BRPI0609507A2 - dispositivo de exposição - Google Patents
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- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 53
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 39
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims abstract description 24
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims abstract description 24
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims abstract description 19
- 238000013499 data model Methods 0.000 claims description 27
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 23
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 15
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims description 13
- 239000011152 fibreglass Substances 0.000 claims description 10
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 claims description 10
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 8
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 claims 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 abstract description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 13
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 11
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 6
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 5
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 5
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 2
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000110 cooling liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 1
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
- G03F7/2057—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using an addressed light valve, e.g. a liquid crystal device
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
- G03F7/2053—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a laser
- G03F7/2055—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a laser for the production of printing plates; Exposure of liquid photohardening compositions
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Abstract
DISPOSITIVO DE EXPOSIçãO A invenção refere-se a um dispositivo de exposição (1) com uma fonte de luz (2), um modulador de luz (4), bem como uma unidade de acoplamento de luz (3). Para otimizar, de maneira simples e económica, a intensidade de radiação na faixa espectral do material (6) a ser exposto, propõe-se que a fonte de luz (2) abranja ao menos um diodo a laser (7).
Description
"Dispositivo de Exposição"Relatório Descritivo
A presente invenção refere-se a dispositivo de exposição comuma fonte de luz, um modulador de luz, bem como uma unidade deacoplamento de luz.
Um dispositivo de exposição segundo o gênero é descrito, porexemplo, na DE 698 22 004/EP 1 141 780. Esse dispositivo de exposi-ção conhecido abrange uma lâmpada com uma disposição de conden-sador, um modulador de luz consistindo em uma disposição de micro-espelho refletora bem como uma óptica apropriada, para conduzir a luzemitida pela lâmpada através do modulador de luz para o meio a serexposto. Como lâmpada é empregada uma lâmpada de arco ou lâmpa-da incandescente, que têm um ponto luminoso oval. Do ponto lumino-so oval parte radiação divergente, que é ulteriormente processada poruma óptica condensadora.
Desvantajoso no dispositivo de exposição anteriormente co-nhecido é o fato de que a lâmpada de descarga de gás selecionada oulâmpada incandescente emite luz por um amplo espectro de freqüência.Por outro lado, por exemplo, em dispositivos de exposição UV, apenasuma pequena faixa de freqüência na faixa ultravioleta a violeta, portan-to cerca de 350 nm até 450 nm, é útil para a exposição propriamentedita. Por esse motivo, uma grande parte da radiação emitida pelalâmpada para o sistema de exposição deve ser considerada comopotência de perda. Por conseguinte, disso resulta toda uma série deproblemas, como por exemplo, a exigência de uma refrigeração para adescarga da potência térmica bem como uma tomada de potênciadesnecessariamente elevada em comparação com a potência útil e altoscustos operacionais a isso vinculados.
Outra desvantagem do dispositivo de exposição anteriormenteconhecido é, ademais, a mencionada divergência da radiação emitidapela fonte de luz. Pela divergência da luz emitida resulta a circunstân-cia de que também a luz na faixa espectral em princípio útil, portantocom exposição UV de 350 nm a 450 nm, é útil apenas em parte para aoperação de exposição propriamente dita. Isso se deve ao fato de que afonte de luz, devido ao foco luminoso oval, relativamente grande, e àmencionada divergência, apresenta maior amplitude do que os compo-nentes usuais do dispositivo de exposição. Por isso nem toda a luz dafonte de luz pode ser acoplada ao sistema. Mas, com isso se eleva, nototal, a potência de perda do sistema. Além disso, freqüentementeocorrem problemas devido à luz dispersa não acoplável ao sistema deexposição.
Também da DE 195 45 821 Al é conhecido um dispositivo pa-ra exposição de placas de impressão com uma cabeça de exposição,uma fonte de luz, uma unidade de produção de imagem bem como umaóptica de projeção. Nesse dispositivo de exposição, é igualmenteprevisto o emprego de uma lâmpada de halogeneto de metal. Estaapresenta as desvantagens acima descritas.
Para contornar os problemas mencionados, segundo o estadoatual da técnica se poderia conceber concretizar o dispositivo de exposi-ção com um laser individual, por exemplo, um laser a gás ou sólido.Com isso, de fato, de um lado, poder-se-ia restringir a emissão a umaestreita faixa de freqüência útil e, de outro lado, se alcançaria umadivergência muito pequena da luz irradiada.
Mas, no emprego de um laser individual, é desvantajoso o fatode que o mesmo, via de regra, é de constituição muito custosa. Alémdisso, o problema quando do emprego de um laser individual é que ocomprimento de coerência da luz emitida é muito longa, o que podeconduzir a indesejados fenômenos de difração no dispositivo de exposi-ção, e especialmente no local do meio a ser exposto. A difração, porsua vez, pode conduzir, desvantajosamente, a indesejadas heterogenei-dades na iluminação do modulador de luz. Com o emprego de umlaser individual para o dispositivo de exposição deve, portanto, seradicionalmente garantido quando da projeção que não ocorram interfe-rências. Isso, via de regra, tem efeito negativo sobre os custos.
A presente invenção tem, portanto, como objetivo indicar umdispositivo de exposição do tipo mencionado no início, em que a inten-sidade de irradiação na faixa espectral necessária para a exposição domaterial a ser exposto seja otimizada de maneira simples e barata.
Esse objetivo é alcançado, de acordo com a invenção, pelo fatode que, em um dispositivo de exposição segundo o gênero, a fonte de luzabrange um diodo de laser. Diodos a laser estão, há muito tempo,disponíveis a baixo custo com uma característica de radiação por uma15 ampla faixa de comprimento de onda. Especialmente para a exposiçãoestruturada de material sensível a UV ou violeta, portanto de materiaissensíveis na faixa de 350 nm a 450 nm, estão de pronto disponíveis nomercado diodos a laser com uma característica de radiação precisamen-te na faixa de comprimento de onda de 350 nm a 450 nm.
Os diodos a laser podem, de acordo com a invenção, ser "sin-gle-modiçf ou "multi-modi^. A luz de um diodo de laser é, de um lado,restringida de modo desejado a um desejado estreito intervalo defreqüência; de outro lado, pelo ressonador integrado é assegurada avantagem de que a luz irradiada seja fortemente enfeixada, portantoapresente pequena divergência, finalmente, no entanto, seja o compri-mento de coerência da luz irradiada pelo diodo de laser segundo ainvenção consideravelmente menor do que é esse o caso em lasers,como, por exemplo, lasers a gás ou sólidos.
O pequeno comprimento de coerência dos diodos a laser deacordo com a invenção tem a grande vantagem de que dentro do dispo-sitivo de exposição de acordo com a invenção não surgem problemascom efeitos de difração indesejados, que, por sua vez, levariam a umailuminação heterogênea do modulador de luz.
Segundo uma configuração vantajosa do dispositivo de expo-sição de acordo com a invenção, o diodo de laser emite luz na faixa deaproximadamente 350 nm até cerca de 450 nm. Assim, vantajosamen-te, é possibilitada a exposição especialmente de placas de impressãooffset convencionais e violeta. D, vantajoo mesmo modo, vantajosa-mente, com o dispositivo de exposição segundo a invenção podem serexpostos estruturadamente crivos para serigrafia, placas de flexo-impressão, materiais de teste bem como placas de aço para a fabricaçãode padrões de estampagem. Além disso, há algum tempo, vantajosa-mente, estão disponíveis de modo relativamente conveniente diodos delaser nessa faixa de comprimento de onda.
