BE828677A - Semelle de soutien plantaire. - Google Patents

Description

  Semelle de soutien plantaire L'objet de la présente invention est une semelle de soutien plantaire comportant des éléments d'appui pour les cambrures lon-

  
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saillie vers le haut en forme de coin dans la partie médiane de la zone d'appui du talon et un élément de soutien correspondant sur le coté opposé extérieur. 

  
Les semelles de soutien plantaire de ce genre permettent de maintenir le pied dans une position naturelle. Par contre, cette forme n'est pas encore capable de permettre-aux mouvements de la marche de s'effectuer do façon normale, ce qui est pourtant indispensable pour la santé du pied et pour permettre de marcher sans fatigue.

  
Un but de l'invention est de créer une semelle do soutien plantaire du type décrit ci-dessus grâce à laquelle los mouvements de la marche s'effectuent normalement.

  
La semelle de soutien plantaire selon l'invention est caractérisée en ce que les éléments de soutien intérieurs et extérieure

  
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et du cinquième orteil pour l'élément extérieur et eu ce qu'il est prévu à l'emplacement d'appui du cinquième orteil une partie en superstructure tandis que le point d'appui du gros orteil ainsi que celui du calcanéum se présentent en creux.

  
Les caractéristiques et avantages de l'invention rassortiront d'ailleurs de la description qui va suivre, à titre d'exemple, en référence au dessin annexé, dans lequel :
- la figure 1 représente en vue par dessus la cenelle belcn l'invention ;
- la figure 2 représente cette même semelle en élévation latérale ;
- les figures 3 à 5 sont des coupes effectuées respectivement suivant les lignes III-III, IV-IV, et V-V de la figure 1.

  
La semelle do soutien plantaire peut être réalisée soit

  
sous forme de garniture intérieure de chaussure soit sous forme de semelle intérieure reliée do façon fixe &#65533; la peausserie. L'exemple de réalisation décrit ci-après concerne une somelle 3/4 pouvant être enfilée dans une chaussure. 

  
La semelle représentée pour une chaussure droite eut faite de préférence en polyuréthane, ce matériau ayant comme avantages de se mettre en forme avec précision et de fuçon permanente, d'  <EMI ID=4.1> 

  
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La semelle de soutien plantaire 1 possède deux éléments de soutien latéraux pour les cambrures longitudinales du pied, à savoir un élément de soutien intérieur 2 et un élément de soutien

  
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droit des surfaces d'appui du cran orteil 5 (pour le premier élé-

  
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Dans la zone d'appui du talon, il est prévu un élément on super-

  
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tien intérieur, afin d'empêcher le pied de so plier vers l'intérieur. A l'emplacement opposé du bord extérieur de la semelle

  
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pulsion ou de lanceront (flèche B) c'effectuant ensuite depuis cet endroit jusqu'à la surface d'appui du Gros orteil ; il est donc essentiel de prévoir dans lu zone de la surface d'appui du

  
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doivent se trouver dans des creux correspondants. Etant donné que le pied est maintenu dans sa position normale par les deux élé-

  
 <EMI ID=17.1> 

  
ble d'obtenir que los mouvements do la marche s'effectuent norma- <EMI ID=18.1>  

  
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lement comme il vient d'être décrit en rabaissant d'une part le, calcanéum (surface d'appui 4) et d'autre part le gros orteil 5 ainsi qu'en relevant de façon correspondante la surface d'appui du cinquième orteil 6.

  
Etant donné que los mouvements do la marche s'effectuant ainsi, on évite darfs une large Mesure pendant la Marche des mou-

  
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soutien plantaire ce qui élimine le risque de frottements et d' irritations avec tous les inconvénients qui en découlent.

Claims (1)

1. <EMI ID=21.1>

   Semelle do soutien plantaire comportant des éléments de soutien des cambrures longitudinales intérieures et extérieures du pied, un partie plus haute en forme de coin dans la partie médiane de la zone d'appui du talon et un élément de soutien correspondant sur le côté: opposé extérieur, caractérisée on ce que, partant de la zone d'appui du talon, les éléments d'appui intérieur et

   <EMI ID=22.1>

   faces d'appui du gros orteil (5), pour le premier élément, et du

   <EMI ID=23.1>

   est prévu à l'emplacement d'appui (G) du cinquième orteil une partie de plus haute tandis que l'emplacement d'appui (5) du gros orteil ainsi que celui du calcanéum (4) sont disposés en creux.