BRPI0613486A2 - hidroxifeniltriazinas com um sistema de anel fundido carbocìclico aromático, composição estabilizada contra degradação induzida por luz e processo para a estabilização de um material orgánico - Google Patents

Abstract

HIDROXIFENILTRIAZINAS COM UM SISTEMA DE ANEL FUNDIDO CARBOCìCLICO AROMáTICO, COMPOSIçãO ESTABILIZADA CONTRA DEGRADAçãO INDUZIDA POR LUZ E PROCESSO PARA A ESTABILIZAçãO DE UM MATERIAL ORGáNICO. A presente invenção refere-se a novos absorvedores de UV de hidroxífenil triazina com um sistema de anel fundido carbociclico aromático tendo um espectro de absorção alterado de comprimento de onda longo com absorvância significante até 420 nm. Outros aspectos da invenção são um processo para sua preparação, uma composição estabilizada contendo os estabilizadores de UV, um processo para a estabilização de materiais orgânicos, e o uso dos novos compostos como estabilizadores de luz-UV para materiais orgânicos.

Description

Relatório Descritivo da Patente de Invenção para "HIDROXIFE-NILTRIAZINAS COM UM SISTEMA DE ANEL FUNDIDO CARBOCÍCLICOAROMÁTICO, COMPOSIÇÃO ESTABILIZADA CONTRA DEGRADAÇÃOINDUZIDA POR LUZ E PROCESSO PARA A ESTABILIZAÇÃO DE UMMATERIAL ORGÂNICO".

A presente invenção refere-se a novos absorvedores de UV dehidroxifenil triazina tendo um espectro de absorção alterado de comprimentode onda longo com absorvância significante até 420 nm. Outros aspectos dainvenção são um processo para sua preparação, uma composição estabili-zada contendo os novos estabilizadores de UV1 um processo para a estabili-zação de materiais orgânicos, e o uso dos novos compostos como estabili-zadores de Iuz-UV para materiais orgânicos.

Substratos poliméricos contendo porções aromáticas, tais como,por exemplo, adesivos ou resinas de revestimento baseadas em epóxidosaromáticos, poliésteres aromáticos ou (poli-) isocianatos aromáticos, sãoaltamente sensíveis à radiação de UVA/IS até comprimentos de onda deaproximadamente 420 nm.

A proteção de tal adesivo ou camadas de revestimento, comuma camada de absorção de UV no topo, é extremamente difícil, visto que jámuitas pequenas quantidades de radiação - mesmo na faixa de ao redor de410 nm - que penetram o revestimento de topo de absorção de UV, são sufici-entes para causarem delaminação e descascamento da camada protetora.

Aplicações típicas, em que absorvedores de UV alterados decomprimento de onda longo são extremamente úteis, são revestimentos au-to motivos.

Os revestimentos automotivos de hoje têm aplicado um eletro-revestimento catódico anticorrosivo diretamente na placa de aço. Devido àsensibilidade de luz vermelha significantemente alterada das resinas catódi-cas (até aproximadamente 400 - 420nm), não é possível proteger o eletro-revestimento catódico com absorvedores de UV da técnica anterior conven-cionais nos revestimentos de topo adequadamente.

De modo a melhor proteger tais camadas sensíveis, tentativas têmsido feitas para alterar a absorção de UV de triazinas para comprimentos deonda mais longos. Por exemplo, os documentos US 5354794, US 5476937 eUS 5556973 descrevem hidroxifenil triazinas vermelhas-alteradas.

Contudo, os presentes compostos podem absorver uma grandequantidade de luz até 420-450nm, em particular até 420nm, do que o estadoda técnica. Os compostos permanecem inesperada e fotoquimicamente es-táveis, e não mostram virtualmente migração em aplicações de revestimentotípicas.

Um aspecto da invenção é um composto de fórmula (I)

<formula>formula see original document page 3</formula>

em que

E1 é um sistema de anel fundido carbocíclico aromático substitu-ído ou não-substituído compreendendo pelo menos 3 anéis;

E2 é independentemente definido conforme definido para Ei; oué uma naftila substituída ou não-substituída; ou é um sistema de anel heteroaromático substituído ou não-substituído compreendendo um ou mais anéis;

ou corresponde à fórmula

<formula>formula see original document page 3</formula>

R1 é H, CrC24alquil, C2-Cisalquenil, C5-Ci2cicloalquil, C7-Ci5fenilal-quil, fenil, ou referida fenila ou referida fenilalquila substituída no anel fenilpor CrC8alquila; ou OR3;

