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FEUILLES DESTINEES A ETRE APPLIQUEES EN PARTICULIERSUR DES MATERIAUX DIELECTRIQUES.
La présente invention oonoerne une installation pour la production de ouivre en feuilles destinées à être appliquées
en particulier sur des matériaux diélectriques.
Comme on le sait actuellement, les feuilles de cuivre qui sont appliquées sur des substrats en matière plastique, par exemple pour la réalisation de circuits imprimés et analogues, sont soumises à différents traitements visant aussi bien à augmenter l'adhésion entre la feuille de cuivre et le substrat qu'à empêcher la réaction catalitique intervenant par la suite entre le cuivre et le matériel diélectrique et en outre à empêcher la "pollution" de la matière plastique due au détachement du
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aptes à augmenter l'adhésion.
Afin d'empêcher l'action ca.talitique entre le ouivre et le
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ont toujours adopté la solution d'interposer une couche de matériau métallique compatible avec le cuivre comme par exemple l'étain, le zinc, l'or, l'argent, le nickel, le cadmium et analogues, en sorte qu'il n'y a pas contact direot entre cuivre et matière plastique, mais justement avec l'interposition de
la couche en matériau métallique. Pour la réalisation des feuilles de cuivre en question, on utilise actuellement des installations fort coûteuses et complexes comprenant plusieurs stations d'usinage aussi bien pour exécuter la conformation désirée de la surface
du cuivre que pour appliquer les couches superficielles précitées.
Par conséquent, la production est fortement lente, du fait qu'il est nécessaire de transférer la feuille de cuivre aux phases d'usinage suivantes qui ont lieu généralement dans des cuves d'électrolyse présentant des solutions électrolytiques différentes.
En outre, les installations du type connu sont très encombrantes et exigent, à cause de leur caractère fragmentaire, une série de contrôles.
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les inconvénients susdits en fournissant une installation pour la production de cuivre en feuilles conçue de façon à permettre la réalisation, en une seule électro-formation et en succession continue, de toutes les opérations nécessaires pour l'obtention des feuilles de cuivre désirées.
Un autre but de la présente invention est de fournir une installation dans laquelle toutes les opérations sont réalisables
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diminuer l'encombrement général de l'installation et en outre de simplifier remarquablement les contrôles nécessaires dans l'installation.
Enfin, le dernier mais non le moindre but de la présente invention est de réaliser une installation de structure simple, n'exigeant pas un entretien particulier et permettant en outre d'augmenter la production horaire, ce qui se répercute naturellement de façon positive sur les coûts de production.
Ces buts et d'autres encore, qui apparaîtront mieux par la suite, sont réalisés par une installation pour la production de feuilles de cuivre destinées à être appliquées en particulier
sur des substrats en matière plastique, comprenant, à l'intérieur d'une première cuve électrolytique, un tapis sans fin en matériau oonduoteur électrique qui tourne continuellement et dont la partie inférieure est immergée dans la solution électrolytique., caractérisé en ce que la formation de la couche de cuivre électrolytique et
la modification structurale ultérieure de la couche superficielle de la feuille de cuivre ont lieu dans cette première cuve et dans une seule solution électrolytique.
D'autres caractéristiques et avantages apparaîtront plus clairement de la description d'une forme d'exécution préférée mais non exclusive d'une installation pour la production de . cuivre en feuilles à utiliser de préférence sur des substrats en matière plastique, qui est illustrée à titre indicatif mais non limitatif dans le dessin ci-joint où la figure unique représente de façon schématique une installation selon l'invention.
En se référant à la figure citée, l'installation pour la production de cuivre en feuilles selon l'invention comprend
une première cuve d'éleotrolyse 1 à l'intérieur de laquelle tourne un tapis sans fin 2, réalisé en matériau conducteur électrique.
Le tapis 2 est soutenu et entrainé par un rouleau fou 3 et par un rouleau moteur 4 qui par l'entremise d'une chaîne 4a est relié à un motoréduoteur 4b; en outre, le tapis 2 est réalisé
de préférence en acier inoxydable et sa surface extérieure est parfaitement lisse. Le tapis 2 présente sur ses bords un bord
en caoutchouc indiqué par 2b ayant pour fonction de maintenir
la surface intérieure du tapis sèche même pendant son passage
à l'intérieur de la solution électrolytique.