Em outra configuração vantajosa do dispositivo de exposiçãode acordo com a invenção, a fonte de luz abrange um módulo de váriosdiodos de laser, de preferência vinte. Com isso, vantajosamente, aintensidade de iluminação disponível para a exposição na faixa decomprimento de onda relevante pode ser ainda mais elevada na medidaem que a luz do módulo abrangendo vários diodos de laser é adiciona-da. Isso é em princípio possível pois a amplitude de cada diodo delaser individual é consideravelmente menor do que a amplitude dosistema de exposição, que é dada pelo "display" e pela óptica de proje-ção. Por isso, mediante adição apropriada dos diodos de laser indivi-duais do módulo segundo a invenção toda a luz do módulo pode apre-sentar uma amplitude que sempre ainda é menor do que a amplitudedo sistema de exposição dado pelo "display" e pela ótica de projeção.Como resultando, portanto, vantajosamente, em princípio, a luz detodos os diodos de laser pertencentes ao módulo pode ser completamen-te integrada ao dispositivo de exposição. Em princípio, não há restri-ções físicas condicionadas pela amplitude.
Outra vantagem do emprego de um módulo consistindo emvários diodos de laser é uma maior medida de disponibilidade dainstalação, pois a falha de um diodo de laser individual possibilita, comprojeção apropriada do sistema, um prosseguimento da operação deexposição com o dispositivo de exposição de acordo com a invenção.
O emprego de vinte diodos de laser possibilita recorrer a com-ponentes disponíveis no mercado, e tem ser comprovado particularmen-te vantajoso na projeção do dispositivo de exposição de acordo com ainvenção.
Quando, segundo uma outra forma de configuração vantajosado dispositivo de exposição de acordo com a invenção, um fluxo de raiosde cada diodo de laser é geometricamente superposto na unidade deacoplamento de luz, a luz de vários diodos de laser individuais pode serempregada para iluminação de uma mesma unidade de modulador deluz. A intensidade de radiação do material a ser exposto é ainda maisotimizada dessa maneira.
Em uma forma de configuração vantajosa da invenção estáprevisto que a unidade de acoplamento de luz abranja fibras de vidroindividuais. O acoplamento de luz da luz emitida pelo diodo de laserem fibras de vidro individuais não é problemático, porque a radiação dodiodo de laser é emitida de uma faceta de saída muito pequena. Alémdisso, é vantajosamente possível sem problemas um transporte da luzacoplado ao modulador de luz e outros componentes do dispositivo deexposição de acordo com a invenção depois de efetuado o acoplamento.
Ocorre ainda maior homogeneização da luz acoplada no interior dasfibras de vidro individuais mediante reflexão múltipla nas interfaces dasfibras entre entrada e saída de fibra.
Em configuração da invenção está previsto que a cada diodode laser seja associada uma fibra de vidro individual separada. Com oemprego de vários diodos de laser, por exemplo, de um módulo dediodos de laser, as fibras de vidro individuais podem juntar-se demaneira conveniente, de modo que é obtida uma adição geométrica daradiação emitida pelos diodos de laser individuais. A luz de cada diodode laser individual é, ainda, homogeneamente misturada com a luz dosoutros diodos de laser mediante reflexão múltipla nas interfaces dasfibras entre entrada e saída de fibra. Assim, vantajosamente, obtém-seuma iluminação extremamente homogênea do modulador de luz dodispositivo de exposição de acordo com a invenção.
Quando, numa configuração especial da invenção, a fibra devidro individual apresenta um diâmetro de cerca de 125 μπι, obtém-seuma configuração especialmente favorável, que possibilita um acopla-mento quase isento de perda da luz do diodo de laser individual, sendoque as dimensões da unidade de acoplamento de luz podem ser manti-das, não obstante, vantajosamente pequenas.
Quando, noutra modalidade da invenção, as fibras de vidroindividuais são reunidas na unidade de acoplamento de luz para umfeixe de fibras, também vantajosamente é possível uma superposiçãogeométrica da emissão de luz de cada diodo de laser individual, demodo que a luz saindo na extremidade do feixe de fibras atua comouma fonte de luz única com a intensidade adicionada de cada diodo delaser individual.
Comprovou-se particularmente vantajoso, segundo a inven-ção, que o diâmetro externo do feixe de fibras importe em aproximada-mente 650 μπι.
Para aumentar ainda mais a intensidade de radiação do mate-rial fotossensível, segundo a invenção, a fonte de luz pode abrangervários módulos. Cada módulo consiste, então, por seu lado, em vários,por exemplo, em vinte, diodos de laser. Novamente é então vantajo-samente aproveitada a circunstância de que a amplitude de cada diodode laser individual é consideravelmente menor do que a amplitude dosistema de "display" e óptica de projeção. Com o emprego de fontes deluz convencionais, como por exemplo, lâmpadas de descarga de gás, asituação é precisamente o inverso, isto é, a amplitude da lâmpada dedescarga de gás é consideravelmente maior do que a amplitude dosistema de "display" e óptica de projeção. Em um dispositivo de exposi-ção com uma fonte de luz convencional, como uma lâmpada de descar-ga de gás, o emprego de várias fontes de luz para aumento da intensi-dade de radiação só seria possível em princípio de maneira restrita.Mas, esse problema é contornado na presente invenção, com grandevantagem, pelo emprego de diodos de laser.
Segundo uma variante de configuração alternativa vantajosado dispositivo de exposição de acordo com a invenção, a unidade deacoplamento de luz abrange uma barra de vidro integradora de luz.Barras de vidro integradoras de luz têm a vantagem de que, com seleçãoapropriada da seção transversal, por exemplo, com seleção de umaseção transversal retangular, é possível uma homogeneização muito boada luz acoplada na barra de vidro. Por exemplo, seria possível acoplar aluz de vários diodos de laser individuais segundo a invenção em umabarra de vidro com seção transversal retangular e de área média apro-priada.
Pelas operações de reflexão na interface interior da barra devidro para com o meio ambiente ocorre então, vantajosamente, umamisturação muito boa da luz dos diodos de laser individuais, de modoque na saída da barra de vidro é possível uma iluminação da unidadede modulador de luz com luz homogênea de alta intensidade espectral.
Novamente existe a possibilidade, segundo a invenção, de adi-cionar geometricamente a luz de várias fontes de luz individuais, graçasà propriedade dos diodos de laser individuais de apresentarem umaamplitude extremamente pequena. Simultaneamente, quando dasuperposição dos diodos de laser individuais devido ao comprimento decoerência relativamente curto tampouco é de se contar com efeitos dedifração perturbadores da homogeneidade.
Noutra configuração especial da invenção, a barra de vidro a-presenta uma seção transversal angular, de preferência retangular. Avantagem é que a seção transversal de barra retangular pode seradaptada geometricamente na saída a um modulador de luz retangular,por exemplo um DMDTM ("Digital Micromirror Device").