R2 é H, CrCi8alquila; C2-C6alquenila; fenila; fenila substituída por

CrC8 alquila ou por CrC8alcóxi; C7-Cnfenilalquila; C5-Ci2cicloalquila; CO-OR4; CN; NH2, NHR7, -N(R7)(R8), NH-CO-R5; halogênio; CrC18haloalquila;C-i-Ci8alcóxi; -S-R3 ou -O-R3;R3 é independentemente Η, CrCi8alquila; C5-Ci2cicloalquila; C3-Ci8alquenila; fenila; CrCi8alquila que é substituída por fenil, OH1 CrCi8alcoxi,C5-C12 cicloalcoxi, C3-Ci8alqueniloxi, halogênio, -COOH, -COOR4, -O-CO-R5,-O-CO-O-R6l -CO-NH2, -CO-NHR7l -CO-N(R7)(R8)1 CN1 NH2, NHR7, -N(R7)(R8)1 -NH-CO-R5, fenóxi, fenóxi CrCi8alquil-substituído, fenil-CrC4alcóxi, C6-Ci5bicicloalcoxi, C6-Ci5bicicloalquil-alcóxi, C6-Ci5bicicloalquenil-alcóxi e/ou porC6-Ci5tricicloaIcóxi; C5-Ci2cicloalquila que é substituído por OH, Ci-C4 alquil,C2-C6alquenila e/ou por -O-CO-R5; -CO-R9 ou -SO2-Ri0; ou C3-C50alquila queé interrompida por um ou mais átomos de oxigênio e é não-substituída ousubstituída por OH, fenóxi e/ou por C7-Ci8alquilfenóxi; ou -A; -CH2-CH (XA)-CH2-O-Ri2; -CRi3R-I3-(CH2)m-X-A;

-CH2-CH(OA)-Ri4; -CH2-CH(OH)-CH2-XA; A Y/^in

-CH-'

-CR15R15'-C(=CH2)-Ri5";-CRi3Ri3'-(CH2)m-CO-X-A;

-CR13R13'-(CH2)m-C0-0-CRi5Ri5'-C(=CH2)-Ri5" ou -C0-0-CR15Ri5'-C(=CH2)

-R15";

A é -CO-CRi6=CH-Ri7;

R4 é independentemente CrCi8alquila; C3-Ci8alquenila; C7-Cnfenilalquila; C5-Ci2cicloalquila; ou C3-C50alquila que é interrompida por um oumais de -O-, -NH-, -NR7- e -S- e é não-substituída ou substituída por OH,fenóxi e/ou por C7-Ci8alquilfenóxi; ou C2-C12NdroxiaIquiIa;

R5 é independentemente H; CrC18alquila; CrC18alquila substitu-ída por COOH ou por COOR4; C2-Ci8alquenila; C2-C18alquenila substituída porCOOH ou por COOR4; C5-Ci2cicloalquila; fenila; C7-C1IfeniIaIquiIa; C6-C15bicicloalquila; C6-C15bicicloalquenila; ou C6-C15tricicloalquila;

R6 é independentemente CrC18alquila; C3-C18alquenila; fenila;

C7-CTifeniIalquiIa; ou C5-C12cicloalquila;

R7 e R8 são independentemente C1-C^alquila; C3-C12alcoxial-quila; C4-C16dialquilaminoalquila; ou C5-C12cicloalquila; ou juntos para formarCa-Cg-alquileno, -oxa-alquileno ou -aza-alquileno;

R9 é independentemente CrC18alquila; C2-Cisalquenila; fenila; C5-Ci2cicloalquila; C7-Cnfenilalquila; C6-C15bicicloalquil, C6-C15bicicloalquil-alquil,C6-C15bicicloalquenil, ou C6-Ci5tricicloalquila;

R10 é independentemente CrCi2alquila; fenila; naftila ou C7-Ci4alquilfenila;

R11 e R22 são independentemente H; C1-Ciealquila; C3-C6alque-nila; C5-Ci2cicloalquila; fenila; naftila; bifenilila; C7-C1IfeniIaIquiIa; C7-C14 al-quilfenila; halogênio; C1-Ciehaloalquila; ou CrC18alcóxi;

