-anbJidrea.
Claims (1)
- REVENDICATIONS 1.- Procédé de production de HC1 anhydre et aqueux.. sensiblement -exempt de soufre, à partir d'une liqueur aqueuse contenant du HC1 et du SO2, caractérisé en ce -que l'on traite cette liqueur par du chlore- élémentaire employé en un excès stoechiométrique par rapport à la teneur en SO2 de la liqueur,, ce traitement ayant pour résultat l'oxydation du SO2 en H2SO4 et en ce que l'on élimine ensuite le H2SO4 en question et l'excès de chlore du HC1 produit,.2. - Procédé suivant la revendication 1, caractérisé en ce que la liqueur aqueuse comprend du HC1 provenant de la vapeur sortant d'un réacteur servant à réaliser la réaction suivante : 2KLCL=H2SO4 K2SO4+ 2HC1 3.- Procédé suivant l'une ou l'autre des revendications précédentes, caractérisé en ce que l'excés de chlore est éliminé à l'aide de carbone activé.4,- Procédé suivant l'une ou l'autre des revendications 1 et 2, caractérisé en ce que l'excès de chlore est consomné par réaction de celui-ci avec du SO2 contenu dans un H2SO4 utilisé pour sécher le HC1.
Applications Claiming Priority (4)
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Family Applications (1)
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