BE792930A - Procede de production d'un stratifie revetu d'un clinquant metallique - Google Patents
Procede de production d'un stratifie revetu d'un clinquant metalliqueInfo
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- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 55
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 34
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 claims abstract 28
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 88
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 10
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 9
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 6
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims description 6
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 4
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 claims 4
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims 4
- 238000005234 chemical deposition Methods 0.000 claims 2
- 239000003292 glue Substances 0.000 claims 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 80
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 6
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 abstract description 4
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 abstract description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 73
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 73
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 9
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 7
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- OMZSGWSJDCOLKM-UHFFFAOYSA-N copper(II) sulfide Chemical compound [S-2].[Cu+2] OMZSGWSJDCOLKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 2
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- 229920013673 Kodapak Polymers 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N [(2R,3S,4S,5R,6R)-5-acetyloxy-3,4,6-trihydroxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound CC(=O)OC[C@@H]1[C@H]([C@@H]([C@H]([C@@H](O1)O)OC(=O)C)O)O SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- -1 carbonyl metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- BGTFCAQCKWKTRL-YDEUACAXSA-N chembl1095986 Chemical compound C1[C@@H](N)[C@@H](O)[C@H](C)O[C@H]1O[C@@H]([C@H]1C(N[C@H](C2=CC(O)=CC(O[C@@H]3[C@H]([C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O3)O)=C2C=2C(O)=CC=C(C=2)[C@@H](NC(=O)[C@@H]2NC(=O)[C@@H]3C=4C=C(C(=C(O)C=4)C)OC=4C(O)=CC=C(C=4)[C@@H](N)C(=O)N[C@@H](C(=O)N3)[C@H](O)C=3C=CC(O4)=CC=3)C(=O)N1)C(O)=O)=O)C(C=C1)=CC=C1OC1=C(O[C@@H]3[C@H]([C@H](O)[C@@H](O)[C@H](CO[C@@H]5[C@H]([C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](C)O5)O)O3)O[C@@H]3[C@H]([C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O3)O[C@@H]3[C@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O3)O)C4=CC2=C1 BGTFCAQCKWKTRL-YDEUACAXSA-N 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007850 degeneration Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 1
- 239000002650 laminated plastic Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 210000004185 liver Anatomy 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002052 molecular layer Substances 0.000 description 1
- 238000011328 necessary treatment Methods 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
- H05K3/022—Processes for manufacturing precursors of printed circuits, i.e. copper-clad substrates
- H05K3/025—Processes for manufacturing precursors of printed circuits, i.e. copper-clad substrates by transfer of thin metal foil formed on a temporary carrier, e.g. peel-apart copper
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- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
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- B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
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- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/03—Conductive materials
- H05K2201/0302—Properties and characteristics in general
- H05K2201/0317—Thin film conductor layer; Thin film passive component
-
- H—ELECTRICITY
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- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/03—Conductive materials
- H05K2201/0332—Structure of the conductor
- H05K2201/0335—Layered conductors or foils
- H05K2201/0344—Electroless sublayer, e.g. Ni, Co, Cd or Ag; Transferred electroless sublayer
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- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/03—Conductive materials
- H05K2201/0332—Structure of the conductor
- H05K2201/0335—Layered conductors or foils
- H05K2201/0355—Metal foils
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/01—Tools for processing; Objects used during processing
- H05K2203/0147—Carriers and holders
- H05K2203/0152—Temporary metallic carrier, e.g. for transferring material
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/01—Tools for processing; Objects used during processing
- H05K2203/0147—Carriers and holders
- H05K2203/0156—Temporary polymeric carrier or foil, e.g. for processing or transferring
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- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/03—Metal processing
- H05K2203/0315—Oxidising metal
-
- H—ELECTRICITY
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- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/07—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
- H05K2203/0703—Plating
- H05K2203/0726—Electroforming, i.e. electroplating on a metallic carrier thereby forming a self-supporting structure
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/18—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material
- H05K3/181—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating
-
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- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
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Description
La présente invention concerne des plaquettes de câblage
imprimé décapées à l'acide et leur procédé de production et
plus spécialement un procédé de production d'un stratifié comprenant une base sur la surface de laquelle est collée une couche de matière conductrice de l'électricité sur l'un de ses
côtés ou les deux, ladite couche ayant une épaisseur sensiblement inférieure à celle qui peut être obtenue par des procédés
de production classiques. La présente invention concerne encore
un procédé utilisant le nouveau stratifié susmentionné dans la
fabrication de circuits imprimés ou décapés à l'acide par une
nouvelle combinaison des procédés de production "par addition"
et "par décapage".