La partie inférieure 2a dudit tapis 2 passe à l'intérieur de la solution électrolytique qui est contenue dans la première cuve d'éleotrolyse 1.
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par rapport au sens d'enroulement dudit tapis 2 est prévue une première série de plaques situées en face de ladite partie inférieure 2a et qui sont parallèles entre elles et disposées transversalement par rapport au parcours dudit tapis 2.
Ces plaques 5 qui agissent en tant qu'anode, sont reliées au
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pale négatif de la source d'alimentation 6 est relié électriquement à la partie inférieure 2a du tapis 2.
En aval de cette première série de plaques 5 est prévue
une deuxième série de plaques qui ont alternativement une polarité invertie; plus précisément, au bout de la première
série de plaques 5 est prévue une première plaque 10 ayant une polarité invertie par rapport aux plaqua 5 et qui est reliée au pale négatif d'une deuxième source d'alimentation 11 dont le
polo positif est relié électriquement avec la partie inférieure 2a.
En aval de ladite première plaque 10 est prévue une
deuxième série de plaques 12 dont les polarités coïncident avec les plaques 5 de ladite première série et sont contraires par rapport à la polarité de la plaque 10 qui la précède; la
deuxième série de plaques 12 est reliée électriquement au polo
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négatif est relié électriquement avec la partie inférieure 2a
du tapis 2. En aval de la deuxième série de plaques 12 est
prévue une troisième plaque 14 dont la polarité ooincide avec
la première plaque 10 et est invertie par rapport à la deuxième série de plaques 12 et qui est reliée électriquement avec le
pôle négatif d'une quatrième source d'alimentation 15 dont le
pôle positif est relié électriquement avec la partie inférieure 2a.
En aval de la troisième plaque 14 est prévue une quatrième série de plaques 16 qui a la même polarité que la première série
de plaques et que la deuxième série de plaques 12 et qui est
reliée électriquement avec le pôle positif d'une oinquième source d'alimentation 17 ayant son polo négatif relié électriquement
avec la partie inférieure 2a. En aval de la première cuve d'électrolyse 1 est prévue une deuxième cuve d'électrolyse 20
qui a pour fonction d'appliquer sur la couche de cuivre formée
sur le tapis 2 une couche mince de matériau métallique chimiquement compatible avec le cuivre; cette couche métallique a une épaisseur très faible, de façon à ne pas modifier la conformation structurale prise par la couche de ouivre dans la phase d'électroformation dans la première cuve d'électrolyse 1.
Dans la seconde cuve d'éleotrolyse 20 sont prévues des
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d'une sixième source d'alimentation 22 laquelle présente son pôle négatif relié au rouleau cathodique 23 sur lequel s'enroule la couche de cuivre formée précédemment pour l'application de la couche métallique.
Il faut aussi ajouter qu'à l'intérieur des cuves d'éleotrolyse peuvent être présents des dispositifs d'agitation pour maintenir en mouvement la solution électrolytique. L'installation selon l'invention fonctionne de la façon suivante!
Au début, le tapis 2 qui s'immerge dans la cuve d'éleotrolyse 1, par suite du branchement électrique décrit plus haut, agit
en tant que support cathodique et est en conséquence bombardé
par une myriade de petits germes de cuivre; au fur et à mesure que le support cathodique continue son parcours en faoe de la première série de plaques 5, les germes augmentent en dimensions de façon à former une feuille de cuivre dont la surface présente des rugosités comparables à d'innombrables masses arrondies posées
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Lorsque le tapis arrive en face de la première plaque 10,
il se produit une inversion de polarité soudaine et brusque, en sorte que les germes de cuivre cessent brusquement leur croissance
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été décrit précédemment, arrivent en face de la deuxième série de plaques 12 où elles sont à nouveau bombardées par une autre myriade de germes en sorte qu'elles perdent leur aspeot lisse et arrondi pour assumer un aspeot pointillé ou ramifié.