R12 é independentmente CrC18alquila; C3-C18alquenila; fenila;fenila substituída por um a três dos radicais C1-Csalquil, C1-Cealcoxil C3-C8alqueniloxi, halogênio e trifluormetila; C7-C1-Ifenilalquila; C5-C12cicloalquila;C6-C15tricicloalquila; C6-C15bicicloalquila; C6-C15bicicloalquil-alquila; C6-C15bicicloalquenil-alquila; -CO-R5; ou C3-C50alquila que é interrompida por umou mais de -O-, -NH-, -NR7- e -S- e é não-substituída ou substituída por OH1fenóxi e/ou por C7-Ci8alquilfenóxi;

R13 e R13' são independentemente H; CrC18alquila; ou fenila;

R14 é independentemente CrC18alquila; C3-C12alcoxialquila; feni-la; ou fenil-C-i-C4alquila;

R15, Ri5' e R15" são independentemente H ou CH3;

R16 é independentemente H; -CH2-COO-R4; CrC4alquila; ou CN;

R17 é independentemente H; -COOR4; CrC17alquila; ou fenila;

R22' tem um dos significados de R11; ou é NH2, NHR7, NH-CO-R5; -S-R3l -N(R7)(R8) ou OR3;

X é independentemente -NH-; -NR7-; -O-; -NH-(CH2)p-NH-; ou -O-(CH2)q-NH-;

e os índices são como segue:

m é um número de O a 19;

η é um número de 1 a 8;

ρ é um número de O a 4; e

q é um número de 2 a 4.

Preferivelmente1 Rn e R22 são H.De interesse é R22' que é OR3, especialmente 0H.

Por exemplo, E2 é independentemente conforme definido paraEi; ou corresponde à fórmula ^^^

Os substituintes no sistema de anel fundido carbocíclico aromá-tico compreendendo pelo menos 3 anéis, ou em naftil, ou em sistema de a-nel hetero aromático compreendendo um ou mais anéis, são, por exemplo,independentemente um do outro, um ou mais radicais conforme definido pa-ra R22 e R22'.

Exemplos de sistemas de anel fundido carbocíclico aromáticocompreendendo pelo menos 3 anéis são radicais de antraceno, fenantreno,fluoranteno, pireno, criseno, benzantraceno, dibenzantraceno, benzofluoran-teno, benzopireno, indenopireno e benzoperlieno, preferivelmente fenantre-no, fluoranteno e pireno, mais preferivelmente fluoranteno e pireno.

Por exemplo, um sistema de anel fundido carbocíclico aromáticocompreendendo pelo menos 3 anéis significa que este sistema de anel com-preende pelo menos 3 anéis aromáticos, em particular pelo menos três anéisaromáticos fundidos.

Exemplos de sistemas de anel hetero aromático compreendendoum ou mais anéis são tienil, benzo[b]tienil, nafto[2,3-b]tienil, tiantrenil, furil,benzofuril, isobenzofuril, dibenzofuril, pirrolil, imidazolil, pirazolil, pirazinil,pirimidinil, piridazinil, indolizinil, isoindolil, indolil, indazolil, purinil, quinolizinil,isoquinolil, quinolil, ftalazinil, naftiridinil, quinoxalinil, quinazolinil, cinolinil, pte-ridinil, carbazolil, β-carbolinil, fenantridinil, acridinil, perimidinil, fenantrolinil,fenazinil, isotiazolil, fenotiazinil, isoxazolil, furazanila e fenoxazinil.

Por exemplo, não existe mais do que um grupo R3 por moléculaque é selecionado a partir do grupo consistindo de -A; -CH2-CH(XA)-CH2-O-R-12; -CR-13R-13'-(CH2)m-X-A;

-CH2-CH(OA)-R14; -CH2-CH(OH)-CH2-XA; A Υ/^,'ρ

-CH-7<formula>formula see original document page 7</formula>

-CR15R15'-C(=CH2)-R15";-CR13R13'-(CH2)m-CO-X-A;

-CR13R13,-(CH2)m-C0-0-CRi5Ri5'-C(=CH2)-Ri5" e -C0-0-CR15Ri5-C(=CH2)-R15"·

Compostos de fórmula (I) contendo um grupo -A; -CH2-CH(XA)-CH2-O-Ri2; -CRi3Ri3'-(CH2)m-X-A;

-CH2-CH(OA)-R14; -CH2-CH(OH)-CH2-XA; A n

-CRi5Ri5'-C(=CH2)-Ri5";-CR13Ri3'-(CH2)m-CO-X-A;

-CR13R13,-(0H2)m-CO-O-CRi5Ri5'-C(=CH2)-Ri5" ou -CO-O-CR15R15'-C(=CH2)-Ri5" podem ser copolimerizados em vários substratos poliméricostais como listados sob polímeros abaixo.