Le procédé de décapage ou par "enlèvement" ainsi qu'il
a été défini et qui est bien connu en pratique, utilise des stratifiés recouverts de cuivre présentant une mince feuille de cuivre collée.à la base,-la couche de cuivre ayant une épaisseur
comprise entre 0,025 et 0,178 mm. (Ceci équivaut sensiblement
à une teneur en cuivre comprise entre 0,76 et 15,25 g de cuivre
<EMI ID=1.1>
ble est appliquée à la surface du cuivre, la réserve étant
exposée sélectivement à la lumière ou autre rayonnement approprié et la "photographie" ainsi obtenue est développée par des
techniques classiques. Le processus de développement enlève la
réserve de toute la surface,sauf les parties formant le circuit
désiré. Le stratifié est ensuite décapé par un acide classique
qui enlevé le cuivre à découvert pour laisser la configuration
désirée du circuit.
Le processus de décapage qui s'est répandu au point de
devenir pratiquement une technique type pour la production en
série des plaquettes à circuit imprimé, est à la fois long et
relativement coûteux. Ceci est normal du fait que le processus
de décapage doit enlever une couche de cuivre relativement épaisse. Ainsi, de grandes quantités de décapant ou d'acide sont
nécessaires et les quantités de cuivre perdues sont importantes.
Le processus classique de décapage à l'acide a encore
l'inconvénient de nécessiter l'élimination de quantités relative-ment grandes' des réactifs usés du décapant, du cuivre et autres sous-produits du décapant. Le processus d'élimination peut être difficile et coûteux, en particulier à l'heure actuelle, étant donné que les réactifs usés sont des polluants en puissance qui peuvent causer des dommages écologiques et qui doivent être traités chimiquement pour éviter de tels dommages.
La mise en oeuvre du processus de décapage est limitée en particulier par le fait qu'il ne permet pas de produire des lignes extrêmement minces en partie à cause de l'affouillement important du cuivre devant rester provoqué par le décapage d'une couche de cuivre relativement épaisse. En outre, l'action du décapant ne peut pas être réglée étroitement et il faut maintenir des marges de sécurité en imposant encore une limitation à la largeur des lignes qui peut être atteinte.
Un autre procédé très répandu est le procédé dit "par addition". Pour produire une plaquette de câblage par un.,) forme de réalisation courante de ce procédé, un stratifié de matière plastique non revêtu est soumis à une série d'étapes de décapage et de sensibilisation. Une très mince couche de cuivre est déposée sur les surfaces du stratifié par déplacement chimique. Une réserve est ensuite appliquée sélectivement à la mince couche de cuivre par des procédés classiques, par exemple par la technique photographique décrite plus haut, pour limiter l'accumulation du cuivre sur les zones formant la configuration désirée du circuit. La mince couche de cuivre de ces zones est ensuite augmentée par électro-déposition jusqu'à l'épaisseur voulue du cuivre.
Après avoir enlevé la réserve des parties de 'la plaquette où elle a été appliquée, la mince couche de cuivre indésirable à ce moment est à découvert et est enlevée par un léger décapage.
Cette technique est également longue, coûteuse et difficile. En particulier, l'application de la première couche mince de cuivre présente diverses difficultés. Une sérieuse difficulté est due au manque d'uniformité de la surface de la structura des stratifiés non revêtus fournis par divers fabricants. En conséquence, en utilisant cette technique, on obtient des résultats irréguliers qui affectent en particulier l'adhérence entre le substrat du stratifié et la couche du cuivre déposé. Par suite,. il est nécessaire de soumettre la surface du stratifié à un traitement chimique pour la préparer. En outre, le procédé implique des étapes nombreuses et longues et l'utilisation d'une grande diversité de solutions chimiques. Le traitement et l'élimination indispensables des produits chimiques augmentent également les frais du procédé. et ses inconvénients du point de
vue écologique.