Segundo outra modalidade particularmente preferida do dis-positivo de exposição de acordo com a invenção, o fluxo de radiação éconfigurado variável. Com isso consegue-se, vantajosamente, que odispositivo de exposição possa ser adaptado pelo usuário para distintosmateriais ou aplicações. Por exemplo, determinadas aplicações reque-rem uma intensidade de exposição menor do que outras. No intercâm-bio com o tempo de exposição se obtém, graças à configuração variáveldo fluxo de radiação da fonte de luz, uma adaptação muito flexível dosparâmetros do processo.
Nesse contexto, comprovou-se conveniente que o fluxo de ra-diação do próprio diodo de laser seja configurado variável. Assim, podeser alcançada uma variação direta do fluxo de radiação da fonte de luzdo dispositivo de exposição de acordo com a invenção.
Pode, assim, ser obtida uma variação direta do fluxo de radia-ção da fonte de luz do dispositivo de exposição segundo a invenção. Avariação pode ser obtida essencialmente sem escalonamentos peloemprego de apropriadas fontes de corrente reguladas.
Em configuração alternativa da variante da invenção, a fontede luz é provida de meios para ligar e desligar separadamente diodos delaser individuais. Com emprego de um módulo de vários diodos delaser para a fonte de luz pode, dessa maneira, vantajosamente, comcorrente operacional constante para cada diodo de laser individual, serobtida uma variação do fluxo de radiação. O fluxo de radiação pode emprincípio ser variado em estágios de 100 % a 0 %, sendo que o númerodos estágios de grau alcançáveis é dado pelo número dos diodos delaser individuais dentro de um módulo. Em muitos casos da aplicaçãoé suficiente uma tal variabilidade escalonada e vantajosamente se podedispensar uma regulagem de corrente para a variação do fluxo deradiação.
O emprego da fonte de luz de acordo com a invenção é especi-almente vantajoso em um dispositivo de exposição com uma fonte deluz, um modulador de luz apresentando uma pluralidade de linhas decélulas moduladoras de luz, um dispositivo para projeção de modelos dedados sobre o modulador de luz, um dispositivo para projeção domodulador de luz sobre o material fotossensível, um dispositivo paraprodução de um movimento relativo entre o modulador de luz e omaterial fotossensível, sendo que o movimento relativo decorre essenci-almente perpendicular às linhas das células moduladoras de luz, bemcomo com um dispositivo para rolagem de um modelo de dados indica-do em uma linha dada do modulador de luz pelas diversas linhas domodulador de luz, sendo que a rolagem é efetuada de tal maneirasincronizada com o movimento relativo que uma projeção de um modelode dados no material fotossensível indicado no modulador de luz éessencialmente estacionária com relação ao material fotossensível, poisdevido à maior intensidade de luz os tempos de exposição podem serreduzidos.
Um dispositivo de exposição desse tipo é conhecido da EP 0095 4624.3 (corresponde a PCT/EP 00/07842). Ali é descrito umsistema, que é empregado especialmente em processos, em que sãonecessárias grandes quantidades de luz modulada na faixa azul eultravioleta, como, por exemplo, na exposição de placas de impressão,na exposição de circuitos impressos.
O princípio desses dispositivos de exposição operando pelo as-sim chamado processo uIntegrating Digital Screen Imagintf (IDSI) é que omaterial fotossensível é continuamente movido, enquanto que o conteú-do da imagem é rolado com igual velocidade em direção contrapostapelo modulador de luz. O conteúdo da imagem permanece assimestacionário sobre o material a ser exposto. O tempo de exposição decada ponto de imagem resulta então por integração de todas as exposi-ções individuais relativamente curtas da mesma célula de uma série. Otempo de exposição depende da velocidade do processo, do "duty cycle"do modulador de luz e do número das linhas. Com dada velocidade deprocesso e dado "duty cyclef, o tempo de exposição depende, além disso,do número das linhas. Quanto maior o número das linhas do modula-dor de luz, tanto mais longos são os tempos de exposição alcançáveis,na medida em que cada modelo de dados é movido ("rolado") da linhaem um lado externo do modulador de luz por toda a faixa de indicaçãodo modulador de luz até à linha externa contraposta à linha de partida.
Visando a otimização do processo, via de regra, é almejadauma minimização tão ampla quanto possível dos tempos de exposição.Para tanto, a fotossensibilidade do material fotossensível pode ser porexemplo aumentada. Nesse caso, seria em princípio possível aumentaro movimento relativo entre o modulador de luz e o material fotossensívelno dispositivo de exposição anteriormente conhecido. O tempo deexposição integrado por todas as linhas do modulador de luz para cadaponto de imagem se reduz então correspondentemente. A taxa derolagem deve então, naturalmente, ser aumentada em sincronia com omovimento relativo.
Os moduladores de luz correntes são dispositivos de microin-dicação, que são constituídos de uma matriz de moduladores de luzindividuais individualmente controláveis. Particularmente difundidossão então dispositivos de espelho digitais (DMDTM "Digital MicromirrorDevicé'), matrizes de cristal líquido (LCD) com arquitetura transmissivaou mesmo, há algum tempo, monitores de cristal líquido refletivos(LCOS).
Todos esses moduladores de luz correntes têm em comum ofato de que modulam a formação de imagem pontualmente. Especial-mente não contêm esses moduladores de luz um registro de desloca-mento, que possibilitasse transmitir adiante independentemente para arespectiva linha vizinha a formação de imagem uma vez transmitida aomodulador de luz ("deslocamento"). Assim, para concretização doprincípio de rolagem, o "display" completo deve ser respectivamente denovo totalmente descrito quando a unidade de exposição se move emuma linha de imagem relativamente ao material fotossensível. Portanto,informação de imagem para cada ponto de imagem da matriz de modu-lador de luz deve ser transmitida ao modulador de luz para cada estan-do de exposição individual do procedimento de rolagem.
Com isso, na prática, ocorrem taxas de transmissão de dadosmuito altas. Por exemplo, os dados a serem transmitidos podem atingira ordem de grandeza de 10 GBit/s. No entanto, por outro lado, asmatrizes de modulador de luz disponíveis são limitadas relativamente àstaxas de transmissão de dados a serem por elas recebidas. Por exem-plo, a taxa de transmissão de dados de uma matriz de modulador de luzpode ser limitada a 7,6 GBit/s.
Devido a isso, pode haver uma grande desvantagem dos dis-positivos de exposição conhecidos com relação aos tempos de exposiçãomínimos efetivamente alcançáveis. Na medida em que a taxa de rola-gem correspondente a uma máxima taxa de transmissão de dados àmatriz de modulador de luz conduz a tempos de exposição definidospelo número das linhas, que ultrapassa o tempo de exposição mínimorequerido pelo material fotossensível, o tempo de exposição mínimo,definido pelo material fotossensível, não pode ser efetivamente alcança-do pelo dispositivo de exposição.
O tempo de exposição mínimo, portanto, nesse caso, não é de-terminado pelo material fotossensível, mas sim, de maneira indesejada,fixado pelo dispositivo de exposição e, especialmente, pela limitação dasmáximas taxas de transmissão de dados à matriz de modulador de luz. O tempo de exposição de um dispositivo de exposição segundo o gêneroé dado ademais pelo produto do número das linhas do modulador deluz e da taxa de imagem recíproca da operação de rolagem.