Dentro do escopo das definições dadas, alquila são alquila rami-ficada ou não-ramificada, por exemplo, metil, etil, propil, isopropil, n-butil,sec-butil, isobutil, terc-butil, 2-etilbutil, n-pentil, isopentil, 1-metilpentil, 1,3-di-metilbutil, n-hexil, 1-metil-hexil, n-heptil, iso-heptil, 1,1,3,3-tetrametilbutil, 1-metil-heptil, 3-metil-heptil, n-octil, 2-etil-hexil, 1,1,3-trimetil-hexil, 1,1,3,3-tetra-metilpentil, nonil, decil, undecil, 1-metilundecil, dodecil, 1,1,3,3,5,5-hexametil-hexil, tridecil, tetradecil, pentadecil, hexadecil, heptadecila ou octadecil.

Por exemplo, C5-Ci2cicloalquila inclui ciclopentil, ciclo-hexil, ciclo-heptil, ciclo-octil, ciclononil, ciclodecil, cicloundecila e ciclodocecil. Ciclopen-til, ciclo-hexil, ciclo-octila e ciclododecil são preferidos.

Alquenila inclui, dentro do escopo das definições dadas, entreoutros, alil, isopropenil, 2-butenil, 3-butenil, isobutenil, n-penta-2,4-dienil, 3-metil-but-2-enil, n-oct-2-enil, n-dodec-2-enil, isododecenil, n-dodec-2-enila e n-octa-dec-4-enil.

Alquila substituída, cicloalquila ou radicais fenila podem ser mo-no- ou polissubstituídos, e podem conduzir substituintes no átomo de carbo-no de ligação (na posição a), ou nos outros átomos de carbono; se um sub-stituinte é ligado por um heteroátomo (tal como, por exemplo, alcóxi), ele nãoestá preferivelmente na posição a, e o radical alquila substituída compreen-de 2, especialmente 3, ou mais átomos de carbono. Uma pluralidade desubstituintes é preferivelmente ligado a diferentes átomos de carbono.

Alquila interrompida por -O-, -NH-, -NR7- e/ou por -S- pode serinterrompido por um ou mais dos grupos mencionados, em cada caso nor-malmente um grupo sendo inserido em uma ligação, e ligações hetero-hetero, tais como, por exemplo, 0-0, S-S, NH-NH, etc, não ocorrendo; se oalquila interrompida é, em adição, substituída, os substituintes não estãonormalmente na posição α em relação ao heteroátomo. Se uma pluralidadede grupos de interrupção do tipo -O-, -NH-, -NR7- e -S- ocorre em um radical,estes grupos são usualmente idênticos.

Hidroxialquila significa um grupo alquila substituída por hidroxi.

Por exemplo, alcóxi, fenóxi, alquenilóxi e cicloalcoxi significam ogrupo OZ, no qual Z é alquil, fenil, alquenila e cicloalquil, respectivamente.

Fenilalquila compreende dentro dos limites de átomos de carbo-no dados, por exemplo, benzil, α-metilbenzil, feniletil, fenilpropil, fenilbutil,fenilpentila e fenilhexila; pelo que benzil, α-metilbenzila e α,α-dimetilbenzilasão preferidas.

Alquilfenila e alquilfenóxi são fenila e fenóxi alquil-substituído,respectivamente.

Um substituinte de halogênio é -F, -Cl, -Br ou -I; -F ou -Cl, e, es-pecialmente -Cl, é preferido. Haloalquila é especialmente cloroalquila ou tri-fluormetila; trifluormetila é de importância particular industrialmente.

Alquileno é, por exemplo, metileno, etileno, propileno, butileno,pentileno, hexileno, etc. A cadeia alquila pode também ser ramificada nestecaso, tal como, por exemplo, em isopropileno.

C4-Ci2CicIoaIqueniIa é, por exemplo, 2-ciclobuten-1-il, 2-ciclopenten-1-il, 2,4-ciclopentadien-1-il, 2-ciclo-hexen-1-il, 2-ciclo-hepten-1-ila ou 2-ciclo-octen-1-il.C6-C15Bicicloalquila é, por exemplo, bornil, norbornila ou 2.2.2-biciclo-octil. Bornila e norbornil, e especialmente bornila e norborn-2-il, sãopreferidas.

C6-C15Bicicloalcóxi é, por exemplo, bornilóxi ou norborn-2-il-oxi.