Il serait possible de surmonter ou au moins de réduire
un grand nombre des inconvénients du procédé de production "par addition" si l'on pouvait appliquer au substrat une couche
de cuivre d'une épaisseur inférieure à 0,02 mm par un procédé
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placement chimique et si 1[deg.]on pouvait obtenir une adhérence uniforme entre la couche de cuivre et le substrat. On a souvent tenté d'utiliser une feuille ou clinquant de cuivre d'une épais-
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de traiter un tel cuivre au laboratoire, il s'est avéré difficile de produire de tels stratifiés recouverts de cuivre en quantités industrielles. Le cuivre très mince ne peut être manipulé qu'avec le plus grand soin et sa faiblesse physique a empêché la mise
au point de procédés de production. Par ailleurs, des stratifiés classiques de câblage imprimé présentant une couche de cuivre d'une épaisseur comprise entre 0,025 et 0,178 mm n'ont pas permis de mettre en oeuvre le procédé "par addition".
La présente invention concerne un procédé modifié de production "par addition" en utilisant un substrat composite de matière plastique non conductrice ou de matière plastique et de verre qui est stratifié avec une couche de cuivre d'une épaisseur comprise entre quelques centièmes de micron et 0,02 mm.
En utilisant la nouvelle technique qui sera décrite dans le présent mémoire, cette stratification peut être effectuée en comprimant à chaud la matière plastique et le cuivre, soit avec, soit sans adhésif intermédiaire, selon la matière plastique particulière choisie.
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Le stratifié produit par la technique de la présente invention se distingue des stratifiés classiques principalement par l'épaisseur de la couche de cuivre. La nouvelle technique permet d'utiliser le clinquant de cuivre extrêmement mince décrit plus haut par des procédés classiques de manutention et d'application et permet une stratification en quantités industrielles. Brièvement,.la technique de la présente invention consiste à appliquer une couche très mince (inférieure à 0,02 mm) de cuivre à une matière de support qui peut supporter le processus de stratification sans dégradation. La mince couche de cuivre est ensuite collée au substrat de matière plastique de préférence par-application de chaleur et de pression. La matière de support peut être ensuite enlevée.
Après la préparation du stratifié recouvert de cuivre, on peut avoir recours à un procédé "par addition" sensiblement classique pour produire le circuit de configuration désirée..Dans une forme de réalisation préférée, on utilise une plaquette constituée par un stratifié de verre à
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chaleur et de pression, ce qui fait mûrir la plaquette.
Par conséquent, la présente invention a pour objet la préparation en quantités industrielles de stratifiés à la fois rigides et flexibles dont les surfaces sont recouvertes d'une couche de cuivre plus mince que celle qui pouvait être atteinte jusqu'à présent ; un procédé de collage d'une couche de cuivre relativement mince à un support de matière plastique sans utiliser de matière adhésive, le stratifié recouvert de cuivre obtenu pou-
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quettes de câblage imprimé.
La présente invention a encore pour objet un nouveau procédé "par addition" perfectionné pour fabriquer des plaquettes de câblage imprimé qui est plus simple, moins coûteux et qui
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des.
On va décrire maintenant en détail le procédé selon la présente invention. Une matière de support flexible,par exemple l'acétate de cellulose ou un polyes ter, est revêtue d'une très mince couche de cuivre. Dans un procédé en continu, on fait passer la pellicule dans une série de solutions de décapage et
de sensibilisation qui préparent ses surfaces en vue du. dépôt du cuivre. Des techniques convenables pour un tel dépôt par déplacement chimique sont décrites dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique N[deg.] 3 512 946 et dans la demande de brevet des EtatsUnis d'Amérique N[deg.] 597 217.