Na US 5.672.464, é igualmente descrito um dispositivo de ex-posição do tipo segundo o gênero, igualmente baseado no princípio derolagem. Ali é tratado o caso de que o número disponível de linhas damatriz de modulador de luz ultrapassa o número das exposições se-qüenciais requeridas para a completa exposição do material fotossensí-vel. É proposto para esse caso não estender o processo de rolagem portodas as linhas do modulador de luz, na medida em que são desligadasou ligadas em preto linhas individuais. Mas isso deve ocorrer portransmissão de correspondentes modelos de dados no modulador deluz, sendo que também a informação de imagem para as linhas "pretas"deve ser transmitida. Por conseguinte, não ocorre uma redução daquantidade de dados a serem transmitidos.Assim, também o processo ou o dispositivo de exposição daUS 5.672.464 apresenta a limitação acima descrita do mínimo tempo deexposição tecnicamente realizável para cima. O mínimo tempo deexposição tecnicamente realizável igualmente não é dado, por exemplo,pela sensibilidade fotoquímica do material fotossensível, mas sim, aoinvés disso, de maneira indesejada, pela máxima taxa de transmissãode dados possível de informações de imagem ao modulador de luz.
As vantagens da fonte de luz de acordo com a invenção podemser melhor aproveitadas quando é previsto um dispositivo para desati-vação de um número predeterminável de linhas do modulador de luz e omodulador de luz é operável mediante alimentação essencialmenteapenas pelas linhas ativas com os modelos de dados. Com isso, vanta-josamente, o modulador de luz é efetivamente restrito a um númeroreduzido de linhas ativadas, ao passo que os pontos de imagem daslinhas desativadas são colocadas permanente no estado "desativado"("aus"), sem que, para isso, devam ser transmitidos dados ao moduladorde luz.
Devido ao fato de que adicionalmente o modulador de luz podeser operado de tal maneira que requer para a ligação das linhas aindaativadas apenas a informação de imagem, portanto os modelos dedados, para essas linhas ativadas, mas, não dados para as linhasdesativadas, com dadas taxas de transmissão de dados ao moduladorde luz pode ser ajustada uma taxa de rolagem maior.
Isso é obtido vantajosamente não, por exemplo, por um au-mento tecnicamente dispendioso da taxa de transmissão de dados aomodulador de luz, mas sim, antes, por uma redução da informação deimagem a ser transmitida. Mediante apropriada seleção do número daslinhas a serem desativadas se pode, vantajosamente, de maneirasimples, aproximar a máxima velocidade de exposição ao valor que édado pelo mínimo tempo de exposição requerido, em correspondência àspropriedades fotoquímicas do material fotossensível a ser exposto.
É especialmente vantajoso, em configuração especial do dis-positivo de exposição, de acordo com a invenção, que o dispositivo sejaexecutado para desativação de uma região contínua predeterminável delinhas. Em comparação com um esquema, segundo o qual, por exem-plo, todas as linhas ímpares ou todas as linhas pares são desativadas,com a desativação segundo a invenção de regiões contínuas de linhaspode ser obtida, vantajosamente, uma otimização da iluminação dessaregião de linhas ativa. Além disso, via de regra, para a operação deexposição é vantajoso que a exposição se dê continuamente na peça enão com linhas desativadas inseridas intermediariamente em corres-pondência a interrupções.
Uma configuração vantajosa, especialmente flexível, do dispo-sitivo de exposição de acordo com a invenção é obtido quando a regiãodas linhas desativadas é executada deslocável. Com isso, inclusive,pode ser aumentada a vida útil da matriz de modulador de luz, namedida em que se desloca a região das linhas ativas para uma região delinhas do modulador de luz, em que não falharam ou falharam tãopoucos pontos de imagem quanto possível induzidos pela radiação.Como, segundo a invenção, não é necessário usar simultaneamentetodas as linhas do modulador de luz, segundo a invenção, portanto,mediante deslocamento das linhas a serem desativadas para aquelaslinhas que contêm pontos de imagem falhos induzidos pela radiação, omodulador de luz pode ser ainda usado para a qualidade da exposiçãosem restrição.
Noutra configuração; do dispositivo de exposição de acordocom a invenção, estão previstos meios para a focalização da fonte de luzessencialmente nas linhas ativas do modulador de luz. Pode ser assimobtido um encurtamento do tempo de exposição, pois é aumentada adensidade de radiação de luz incidindo sobre as linhas ativas. Como,pelo contrário, com desativação de algumas linhas do modulador de luz,sem a focalização de acordo com a invenção da fonte de luz sobre aslinhas ativas, a fração da radiação de luz incidente sobre as linhasdesativadas se perde, segundo essa variante de acordo com a invenção,toda a potência de luz da fonte de luz é exclusivamente empregada parailuminação das linhas do modulador de luz ativadas, efetivamenteusadas.
Para garantir que a região iluminada do modulador de luzsempre coincida com a região de linhas ativada do modulador de luz,especialmente também para o caso de que a região das linhas ativas domodulador de luz varie, segundo uma configuração especial da invençãoé vantajoso que meios para focalização sejam executados variáveisrelativamente a uma região focai.
Segundo uma variante particularmente conveniente da inven-ção, a fonte de luz apresenta uma amplitude menor do que uma unida-de formada do modulador de luz e do dispositivo para projeção domodulador de luz em material fotossensível. É, assim, garantido que,com focalização da fonte de luz na região das linhas ativas do modula-dor de luz, apesar do aumento da divergência dos raios, inevitavelmenteassociada a isso por motivos ópticos de projeção, não obstante a radia-ção emitida pela fonte de luz está totalmente disponível para a exposi-ção do material fotossensível. Não há, nesse caso, qualquer perda deradiação de luz utilizável para a exposição, condicionada por limitaçõesna abertura numérica dos componentes ópticos do dispositivo deexposição conectado em seguida.
A invenção será descrita a título de exemplo em uma forma deexecução preferida com referência a um desenho, sendo que das Figu-ras do desenho podem ser depreendidos outros detalhes vantajosos.
As partes funcionalmente iguais são, então, providas com osmesmos números de referência.
As Figuras do desenho mostram especificamente:
Figura 1 - representação esquemática da estrutura totalda forma de execução preferida do dispositivo de exposição de acordocom a invenção,
Figura 2 - representação esquemática detalhada da fon-te de luz e da unidade de acoplamento de luz do dispositivo de exposi-ção de acordo com a invenção da figura 1,
Figura 3 - representação esquemática da trajetória deraio na cabeça de exposição,
Figura 4 - representação esquemática do dispositivo deexposição com fonte de luz estacionária,
Figura 5 - uma representação esquemática do dispositi-vo de exposição total segundo a invenção,
Figura 6 - uma representação esquemática do funcio-namento em princípio de um dispositivo de exposição convencionalsegundo o estado atual da técnica,
Figura 7 - uma representação esquemática do princípiode funcionamento do dispositivo de exposição de acordo com a invençãoe
Figura 8 - uma representação esquemática do princípiode funcionamento de uma outra forma de execução do dispositivo deexposição de acordo com a invenção.