C6-C15Bicicloalquil-alquila ou -alcóxi é alquila ou alcóxi substituí-do por bicicloalquil, o número total de átomos de carbono sendo 6-15; exem-plos são norbornano-2-metila e norbornano-2-metoxi.

C6-C15BicicIoaIqueniIa é, por exemplo, norbornenila ou norbor-nadienil. Norbornenil, e especialmente norborn-5-enil, é preferida.

C6-C15Bicicloalquenil-alcóxi é alcóxi substituído por bicicloalque-nil, o número de átomos de carbono sendo 6-15; um exemplo é norborn-5-enil-2-metoxi.

C6-C15TricicIoaIquiIa é, por exemplo, 1-adamantila ou 2-adaman-tila; 1-adamantila é preferido.

C6-C15TricicIoaIcoxi é, por exemplo, adamantiloxi.

C3-C12HeteroariIa é preferivelmente piridinil, pirimidinil, triazinil,pirrolil, furanil, tiofenila ou quinolinil.

Os compostos de fórmula (I) e seus materiais de partida podemser preparados por métodos conhecidos na técnica. Por exemplo, os com-postos de fórmula (I) são preparados por adição de Friedel-Crafts de halotri-azinas aos compostos aromáticos correspondentes e fenóis, analogamentea um dos métodos especificados em EP-A-434 608, ou em uma das publica-ções mencionadas no começo, ou analogamente a um dos métodos especi-ficados na publicação por Brunetti e C.E. Lüthi, Helv. Chim. Acta 55, 1566(1972); ver também Patentes dos Estados Unidos N2s 5 726 310, 6 057 444,6 225 468, e EP-A-941 989, WO 00/29392. Este procedimento pode ser se-guido por uma reação adicional de acordo com métodos conhecidos; taisreações e processos são descritos, por exemplo, em EP-A-434 608.

Para preparar os compostos de fórmula (I), vantajosamente umequivalente de cloreto cianúrico é usado como material de partida, e é reagi-do com aproximadamente um equivalente cada de um sistema de anel fun-dido carbocíclico aromático não-substituído ou substituído compreendendopelo menos três anéis, um composto aromático adicional e um fenol, tal co-mo, por exemplo, resorcinol. Materiais de partida aromáticos adequados de-vem ter pelo menos uma ligação C-H no composto aromático; o fenol usadodeve conter uma orto-posição não-substituída nesta maneira. O compostoaromático adicional pode ser um naftaleno, um sistema de anel heteroaro-mático ou um benzeno, cada um dos quais são substituídos ou não-substituídos, ou o mesmo ou outro sistema de anel fundido carbocíclico a-romático não-substituído ou substituído compreendendo pelo menos trêsanéis.

A reação é efetuada em uma maneira conhecida per se pela re-ação dos materiais de partida com o haleto cianúrico em um solvente inertena presença de AICI3 anidro. Tricloreto de alumínio pode ser usado em ex-cesso e/ou em mistura com HCI, por exemplo, ácido clorídrico concentradoaquoso. Vantajosamente, o sistema de anel fundido carbocíclico aromático éprimeiro reagido, e o composto de fenol é adicionado por último.

O produto de reação de haleto cianúrico e sistema de anel fun-dido carbocíclico aromático pode ser adicionalmente reagido diretamente, oupode também ser isolado de maneira conhecida.

Solventes adequados são, por exemplo, hidrocarbonetos, hidro-carbonetos clorinatados, hidrocarbonetos contendo grupos SO ou SO2, ouhidrocarbonetos aromáticos nitratados; especialmente hidrocarbonetos aro-máticos, hidrocarbonetos aromáticos clorinatados ou nitratados.

A temperatura não é geralmente crítica; as temperaturas usadassão usualmente de -20°C ao ponto de ebulição do solvente, por exemplo, deO0C a 130°C.

Grupos hidroxila fenólicos livres do produto de reação na posi-ção-p com relação ao anel de triazina podem ser adicionalmente modifica-dos de maneira conhecida, por exemplo, eterificados. A operação pode serefetuada por métodos habituais, por exemplo, por etapas de extração e se-paração, filtração e secagem; se necessário, etapas adicionais de purifica-ção podem ser realizadas, por exemplo, recristalização.

Os produtos a partir das reações acima descritas podem ser adi-cionalmente modificados dentro do escopo das definições dadas para fórmu-la (I) de acordo com métodos conhecidos.