Le premier dépôt d'une couche de cuivre d'une épaisseur d'environ 0,38 micron est effectué par déplacement chimique. Cette couche doit être portée à une épaisseur comprise par exemple entre 2,5 et 17" 8 microns de façon qu'elle puisse être utilisée comme couche de base pour un circuit à déposer par addition après le transfert sur un stratifié. Un second dépôt de cuivre pour l'augmentation de la première couche de 0,38 micron à l'épaisseur de base désirée, peut être effectué de préférence
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tres procédés qui,en fait, pourraient être utilisés. A titre d'exemple, on peut citer les procédés de dépôt par déplacement chimique qui pourraient atteindre ce but à un prix plus élevé.
L'étape suivante du procédé consiste à transférer la couche de cuivre du support flexible sur le stratifié final. Etant donné que le support flexible doit être enlevé après le collage de la mince couche de cuivre sur le substrat de matière plastique, le support et son traitement doivent former une couche de cuivre avec une adhérence suffisante entre le cuivre et
le support pour permettre une manutention et un traitement conti-.. nu: La liaison doit également résister à une électro-déposition jusqu'à l'épaisseur désirée sans déstratification ou écaillage
de la couche de cuivre par rapport au substrat. Par ailleurs,
la force de la liaison ne doit pas être suffisamment grande pour empêcher d'enlever facilement le support de la couche de cuivre après stratification.
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métallique peut être réglée de diverses manières selon la composition du support. Si la force de liaison est comprise entre
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licule métallique ne doit normalement pas poser de problème.
Si la matière du support subit une dégénérescence sous l'effet de la chaleur ou de la pression ou des deux, la liaison entre la pellicule métallique et le support peut être initialement plus forte qu'on l'a indiqué plus haut, étant donné que ces matières qui se détériorent lorsqu'elles sont soumises à la chaleur et à la pression réduisent la liaison effective à de très faibles valeurs. Il est également possible d'utiliser des matières hygroscopiques car elles peuvent être imprégnées, après la phase d'application de la chaleur et de la pression, d'une quantité suffisante d'eau pour provoquer la dégénérescence. Des exemples de telles matières comprennent un polyimide qui convient parfaitement dans ce but mais qui est relativement coûteux ou un polyester qui est moins coûteux mais plus difficile à imprégner avec la quantité nécessaire d'humidité.
Des exemples de matières qui
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"Kodapak" ou d'autres matières cellulosiques.
Le support doit également présenter un fini superficiel
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cuivre et la surface de la matière plastique de base. Etant donné que la couche de cuivre épouse la texture du support à
la très petite épaisseur- en question, il est très souhaitable que le support présente un fini relativement grossier de manière que le cuivre, lorsqu'il est appliqué à la matière plastique pour la stratification, présente une surface rugueuse améliorant l'adhérence entre le cuivre et la matière plastique.
A titre d'exemple d'un processus détaillé qui peut être utilisé pour fabriquer un stratifié à la surface duquel est collée' une couche de cuivre, on va décrire en détail ci-après un procédé auquel on peut avoir recours pour fabriquer des stratifiés rigides d'époxyde et de verre.
Dans ce procédé, une étoffe de verre imprégnée d'une résine époxy liquide et partiellement mûrie (ébat est découpée à la dimension approximative du stratifié final. Plusieurs couches
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utilisé étant fonction de l'épaisseur désirée du stratifié. Le support flexible'revêtu de la mince couche de cuivre, produite comme décrit plus haut, est également découpé à la dimension prescrite. Le support est ensuite placé sur la couche externe
du verre imprégné d'époxyde à l'état B, la surface de cuivre étant tournée vers l'époxyde et le support faisant face vers l'extérieur. Des couches de barrage et d'amortissement appropriées de matière plastique et/ou de papier sont ensuite placées autour de l'extérieur de la pile pour assurer l'uniformité de la pression et de la température pendant les étapes ultérieures de mtlrissage et pour éviter que la résine liquide coule sur les surfaces de
la presse et adhère à ces dernières. L'ensemble empilé est ensuite placé sur des plateaux ou autres supports rigides et est disposé entre les plateaux chauffants d'une presse. Une pression est appliquée lorsque la température des plateaux de la presse et de l'ensemble empilé a atteint .un niveau élevé. La température et la pression- sont maintenues suffisamment longtemps
pour achever la fusion et le mûrissage de la résine époxy et
du clinquant de cuivre pour former un stratifié final. Après refroidissement, les bords du stratifié sont rognés et, après enlèvement du support, le stratifié revêtu de cuivre est prêt
à être transformé en une plaquette à circuit imprimé par le prccédé de production "par addition" . Des procédés analogues peuvent être utilisés avec d'autres matières de substrat qui peuvent être choisies pour produire soit des structures rigides, scit des structures flexibles. Ces procédés sont analogues d'une façon générale mais diffèrent par certains paramètres, comme
la pression, la température, la durée de mûrissage, etc. Pour
un bon rendement du procédé de production "par addition", il
faut que la surface du cuivre soit rigoureusement propre et
la première étape du procédé consiste à nettoyer soigneusement
la surface du cuivre avec des décapants appropriés ou autres réactifs afin d'enlever toute trace d'oxyde ou matières étrangères.