Na Figura 1, está esquematicamente representado um dis-positivo de exposição 1 de acordo com a invenção. O dispositivo deexposição 1 consiste numa fonte de luz 2, uma unidade de acoplamentode luz 3, um modulador de luz 4 bem como uma óptica de projeção 5.Além disso, na Figura 1, pode-se ver um material 6 a ser exposto. Afonte de luz 2 é formada de uma linha de ao todo vinte diodos de laser 7individuais. Cada diodo de laser 7 emite luz na faixa de comprimentode onda de cerca de 400 a 410 nm. A potência de radiação óptica decada diodo de laser 7 importa em cerca de 60 mWatt. A luz de cadadiodo de laser 7 individual é acoplada na unidade de acoplamento deluz 3. A unidade de acoplamento de luz 3 consiste ao todo em vintefibras de vidro individuais 8. Cada fibra de vidro individual 8 estáprecisamente associada a um diodo de laser 7, de modo que a luz decada diodo de laser 7 é acoplada em respectivamente uma fibra de vidroindividual 8. As fibras de vidro individuais 8 se juntam e são reunidasna entrada do modulador de luz 4 para um feixe de fibras 9. Com ofeixe de fibras 9 é iluminado o modulador de luz 4. Na saída do feixe defibras 9 luz de cada um dos vinte diodos de laser 7 individuais incidesobre o modulador de luz 4. O diâmetro de cada fibra de vidro indivi-dual 8 importa em 125 μπι. O diâmetro externo total do feixe de fibras9 importa em 650 μπι. A luz 10 modulada pelo modulador de luz 4 édesviado pela óptica de projeção 5 para o material 6 a ser exposto.
A amplitude dos diodos de laser 7 individuais, muito pequenaem comparação com a amplitude do sistema total do modulador de luz4 e da óptica de projeção 5, faz com que a luz saindo na saída do feixede fibras tenha, por seu lado, uma amplitude que nem sempre é menordo que a amplitude do sistema de modulador de luz 4 e óptica deprojeção 5. Assim, teoricamente, é possível um acoplamento isento deperdas da luz de todos os vinte diodos de laser no dispositivo de exposi-ção 1 de acordo com a invenção.
A Figura 2 mostra alguns detalhes da unidade de acordo coma invenção de diodos de laser 7 e unidade de acoplamento de luz 3.Como se pode ver, a fonte de luz 2 abrange ao todo vinte diodos de laser7. Os diodos de laser 7 são reunidos para um módulo 11 consistindoem vinte diodos de laser individuais 7. Na saída do módulo lia cadadiodo de laser 7 está associada uma fibra de vidro individual 8. As aotodo vinte fibras de vidro individuais 8 são reunidas para um feixe defibras 9. O feixe de fibras 9 é guiado através da caixa externa 12 daunidade de fonte de luz 2 e unidade de acoplamento de luz 3 e ali ligadocom um conector FC ("Fiber ChanneF') 13.
O módulo 11, que reúne os vinte diodos de laser 7, está dis-posto sobre uma placa de refrigeração 14. A placa de refrigeração 14está ligada nas extremidades respectivamente com um tubo de refrige-ração 15. No tubo de refrigeração 15, pode ser alimentado e circuladolíquido de refrigeração na tubuladura de conexão 16.
A fonte de luz 3 abrange ainda a unidade de controle 17 paraos vinte diodos de laser 7. A unidade de controle 17 da fonte de luz 2 ésuprida com energia por um conector 18 do formato Dsub. A unidadede controle 7 está ligada com um corpo de refrigeração 19 de modotermicamente condutor. O corpo de refrigeração 19, por seu lado, estáligado de modo termicamente condutor com os tubos de refrigeração 15.
Na saída do conector FC 13 é emitida a emissão total dos vintediodos de laser individuais 7 do módulo 11 como radiação total 20. Aradiação total 20 apresenta uma amplitude, que é menor do que aamplitude da unidade de modulador de luz 4 e óptica de projeção 5.
Não há, assim, restrições de princípio com relação à possibilidade deacoplamento da radiação total 20 no modulador de luz 4 e óptica deprojeção 5. Assim, a parte essencial da radiação total 20 pode serdirigida ao material 6 a ser exposto.
Em operação da fonte de luz 2, através da tubuladura de co-nexão 16 líquido de refrigeração é conduzido pelo tubo de refrigeração15. O líquido de refrigeração circulando no tubo de refrigeração descar-rega então através do corpo de refrigeração 19 calor da unidade decontrole 17 do diodo de laser 7. Além disso, o líquido de refrigeração notubo de refrigeração 15 descarrega calor do módulo 11, que consiste dosvinte diodos de laser 7, através da placa de refrigeração 14. No total, ocalor de perda descarregado em comparação com a radiação total 20emitida, útil, segundo a invenção, é consideravelmente menor do que éo caso em dispositivos de exposição convencionais, que empregam comofonte de luz uma lâmpada de descarga de gás ou lâmpada incandescen-te com amplo espectro de emissão.
Com isso, segundo a invenção, propõe-se um dispositivo deexposição com o qual é otimizada, de modo relativamente simples ebarato, a intensidade de radiação de material 6 sensível a UV. Napreparação da óptica de projeção 5 não devem ser considerados emgeral efeitos de difração, pois o comprimento de coerência dos diodos delaser 7 é comparativamente curto. Uma homogeneização da luz emitidapelos diodos de laser 7 individuais é efetuada por múltipla reflexãodentro das fibras de vidro individuais 8 do feixe de fibras 9.
Na Figura 3, vê-se a trajetória de raio prevista na cabeça deexposição 38. A luz aduzida à cabeça de exposição móvel pelo feixe defibras 9 ou pelo condutor de ondas de luz 37 é inicialmente acoplada àbarra de integrador 21. A barra de integrador 21 serve à homogeneiza-ção da luz e, por isso, também é chamada de barra mista integradora.Também podem ser empregados assim chamados condutores ocos outúneis de luz, em que a luz sobre uma multiplicidade de reflexões. A luzdeixa, então, a barra de integrador 21 pela lente de integrador 36 e aobjetiva 35, sendo o raio ampliado. O espelho 34 deflete então o raio nadireção do modulador de luz. Atravessa assim duplamente a lente decampo 33 para então incidir sobre o material 25 fotossensível por meioda óptica de projeção 29. A óptica de projeção 29 forma a imagem domodulador de luz 4 no plano do material 25 fotossensível.
A Figura 4 mostra a estrutura possível do dispositivo de expo-sição de acordo com a invenção. A fonte de luz 2 consiste então emvários módulos 11, que são todos refrigerados através do afluxo de águade refrigeração 39 e do escoamento de água de refrigeração 40. Osfeixes de fibra 9 saindo dos módulos 11 são acoplados em um condutorde ondas de luz 37, que aduz a luz à cabeça de exposição 28. A cabeçade exposição 38 se move em dois eixos 42 ortogonalmente dispostos. Ocondutor de ondas de luz 37 deve acompanhar correspondentementeesse movimento. O material 25 fotossensível assenta sobre o leito demáquina 41. Pela disposição externa da fonte de luz a massa da cabeçade exposição 38 pode ser vantajosamente reduzida, de modo que odispositivo apresenta uma dinâmica particularmente boa. Com empre-go de um laser de fibra ou de um laser de disco, em determinados casostambém se pode dispensar a refrigeração a água. Em tais casos, podeser vantajoso dispor a fonte de luz 2 também na cabeça de exposição.