As reações podem ser efetuadas com a exclusão de oxigênio,por exemplo, por inundação com um gás inerte, tal como argônio; o oxigênionão é inoportuno em todo caso; contudo, e, portanto, a reação pode tambémser efetuada sem a medida mencionada. Quando a reação está completa, aoperação pode ser efetuada de acordo com métodos usuais.

De interesse é um composto, no qual

<formula>formula see original document page 11</formula>

Ei é a fórmula

<formula>formula see original document page 11</formula>

E2 é independentemente conforme definido para Ei ou corres-ponde à fórmula

<formula>formula see original document page 12</formula>

R25 e R27 são independentemente conforme definido para R22;R23, R24 e R2e são independentemente conforme definido para

E os outros grupos são conforme definidos acima.

<formula>formula see original document page 12</formula>

Por exemplo, E1 não é de fórmula

<formula>formula see original document page 12</formula>

especialmente não de fórmula

<formula>formula see original document page 12</formula>

Por exemplo,

R2 é H, CrC18alquila; C2-C6alquenila; fenila; fenila substituída porCrC8 alquila ou por CrC8alcóxi; NH-CO-R5; halogênio; CrCi8haloalquila;

CrCi8alcóxi, ou OR3;

R22, R25 e R27 são independentemente H, C7-Cnfenilalquila ouCrC8alquila;

R22', R23, R24 e R26 são independentemente H; CrC8alquila; C3-C6alquenila; C7-Cnfenilalquila; C5-Ci2cicloalquila; fenila; naftila; bifenilila; C7-C14alquilfenila; NHR7; -N(R7)(R8); halogênio; CrCi8haloalquila; ou OR3.Por exemplo,R2 é Η, CrC8alquila; fenila; fenila substituída por metila ou pormetóxi; NH-CO-R5; trifluormetila; C1-C18alcóxi; ou OR3;

R22, R25 e R27 são independentemente H, C7-Cnfenilalquila ouC1-C8alquila;

R22'· R23· R24 e R28 são independentemente H; CrC8alquila; C3-C6alquenila; C7-Cnfenilalquila; C5-C12cicloalquila; trifluormetila; fenila; naftila;bifenilila; C7-C14alquilfenila; NHR7; -N(R7)(R8); ou OR3.

Preferivelmente, R23, R24, R25, R26 e R27 são H. De interesse éR22 que é H.

De interesse adicional é um composto, no qual

R1 é H ou CrC24alquil, C2-Ci8alquenil, C5-Ci2cicloalquil, C7-Ci5fenilalquil, fenil, ou a referida fenila ou referida fenilalquila substituída no anelfenila por C1-Csalquila; ou OR3;

R2 é H, CrC18alquila; C2-C6alquenila; fenila; fenila substituída porC1-Csalquila ou por C1-Csalcoxi; NH-CO-R5; halogênio; CrC18haloalquila;

C1-C18 alcóxi; ou OR3;

R3 é independentemente H, CrC18alquila; C5-Ci2cicloalquila; C3-C18alquenila; fenila; CrC18alquil que é substituída por fenil, OH1 CrC18alcoxi,C5-C12cicloalcoxi, C3-C18alqueniloxi, halogênio, -COOH, -COOR4, -O-CO-R5,-O-CO-O-R6, -CO-NH2, -CO-NHR7, -CO-N(R7)(R8), CN, NH2, NHR7, -N(R7)(R8)1 -NH-CO-R5, fenóxi, fenóxi e/ou fenil-CrC4alcóxi CrC18alquil-substi-tuído; C5-C12cicloalquila que é substituída por OH, CrC4alquil, C2-C6al-quenila e/ou por -O-CO-R5; ou -SO2-R10; ou C3-C50alquila que é interrompidapor um ou mais átomos de oxigênio e é não-substituída ou substituída porOH, fenóxi e/ou por C7-C18alquilfenóxi; ou -CO-CH=CH2 ou -CO-C(CH3)=CH2;

R4 é independentemente CrC18alquila; C3-C18alquenila; C7-C11fenilalquila; C5-C12cicloalquila; ou C3-C50alquila que é interrompida por um oumais de -O-, -NH-, -NR7- e -S-, e é não-substituída ou substituída por OH,fenóxi e/ou por C7-C18alquilfenóxi; ou C2-C12NdroxiaIquiIa;

R5 é independentemente H; CrC18alquila; C2-C18alquenila; C5-C12cicloalquila; fenila; ou CrC^fenilalquila;R6 é independentemente CrCi8alquila; C3-Ci8alquenila; fenila; CrCnfenilalquila; ou C5-Ci2cicloalquila;