En agissant de façon appropriée sur les densités de courants moyennant agitation plus ou moins forte de la solution éleotrolytique, il est possible d'obtenir directement dans la phase
de production du cuivre toutes les structures superficielles désirées.
La couche de cuivre ainsi traitée est pratiquement déjà prête pour le traitement; toutefois, si l'on désire modifier encore la structure superficielle du cuivre, il est possible de soumettre à nouveau la couche de cuivre à une brusque interruption de croissance lors de son passage en face de la troisième plaque
14 et à un bombardement ultérieur de germes en face de la quatrième série de plaques 16.
A ce moment, une fois que l'on a obtenu la feuille de cuivre ayant la structure désirée, afin de mieux présenter ou préserver la couche de cuivre, celle-ci est introduite dans une seconde cuve d'électrolyse 20 où s'applique à la couche de cuivre une mince couche de métal constituée de niokel, de zinc, de cadmium ou d'autres matériaux équivalents en utilisant les opérations normales connues de la technique galvanique.
Le revêtement au zinc, au nickel, au cadmium et analogues est de préférence réalisé de façon à obtenir une couche très mince pour éviter d'altérer la structure et la conformation du cuivre sous-jacent obtenu par le bombardement des germes dans la première cuve d'électrolyse.
Sur la base de la description, on voit comment l'invention atteint les buts proposés. Il est souligné en particulier que l'installation fonctionne de façon continue et n'exige pas, comme dans les installations de type connu, de transporter la bobine
de cuivre préfabriquée dans un autre type d'installation pour les traitements suivants, ce qui entraînerait une majoration des frais de main d'oeuvre et d'installation.
Un autre avantage important réalisé par l'installation selon l'invention est représenté par le fait qu'elle produit la feuille de cuivre ayant) selon l'emploi auquel elle sera destinée, la
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formation du cuivre et dans le même bain.
Il est également à souligner qu'il est possible d'obtenir
la structure superficielle désirée pendant la même phase d'électroformation de la feuille de cuivre, sans devoir recourir à des bains ultérieurs qui déposent d'abord électriquement une couche
de cuivre ou d'oxyde de cuivre en poudre non intègre ou "malsain"
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obligée. Je l'encapsuler à l'aide d'une couche de cuivre intègre
ou "sain".
Il faut aussi ajouter que la pellicule de cuivre électroformée ayant la structure désirée, avant d'être enroulée sur l'enrouleur indiqué schématiquement par 40 dans le dessin ci-joint, peut être amené à passer dans un second bain galvanique différent du premier où elle peut être revêtue galvaniquem ent d'une couche de protection de tout autre métal compatible avec le cuivre, en
suivant les instructions normales décrites dans tous les manuels
de galvanoplastie relatifs aux revêtements galvaniques de protection.
Une autre caractéristique importante de l'installation selon l'invention réside dans le fait que toutes les sources d'alimentation citées, qui sont constituées par des redresseurs, sont phasées de manière adéquate entre elles de façon à être reliées simultanément
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tapis 2.
L'invention ainsi conçue est susceptible de subir de nombreuses modifications et variantes rentrant toutes dans le domaine de l'idée inventive.
En outre, tous les détails pourront être remplacés par d'autres éléments techniquement équivalents.
En pratique, les matériaux employés ainsi que les dimensions et les formes pourront être quelconques, selon les exigences.
REVENDICATIONS
1) Installation pour la production de cuivre en feuilles destinées à être appliquées en particulier sur des substrats en matière plastique, comprenant à l'intérieur d'une première cuve d'électrolyse un tapis sans fin en matériau conducteur électrique tournant continuellement et présentant sa partie inférieure immergée dans la solution éleotrolytique, caractérisé en ce que
la formation de la couche de cuivre électroly�ique et simultanément la'formation structurale désirée de la couche superficielle
de la feuille de cuivre ont lieu dans cette première cuve et dans une seule solution électrolytique.
2) installation pour la production de ouivre en feuilles