Na Figura 5, está esquematicamente mostrado um dispositivode exposição 1. Uma fonte de luz 2 é projetada com emprego de umaóptica de iluminação 23 e um modulador de luz 4. A posição do mate-rial 25 fotossensível relativamente ao modulador de luz 4 é variada porum dispositivo de posicionamento 26. O movimento relativo é efetuadoperpendicularmente às linhas do modulador de luz 4. Modelos dedados são transmitidos com emprego de um circuito propulsor 27 àprimeira coluna com células 28 do modulador de luz. As linhas domodulador de luz 4 estendem-se, na representação esquemática, demodo perpendicular ao plano do desenho.
Importante, quando da transmissão do modelo de dados àprimeira coluna com células 28 do modulador de luz 4, é a sincroniza-ção da transmissão de modelo de dados com o movimento do materialfotossensível. O modelo de dados transmitido à primeira linha édeslocado em sincronia com o movimento à próxima linha, de modo queo modelo de dados a ser transmitido ao material 25 fotossensívelpermanece estacionário sobre o mesmo.
O modulador de luz 4 consiste em várias linhas de células 28.
Estas se estendem perpendicularmente ao plano do desenho nessarepresentação esquemática. Cada célula 28 na representação esquemá-tica corresponde assim a uma linha em vista do alto.
O modelo de dados a ser transmitido ao modulador de luz 4consiste em combinações de células de modulador de luz 28 ligadas 28ae desligadas 28b. Sendo as células 28 ligadas, a luz sobre elas inciden-tes é defletida para o material 25 fotossensível por uma segunda ópticade projeção 29. A luz, que incide sobre células 28b desligadas, édefletida para longe do material 25 fotossensível. Até esse ponto, odispositivo de exposição 1 descrito corresponde ao estado atual datécnica.
Além disso, contudo, o presente dispositivo de exposição 1, deacordo com a invenção, apresenta um dispositivo 30 para desativaçãode um determinado número selecionável de linhas do modulador de luz.
Com isso o número das células 28, que deve ser alimentado pelocircuito propulsor 27 com informação de imagem ou informação demodelo de dados, é restrito ao número das linhas do modulador de luz4 ativadas restantes.
Na representação esquemática, as linhas desativadas são de-signadas com o número de referência 31 e não estão representadascheias. Para distinção das linhas 31 desativadas, as células de modu-lador de luz 28b desligadas estão representadas sombreadas na repre-sentação esquemática e as células de modulador de luz 28a ligadasestão representadas cheias na representação esquemática.Para as células de modulador de luz 28a ligadas e as célulasde modulador de luz 28b desligadas, quando da operação de rolagem,respectivamente através do circuito propulsor 27 é transmitida ainformação de modelo de dados de se a respectiva célula de moduladorde luz 28 deva ser ligada ou desligada. Por outro lado, para as linhas31 desativadas por meio do dispositivo 30 para a inativação de linhasnão precisa haver uma transmissão de modelo de dados pelo circuitopropulsor 27. A quantidade de dados a ser transmitida pelo circuitopropulsor 27 ao modulador de luz 4 assim é reduzida da informação deimagem, não mais a ser transmitida segundo a invenção, para as linhas31 desativas. A velocidade de rolagem alcançável é correspondentemen-te aumentada.
Na operação normal e conhecida do estado atual da técnica,um modelo de dados inicialmente é colocado pelo circuito propulsor 27por exemplo na linha contendo a célula de modulador de luz 28a ligadae, em seguida, o modelo de dados dessa linha é deslocada para a linhacontígua. O deslocamento se efetua na medida em que é transmitidauma imagem completamente nova ao modulador de luz 4, em que alinha está correspondentemente deslocada. Devido ao fato de que essedeslocamento do modelo de dados de linha para linha se dá paralela-mente e em sincronia com o movimento relativo do material 25 fotos-sensível, que é produzido pelo dispositivo de posicionamento 26, omodelo de dados permanece então estacionário sobre o material 25fotossensível. A duração da exposição do material 25 fotossensívelresulta do número das células de modulador de luz ativas 28a, 28b e dataxa de tempo de rolagem, portanto do tempo de permanência de ummodelo de dados individual em uma linha.
Na Figura 5, pode-se ver ainda que a fonte de luz 2 iluminaatravés da óptica de iluminação 3 apenas as células de modulador deluz 28a, 28b, que estão, em princípio, ativas, isto é, para as quaisatravés do circuito propulsor 7 são transmitidas informações de modelode dados ao modulador de luz 4. A fonte de luz 2, pelo contrário, nãoilumina as linhas 31 desativadas. Assim, toda a intensidade da fontede luz 2 está disponível para iluminação das células de modulador deluz 28a, 28b ativas.
Na Figura 6, está representada, para ilustração do princípioque serve de base à presente invenção, para comparação, a situação emum dispositivo de exposição convencional segundo o estado atual datécnica.
Podem ser vistas esquematicamente a fonte de luz 2 e a ópticade iluminação 23. Além disso, se pode ver o modulador de luz 4. Pelosombreado se pode ver no modulador de luz 4 a região ativa 32. NaFigura 6 se vê que a região 32 ativa é idêntica à região total do modula-dor de luz 4. Portanto, todas as linhas do modulador de luz 4 estãoativas.
Além disso, pode-se ver que pela fonte de luz 2 e pela ópticade projeção 23 é completamente iluminada toda a região do moduladorde luz 4, que é idêntica à região 32 ativa do modulador de luz 4.
Para a operação de rolagem, para cada etapa de exposição oucada etapa de rolagem é transmitida a completa informação de modelode dados para todas as linhas do modulador de luz 4. Pela grandequantidade de dados a ser transmitida, desvantajosamente, a máximavelocidade de exposição pode estar limitada pela taxa de transmissão dedados ao máximo admitida pelo modulador de luz 4, de modo que, sobdeterminadas circunstâncias, é amplamente ultrapassado o mínimotempo de exposição requerido, como resulta das propriedades fotoquí-micas do material 25 a ser exposto. Isso tem a grande desvantagem deque a velocidade de exposição fica nitidamente atrás dos limites foto-químicos.
Com referência à Figura 7, é explicado o princípio de funcio-namento do dispositivo de exposição segundo a presente invenção.Novamente, esquematicamente, se pode ver a fonte de luz 2 e a ópticade iluminação 23. No modulador de luz 4, pode-se agora ver que umaparte de toda a área de display consiste nas linhas 31 inativas. A região32 ativa do modulador de luz 4 com as linhas ativas abrange agoraapenas a região superior do modulador de luz 4. Pela fonte de luz 2 epela óptica de iluminação 23 está ainda iluminada a completa região do'modulador de luz, portanto tanto as linhas 11 inativas como também aregião 32 ativa. A informação de modelo de dados a ser transmitidaatravés do circuito propulsor 7 ao modulador de luz 4 é nitidamentereduzida em comparação com a situação na Figura 2, pois mais ne-nhuma informação precisa ser transmitida para as linhas 31 inativas.Assim, com grande vantagem, pode ser obtida uma taxa de rolagemessencialmente maior, pois a informação de modelo de dados, que deveser transmitida por etapa de exposição ou etapa parcial de rolagem aomodulador de luz 4, é nitidamente reduzida em comparação com asituação representada na Figura 6, que corresponde ao estado atual datécnica.