R7 e R8 são independentemente CrCi2alquila; C3-Ci2 alcoxial-quila; C4-Ci6dialquilaminoalquila; ou ciclo-hexila; ou juntos formam C3-C9-alquileno ou -oxa-alquileno;

R10 é independentemente CrC12alquila; fenila; naftila ou C7-Ci4alquilfenila;

R11 e R22 são independentemente H, C7-Cnfenilalquila ouC1-C8alquila;

R22' é independentemente H; CrC8alquila; C3-C6alquenila;

C7-Cnfenilalquila; C5-C12cicloalquila; fenila; naftila; bifenilila; C7-C14alquilfe-nila; NHR7; -N(R7)(R8); halogênio; CrC18haloalquila; ou OR3;

e os outros grupos são conforme definidos acima.Também de interesse é um composto, no qual

R1 é H ou CrC24alquil, C2-Ci8alquenil, C5-C12cicloalquil, C7-C15fenilalquil, fenil, ou a referida fenila ou a referida fenilalquila substituída noanel fenila por C1-Cealquila; ou OR3;

R2 é H1 C1-Csalquila; fenila; fenila substituída por metila ou pormetóxi; NH-CO-R5; trifluormetila; CrC18alcóxi; ou OR3;

R3 é independentemente H1 CrC18alquila; ciclo-hexila; C3-C18al-quenila; CrC18alquil que é substituída por fenil, OH, CrC18alcoxi, ciclo-hexiloxi, halogênio, -COOH, -COOR4, -O-CO-R5, -CO-NHR7, -CO-N(R7)(R8),CN1 NHR7, -N(R7)(R8)1 -NH-CO-R5 e/ou por fenil-CrC4alcóxi; ou ciclo-hexilque é substituído por OH, CrC4alquil, C2-C6alquenila e/ou por-O-CO-R5;

R4 é independentemente CrC18alquila; C7-C1-Ifenilalquila; C5-C12cicloalquila; ou C2-C12hidroxialquila;

R5 é independentemente H; CrC18alquila; C2-C8alquenila; ciclo-hexila; fenila; ou C7-Cnfenilalquila;

R7 e R8 são independentemente C3-C12alquila ou ciclo-hexila; oujuntos formam C3-C9oxa-alquileno;

R11 e R22 são independentemente H, C7-C1-Ifenilalquila ouC1-C8alquila;R22' é independentemente Η; CrC8alquila; C3-C6alquenila; C7-Cnfenilalquila; C5-C12cicloalquila; trifluormetila; fenila; naftila; bifenilila; C7-C14-alquilfenila; NHR7; -N(R7)(R8); ou OR3;

e os outros grupos conforme definidos acima.

Preferido é um composto correspondente à fórmula (II)

<formula>formula see original document page 15</formula>

em que

E-i' é a fórmula <formula>formula see original document page 15</formula>

ou

<formula>formula see original document page 15</formula><formula>formula see original document page 16</formula>

E2' é independentemente conforme definido para E1' ou corres-ponde à fórmula

<formula>formula see original document page 16</formula>

e os outros grupos são conforme definidos acima.

Mais preferido é um composto no qual

Ei' é a fórmula

<formula>formula see original document page 16</formula>

ou<formula>formula see original document page 17</formula>

E2' é independentemente conforme definido para E1' ou corres-

<formula>formula see original document page 17</formula>

ponde à fórmula

e os outros grupos são conforme definidos acima.

Preferivelmente, Ei não é

<formula>formula see original document page 17</formula>

Ainda mais preferido é um composto, em que<formula>formula see original document page 18</formula>

ou

E2' é independentemente conforme definido para Ei' ou corres-ponde à fórmula

<formula>formula see original document page 18</formula>

R1 é H1 CrCi2alquila ou OR3;

R2 é H, CrC8alquila; ou OR3;

R3 é independentemente H, Ci-Ci8alquila; ou CrCi2alquila que ésubstituída por OH1 Ci-C18alcoxi, COOR4 e/ou por -O-CO-R5;

R4 é independentemente C1-Ciaalquila;

R5 é independentemente H; CrC18alquila; ou C7-Cnfenilalquila;R11 é H; e

R22' é H1 metila ou OR3-

Mais preferido é um composto, em queE-T é a fórmula

<formula>formula see original document page 19</formula>

OU

E2' é independentemente conforme definido para Ei1 ou corres-ponde à fórmula

<formula>formula see original document page 19</formula>

R1 e R2 are independentemente OR3;

R3 é independentemente H1 CrCi8alquila; ou CrC12alquila que ésubstituída por OH1 C1-Ciealcoxi e/ou COOR4;

R4 é independentemente CrCi8alquila;R1i é H; e

R22' é OR3, preferivelmente OH.