Comme on l'a indiqué plus haut, une partie de l'épaisseur
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mettre un nettoyage minutieux car une partie du cuivre est habituellement perdue pendant le processus de nettoyage. Il est très important que le cuivre soit d'une épaisseur suffisante pour éviter la présence de zones non conductrices qui ne réagiraient pas au procédé "par addition"..
Une réserve telle qu'une pellicule de réserve photosensible est appliquée ensuite à la surface nettoyée du cuivre.
On peut utiliser des réserves photosensibles formant une pellicule solide telles que "Riston" de DuPont de Nemours and Co. ou une matière de réserve liquide telle que "KPR" de Eastman Kodak qui convient d'une façon générale. Une image du circuit électrique désiré est déposée sur la couche de réserve qui est ensuite exposée à une source de lumière ultraviolette relativement intense.
La couche de réserve exposée est développée soit par immersion, soit par pulvérisation avec un solvant convenable pour laisser le cuivre à découvert dans les zones où une accumulation est désirée. L'épaisseur des surfaces de cuivre à découvert est ensuite portée à la valeur désirée par électro-déposition dans un bain classique de cuivrage. Après le cuivrage, il peut être souhaitable de déposer encore par électro-déposition ou par,un autre moyen une couche de soudure ou autre métal protecteur tel que l'or. La nature de la couche externe dépend de l'application à laquelle le circuit électrique est destiné. La couche de réserve est ensuite enlevée du stratifié par immersion dans une solution convenable. La couche de cuivre relativement mince restant sous la réserve peut être enlevée en plongeant la .
plaquette dans un décapant tel que le persulfate d'ammonium qui attaque le cuivre tout en laissant inchangée la configuration conductrice protégée par la soudure ou l'or.
Le support flexible peut être en d'autres matières que l'acétate de cellulose ou le polyester susmentionné. D'autres
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polyimidc ou de triacétate de cellulose conviennent. Il s'est également avéré possible d'utiliser des clinquants métalliques, par exemple de cuivre, de laiton, d'acier ou d'acier inoxydable ainsi que d'autres métaux ou des combinaisons plaquées de métaux comme matière de support. On peut éviter une adhérence relativement forte entre le clinquant de support, si on utilise un métal, et la couche du cuivre déposé en créant sur la surface métallique du support une couche moléculaire, par exemple d'un oxyde, d'un sulfure ou d'un autre composé métallique. Une telle couche permet de déposer la couche superficielle de cuivre sur le support mais ne permet pas une adhérence entre le support et la couche de cuivre qui soit suffisante pour empêcher l'enlèvement ultérieur du support après stratification.
Comme exemple particulier de l'utilisation d'un support métallique, on pourrait utiliser un clinquant de cuivre sur la surface duquel une mince couche de nickel a été déposée par évaporation. Après avoir laissé sécher le nickel, il se forme une mince couche d'oxyde sur la surface du nickel qui permet l'électro-déposition du cuivre à partir d'un bain de cuivrage acide. Par ailleurs, la
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forte entre la mince couche de cuivre et la surface de nickel. En variante, on pourrait plonger le clinquant de cuivre dans un bain contenant du foie de soufre qui engendre une mince couche de sulfure de cuivre sur la surface du clinquant. Cette couche de sulfure de cuivre agirait de la même manière que la couche d'oxyde de nickel dans l'exemple précédent. L'adhérence entre la mince couche de cuivre et le clinquant de base serait suffisante pour permettre la manutention pendant le processus de stratification sans traitement spécial.