Na Figura 8 está, finalmente, representado inicialmente umestado comparável com a situação na Figura 7. Novamente, de toda aárea do modulador de luz 4 estão as linhas 31 inativas de tal maneiradesativadas que através do circuito propulsor 27 não precisa sertransmitida uma informação de modelo de dados ao modulador de luz4. Apenas para as linhas da região 32 ativa do modulador de luz 4ocorre, através do circuito propulsor 7, uma transmissão de informaçãode modelo de dados.
À diferença da situação representada na Figura 7, no entanto,pela fonte de luz 2 e pela óptica de iluminação 3 é iluminada apenas aregião 32 ativa do modulador de luz 4. A região iluminada do modula-dor de luz 4 coincide, assim, essencialmente com a região 32 ativa domodulador de luz 4.
Em comparação com a estrutura da Figura 7 é, assim, obtidaa vantagem adicional de que toda a radiação emitida pela fonte de luz 2incide sobre a região 32 ativa e, com isso, está disponível para a exposi-ção do material 25 fotossensível. Por outro lado, a radiação disponívelpara a exposição do material 25 fotossensível na forma de execução dainvenção representada na Figura 7 é reduzida da fração da não-radiação da fonte de luz 2 incidente sobre as linhas 31 inativas.
O funcionamento representado na Figura 8 é, assim, preferi-do, pois, devido à elevada densidade de radiação e à informação dedados a ser transmitida ao modulador de luz 4, podem ser alcançadosótimos tempos de exposição.
Para a fonte de luz 2, é especialmente apropriado o empregode diodos de laser ou de um módulo consistindo em vários diodos delaser individuais.
A região 32 ativa, representada nas Figuras 6, 7 e 8, pode, a-lém disso, ser deslocada com auxílio do dispositivo para desativação delinhas na área total do modulador de luz 4. Por exemplo, é possíveldispor as linhas 31 não ativadas tanto acima como também abaixo daregião 32 ativa.
Pela possibilidade do deslocamento da região 32 ativa pode serobtido um envelhecimento uniforme das células 8 individuais do modu-lador de luz 4. Por exemplo, convenientemente, as linhas 31 inativaspodem ser colocadas naquelas linhas em que se encontram células demodulador de luz 28 que contenham pontos de imagem falhos induzi-dos por radiação. A vida útil do dispositivo de exposição pode, dessamaneira, ser prolongada em comparação com os dispositivos de exposi-ção convencionais.
É indicado, assim, um dispositivo para exposição de materialfotossensível, especialmente placas de impressão offset, crivos paraserigrafia, placas de impressão flexo, materiais de teste, placas de açopara produção de modelos estampados bem como papéis fotográficos,em que por uma habilidosa redução da quantidade de dados a sertransmitida ao modulador de luz com determinada taxa de transmissãode dados ao modulador de luz 4 é obtida uma velocidade de exposiçãoessencialmente maior.
Pelo emprego de uma óptica de focalização em combinaçãocom uma fonte de luz com amplitude bem menor do que a amplitude dosistema global pode, além disso, ser conseguido que a plena emissão deluz da fonte de luz esteja inalteradamente disponível para a operação deexposição do material fotossensível.Lista de Referências
1 dispositivo de exposição
2 fonte de luz
3 unidade de acoplamento de luz
4 modulador de luz
5 óptica de projeção
6 material a ser exposto
7 diodos de laser
8 fibra de vidro individual
9 feixe de fibras
10 luz modulada
11 módulo
12 caixa externa
13 conector FC
14 placa de refrigeração
15 tubo de refrigeração
16 tubuladura de conexão
17 unidade de controle
18 conector Dsub
19 corpo de refrigeração
20 radiação total
21 barra de integrador
23 óptica de iluminação
25 material fotossensível
26 dispositivo de posicionamento
27 circuito propulsor
28 célula de modulador de luz
28a célula de modulador de luz (ligada)
28b célula de modulador de luz (desligada)
29 óptica de projeção30 dispositivo para desativação de linhas
31 linhas inativas
32 região ativa
33 lente de campo
34 espelho
35 objetiva
36 lente de integrador
37 condutor de ondas luminosas
38 cabeça de exposição
39 afluxo de água de refrigeração
40 escoamento de água de refrigeração
41 leito de máquina
42 eixos
Claims (18)
1. - Dispositivo de Exposição, (1), com uma fonte de luz (2), um modu-lador de luz (4) que apresenta uma pluralidade de linhas de células (28)moduladoras de luz, um dispositivo (27) para projeção de modelos dedados sobre o modulador de luz (4), um dispositivo (29) para projeçãodo modulador de luz (4) em material (25) fotossensível, um dispositivo(26) para produção de um movimento relativo entre o modulador de luz(4) e o material (25) fotossensível, sendo que o movimento relativodecorre de modo essencialmente perpendicular às linhas de células (28)moduladoras de luz, bem como com um dispositivo (27) para rolagem deum modelo de dados indicado em uma linha dada do modulador de luz(4) pelas diversas linhas do modulador de luz (4), sendo que a rolagem éefetuada de tal maneira sincronizada com o movimento relativo queuma projeção de um modelo de dados no material (25) fotossensívelindicado no modulador de luz (4) é essencialmente estacionária comrelação ao material (25) fotossensível, especialmente de acordo comuma das reivindicações 1 a 9, estando previsto um dispositivo (30) paradesativação de um número predeterminável de linhas do modulador deluz (4) e sendo o modulador de luz (4) operável por carregamentoessencialmente apenas das linhas (32) ativas com os modelos de dados,caracterizado pelo fato de que está disposto ao menos um diodo delaser estacionariamente fora da cabeça de exposição.
2. - Dispositivo de Exposição, (1), de acordo com a Reivindicação 1,caracterizado pelo fato de que o dispositivo (30) é implementado paradesativação de uma região de linhas correlacionada, predeterminável.
3. - Dispositivo de Exposição, (1), de acordo com a Reivindicação 2,caracterizado pelo fato de que a região é implementada deslocável.
4. - Dispositivo de Exposição, (1), de acordo com uma das Reivindica-ções precedentes, caracterizado pelo fato de que estão previstos meios(33) para focalização da fonte de luz (2) essencialmente sobre as linhasativas do modulador de luz (4).
5. - Dispositivo de Exposição, (1), de acordo com a Reivindicação 4,caracterizado pelo fato de que os meios (23) para focalização sãoimplementados variáveis com relação a uma região focai.
6. - Dispositivo de Exposição, (1), de acordo com uma das Reivindica-ções precedentes, caracterizado pelo fato de que a fonte de luz (2)apresenta menor amplitude do que uma unidade formada do moduladorde luz (4) e do dispositivo (29) para projeção do modulador de luz (4)sobre material (25) fotossensível.