Selon une autre technique, il s'est avéré possible d'utiliser un support rigide tel qu'une plaque d'acier inoxydable. Bien que ce type de support ne se prête pas à un traitement continu, il offre des avantages remarquables. La plaque elle-même est utilisée comme plateau de presse pendant le processus de strati-
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rence entre la plaque et le cuivre.
Une autre étape du procédé consiste à remplacer le dépôt par déplacement chimique de la première couche de cuivre sur le support par un dépôt sous vide. Le dépôt sous vide peut être effectué soit sous vide, soit dans une atmosphère inerte convenable. La vapeur métallique peut être obtenue par évaporation ou par décomposition de composés métalliques carbonylés ,
Il est possible d'utiliser des métaux autres que le cuivre, par exemple le nickel, le cobalt, l'argent, l'or ou des alliages de ces d-erniers pour former la première couche ou pour augmenter l'épaisseur de la première couche par électro-déposition pendant le processus de production "par addition".
Il va de soi que de nombreuses modifications peuvent être apportées au procédé décrit sans sortir du cadre de l'invention.
Claims (1)
- RESUMEA - Procédé de production d'un stratifié comprenant une base isolante et une couche relativement mince d'une matière conductrice de l'électricité collée à sa surface, le stratifiéétant destiné à être transformé en une plaquette de câblage imprimé, procédé caractérisé par les points suivants séparémentou en combinaisons. -:1. Il consiste à revêtir un support d'une couche relativement mince d'une matière conductrice d'un côté et à maintenirl'adhérence entre le support et la couche conductrice au-dessousd'une force de liaison prédéterminée ; à assembler une feuille dematière plastique non mûrie avec une feuille du substrat revêtu,le côté couche conductrice du support étant en contact avec lasurface de la feuille de matière plastique ; à coller la coucheconductrice à la feuille de matière plastique par application dechaleur et de pression audit ensemble de manière faire mûrirla feuille de matière plastique et à provoquer une adhérenceentre la feuille de matière plastique et la couche conductrice quiest supérieure à ladite force de liaison prédéterminée ; et àenlever le support dudit ensemble pour laisser la couche conductrice collée à la feuille de matière plastique.2. Le support est en matière flexible.3. Le support est en matière rigide.4. Le revêtement du support est effectué par dépôt chimique.. <EMI ID=19.1>dépôt chimique d'une couche conductrice d'une épaisseur d'environ 0,25 à 1,25 micron et par un second dépôt électrolytiqued'une couche supplémentaire immédiatement sur la première couchejusqu'à une épaisseur totale comprise entre 2,5 et 17,8 microns.6. L'ensemble comprend plusieurs feuilles de matièreplastique non mûrie avec le support revêtu.7. La force de liaison prédéterminée est inférieure à0,89 kg/cm.8. La feuille de matière plastique est initialement nonmûrie et l'étape de collage fait également mûrir ladite feuille de matière plastique.9. L'étape d'assemblage combine une feuille de matière plastique mûrie et une couche de matière adhésive entre le côté couche conductrice du support et la surface de la feuille de matière plastique et l'étape de collage engendre une adhérence entre la feuille de matière plastique et la couche conductrice au moyen de la couche adhésive intermédiaire.10. Le support utilisé dans l'étape de revêtement présente une face préalablement rendue rugueuse de manière que la surface à découvert de la couche conductrice présente une surface rugueuse analogue.B - Stratifié, caractérisé par les points suivants séparés ment ou en combinaisons,:1. Il est fabriqué par un procédé de production d'un stratifié comprenant une base isolante et une couche relativement mince d'une matière-conductrice de l'électricité collée à sa surface, le stratifié étant destiné à être transformé en une plaquette de câblage imprimé, . ledit procédé consistant à revêtir un support d'une couche relativement mince d'une matière conductrice d'un côté et à maintenir l'adhérence entre le support et la couche conductrice au-dessous d'une force de liaison prédéterminée ; à assembler une feuille de matière plastique avec une feuille dudit support revêtu, le côté couche conductrice de ce support étant au voisinage de la surface de la feuille de matière plastique ;à coller la couche conductrice à la feuille de matière plastique par application de chaleur et de