7. - Dispositivo de Exposição, (1), de acordo com uma das Reivindica-ções precedentes, caracterizado pelo fato de que a fonte de luz (2)apresenta um resfriamento a água.
8. - Dispositivo de Exposição, (1), de acordo com uma das Reivindica-ções precedentes, caracterizado pelo fato de que entre feixe de fibras(9) e modulador de luz (4) está disposto ao menos um condutor deondas luminosas (37) e uma barra de integrador ou condutor oco outúnel de luz (21).
9. - Dispositivo de Exposição, (1), de acordo com uma das Reivindica-ções precedentes, caracterizado pelo fato de que o laser é implementa-do como um laser de fibras ou laser de disco.
10. - Dispositivo de Exposição, (1), de acordo com uma das Reivindica-ções precedentes, caracterizado pelo fato de que está prevista umaunidade de acoplamento de luz (3) e a fonte de luz (2) abrange um diodode laser (7).
11. - Dispositivo de Exposição, (1), de acordo com uma das Reivindica-ções precedentes, caracterizado pelo fato de que o diodo de laser (7)emite luz na faixa de aproximadamente 350 nm até cerca de 450 nm.
12 - Dispositivo de Exposição, (1), de acordo com uma das Reivindica-ções precedentes, caracterizado pelo fato de que a fonte de luz (2)abrange um módulo (11) de vários, de preferência vinte, diodos de laser(7).
13. - Dispositivo de Exposição, (1), de acordo com uma das Reivindica-ções precedentes, caracterizado pelo fato de que um fluxo de radiaçãode cada diodo de laser (7) na unidade de acoplamento de luz (3) éopticamente superposto.
14.- Dispositivo de Exposição, (1), de acordo com uma das Reivindica-ções precedentes, caracterizado pelo fato de que a unidade de acopla-mento de luz (3) abrange fibras de vidro individuais (8) e/ou a cadadiodo de laser (7) está respectivamente associada uma fibra de vidroindividual (8) separada e/ou a fibra de vidro individual (8) apresenta umdiâmetro de aproximadamente 125 μηι e/ou as fibras de vidro individu-ais (8) na unidade de acoplamento de luz (3) são reunidas para um feixede fibras (9).
15. - Dispositivo de Exposição, (1), de acordo com uma das Reivindica-ções precedentes, caracterizado pelo fato de que o diâmetro externo dofeixe de fibras (9) importa em cerca de 650 um.
16. - Dispositivo de Exposição, (1), de acordo com uma das Reivindica-ções precedentes, caracterizado pelo fato de que a fonte de luz (2)abrange vários módulos (11).
17. - Dispositivo de Exposição, (1), de acordo com uma das Reivindica-ções precedentes, caracterizado pelo fato de que a unidade de acopla-mento de luz (3) abrange uma barra de vidro (21) integradora de luz e,de preferência, apresenta uma seção transversal angular, especialmenteretangular.
18. - Dispositivo de Exposição, (1), de acordo com uma das Reivindica-ções precedentes, caracterizado pelo fato de que o fluxo de radiação dafonte de luz (2), de preferência de cada diodo de laser (7), é configuradovariável e/ou a fonte de luz (2) é provida de meios para ligar ou desligarseparadamente diodos de laser (7) individuais.
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102005015192.2 | 2005-04-02 | ||
| DE200510015193 DE102005015193A1 (de) | 2005-04-02 | 2005-04-02 | Belichtungsvorrichtung und Verfahren für die Belichtung von Druckplatten |
| DE200510015192 DE102005015192A1 (de) | 2005-04-02 | 2005-04-02 | Belichtungsvorrichtung für Druckplatten |
| DE102005015193.0 | 2005-04-02 | ||
| PCT/EP2006/002962 WO2006105911A2 (de) | 2005-04-02 | 2006-03-31 | Belichtungsvorrichtung für druckplatten |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| BRPI0609507A2 true BRPI0609507A2 (pt) | 2011-05-24 |
Family
ID=36678612
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| BRPI0609507-0A BRPI0609507A2 (pt) | 2005-04-02 | 2006-03-31 | dispositivo de exposição |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20090101845A1 (pt) |
| EP (1) | EP1872174A2 (pt) |
| JP (1) | JP2008535007A (pt) |
| BR (1) | BRPI0609507A2 (pt) |
| CA (1) | CA2603170A1 (pt) |
| WO (1) | WO2006105911A2 (pt) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102006049169A1 (de) * | 2006-10-18 | 2008-04-30 | Punch Graphix Prepress Germany Gmbh | Beleuchtungsanordnung |
| DE102008052829A1 (de) * | 2008-10-16 | 2010-04-22 | Carl Zeiss Surgical Gmbh | Beleuchtungsvorrichtung für ein optisches Beobachtungsgerät |
| TWI666526B (zh) * | 2017-10-31 | 2019-07-21 | 旭東機械工業股份有限公司 | 無光罩雷射直寫曝光機 |
| DE20213034T1 (de) * | 2017-07-20 | 2021-06-24 | Esko-Graphics Imaging Gmbh | System und verfahren zur direkten härtung von photopolymerdruckplatten |
Family Cites Families (53)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US4911526A (en) * | 1988-10-07 | 1990-03-27 | Eastman Kodak Company | Fiber optic array |
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| JP4244156B2 (ja) * | 2003-05-07 | 2009-03-25 | 富士フイルム株式会社 | 投影露光装置 |
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| TWI260154B (en) * | 2003-07-03 | 2006-08-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | Image forming device |
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-
2006
- 2006-03-31 US US11/887,598 patent/US20090101845A1/en not_active Abandoned
- 2006-03-31 JP JP2008503435A patent/JP2008535007A/ja active Pending
- 2006-03-31 WO PCT/EP2006/002962 patent/WO2006105911A2/de not_active Ceased
- 2006-03-31 BR BRPI0609507-0A patent/BRPI0609507A2/pt not_active Application Discontinuation
- 2006-03-31 CA CA002603170A patent/CA2603170A1/en not_active Abandoned
- 2006-03-31 EP EP06723922A patent/EP1872174A2/de not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA2603170A1 (en) | 2006-10-12 |
| US20090101845A1 (en) | 2009-04-23 |
| WO2006105911A3 (de) | 2007-04-05 |
| EP1872174A2 (de) | 2008-01-02 |
| JP2008535007A (ja) | 2008-08-28 |
| WO2006105911B1 (de) | 2007-05-18 |
| WO2006105911A2 (de) | 2006-10-12 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| B25A | Requested transfer of rights approved |
Owner name: XEIKON IP BV (NL) Free format text: TRANSFERIDO DE: PUNCH GRAPHIX PREPRESS GERMANY GMBH |
|
| B25A | Requested transfer of rights approved |
Owner name: XEIKON PREPRESS NV (BE) |
|
| B07A | Technical examination (opinion): publication of technical examination (opinion) [chapter 7.1 patent gazette] | ||
| B09B | Patent application refused [chapter 9.2 patent gazette] | ||
| B09B | Patent application refused [chapter 9.2 patent gazette] |