pression audit ensemble de manière à engendrer entre la feuille de matière<EMI ID=20.1>la force de liaison prédéterminée ; et à enlever le support dudit ensemble pour laisser la couche conductrice collée à la feuille de matière plastique.2. Le procédé de production dudit stratifié consiste à revêtir un support d'une couche relativement mince de matière<EMI ID=21.1>port et la couche conductrice au-dessous d'une force de liaison prédéterminée ; à assembler une feuille de matière plastique non mûrie avec une feuille du support revêtu, le côté couche conductrice du support étant en contact avec la surface de la feuille de matière plastique ; à coller la couche conductriceà la feuille de matière plastique par application de chaleur et de pression audit ensemble de manière à faire mûrir la feuille de matière'plastique et à engendrer une adhérence entre la feuille de matière plastique et la couche conductrice qui est supérieure à la force de liaison prédéterminée, à déposer une couche protectrice d'un métal résistant au décapage sur la matière conductrice à découvert ; à enlever la réserve de la surface conductrice ; et à appliquer un décapant à l'ensemble pour enlever le. reste de la mince couche conductrice.3. L'étape d'assemblage dudit procédé de production consiste à utiliser une feuille de matière plastique non mûrieet l'étape de collage fait mûrir ladite feuille de matièrs plastique.4. L'étape d'assemblage du procédé de production consiste à placer une couche adhésive intermédiaire entre le côté couche conductrice du support et la surface de la feuille de matière plastique et l'étape de collage engendre l'adhérenceau moyen de la couche adhésive intermédiaire.C - Procédé de production d'une plaquette de câblage imprimé, caractérisé en ce qu'il consiste à produire un stratifié comprenant une base isolante et une. couche relativement mince d'une matière conductrice de l'électricité collée à sa surface en revêtant un support d'une couche relativement mince de matière conductrice d'un côté et en maintenant l'adhérence entre le support et la couche conductrice au-dessous d'une force de liaison prédéterminée ; en assemblant une feuille de matière plastique non mûrie avec une feuille dudit support revêtu, le côté couche conductrice du support étant en contact avec la surface de la feuille en matière plastique ; en collant la couche conductrice à la feuille de matière plastique par applica-<EMI ID=22.1>mûrir la feuille de matière plastique et à produire une adhérence entre ladite feuille de matière plastique et la couche con-ductrice qui est supérieure à la force de liaison prédéterminée ; ot en enlevant le support dudit ensemble pour laisser la couche conductrice collée à la feuille de matière plastique ; à déposer sélectivement une réserve sur la mince couche conductrice pour former l'image négative de la configuration désirée d'un circuit électrique ; à déposer électrolytiquement une quantité supplémentaire de matière conductrice sur les parties à découvert de la surface conductrice; à enlever la réserve de la surface conductrice ; et à appliquer un décapant à toute la surface pour enlever la mince couche conductrice restante.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US14722871A | 1971-05-26 | 1971-05-26 | |
| FR7244747A FR2210882A1 (en) | 1972-12-15 | 1972-12-15 | Metal faced laminate - for making printed circuits |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| BE792930A true BE792930A (fr) | 1973-06-18 |
Family
ID=26217462
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| BE792930D BE792930A (fr) | 1971-05-26 | Procede de production d'un stratifie revetu d'un clinquant metallique |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| BE (1) | BE792930A (fr) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3998601A (en) * | 1973-12-03 | 1976-12-21 | Yates Industries, Inc. | Thin foil |
| EP0203635A1 (fr) * | 1985-05-10 | 1986-12-03 | Akzo N.V. | Compositions de polymères métallisés, leurs procédés de fabrication et leurs utilisations |
-
0
- BE BE792930D patent/BE792930A/fr not_active IP Right Cessation
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3998601A (en) * | 1973-12-03 | 1976-12-21 | Yates Industries, Inc. | Thin foil |
| EP0203635A1 (fr) * | 1985-05-10 | 1986-12-03 | Akzo N.V. | Compositions de polymères métallisés, leurs procédés de fabrication et leurs utilisations |
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| RE | Patent lapsed |
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