<formula>formula see original document page 19</formula>

Preferivelmente, Ei não é

<formula>formula see original document page 19</formula>

Por exemplo, R3 é independentemente H, CrCi8alquila; ou CrCi2alquila que é substituída por OH e/ou CrCi8alcoxi. Por exemplo, R3 não éC1C-18alquil.

Por exemplo, Rn é conforme definido acima nesta descrição.

Por exemplo, R22' é OH.

As triazinas da presente invenção são geralmente úteis comoabsorvedoras de UV em vários substratos. Desse modo, outro aspecto destainvenção é uma composição estabilizada contra degradação induzida pelaluz que compreende,

(a) um material orgânico sujeito a degradação, e

(b) um composto de fórmula (I).

Por exemplo, a composição compreende outros aditivos.Exemplos de aditivos adicionais são dados subseqüentemente.

1. Antioxidantes

1.1. Monofenóis alauilatados, por exemplo, 2,6-di-terc-butil-4-metilfenol, 2-terc-butil-4,6-dimetilfenol, 2,6-di-terc-butil-4-etilfenol, 2,6-di-terc-butil-4-n-butilfenol,2,6-di-terc-butil-4-isobutilfenol, 2,6-diciclopentil-4-metilfenol, 2-(a-metilciclo-hexil)-4,6-dimetilfenol, 2,6-dioctadecil-4-metilfenol, 2,4,6-triciclo-hexilfenol,2,6-di-terc-butil-4-met-oximetilfenol, nonilfenóis que são lineares ou ramifica-dos nas cadeias laterais, por exemplo, 2,6-di-nonil-4-metilfenol, 2,4-dimetil-6-(1 '-metilundec-1 '-il)fenol, 2,4-dimetil-6-(1'-metil-heptadec-1 '-il)fenol, 2,4-dime-til-6-(1 '-metiltridec-1 '-il)fenol e misturas destes.

1.2. Alquiltiometilfenóis, por exemplo, 2,4-dioctiltiometil-6-terc-butilfenol, 2,4-dioctiltiometil-6-metilfenol, 2,4-dioctiltiometil-6-etilfenol, 2,6-di-dodeciltiometil-4-nonilfenol.

1.3. Hidroauinonas e hidroauinonas alauilatadas, por exemplo, 2,6-di-terc-butil-4-metoxifenol, 2,5-di-terc-butil-hidroquinona, 2,5-di-terc-amil-hidroquino-na, 2,6-difenil-4-octadeciloxifenol, 2,6-di-terc-butil-hidroquinona, 2,5-di-terc-butil-4-hidroxianisol, 3,5-di-terc-butil-4-hidroxianisol, 3,5-d i-terc-buti l-4-hidro-xifenila estearato, bis(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenil) adipato.

1.4. Tocoferóis. por exemplo, a-tocoferol, β-tocoferol, γ-tocoferol, δ-tocoferole misturas destes (vitamina E).

1.5. Tiodifenila éteres hidroxilatados, por exemplo, 2,2'-tiobis(6-terc-butil-4-metilfenol), 2,2'-tiobis(4-octilfenol), 4,4'-tiobis(6-terc-butil-3-metilfenol), 4,4'-tiobis(6-terc-butil-2-metilfenol), 4,4,-tiobis(3,6-di-sec-amilfenol), 4,4'-bis(2,6-dimetil-4-hidroxifenil)disulfeto.

1.6. Alauilidenobisfenóis, por exemplo, 2,2'-metilenobis(6-terc-butil-4-metil-fenol), 2,2'-metilenobis(6-terc-butil-4-etilfenol), 2,2,-metilenobis[4-metil-6-(a-metilciclo-hexil)fenol], 2,2,-metilenobis(4-metil-6-ciclo-hexilfenol), 2,2'-metile-nobis(6-nonil-4-metilfenol), 2,2'-metilenobis(4,6-di-terc-butilfenol), 2,2'-etilide-nobis(4,6-di-terc-butilfenol), 2,2,-etilidenobis(6-terc-butil-4-isobutilfenol), 2,2'-metilenobis[6-(a-metilbenzil)-4-nonilfenol], 2,2'-metilenobis[6-(a,a-dirrietilben-zil)-4-nonilfenol], 4,4'-metilenobis(2,6-di-terc-butilfenol), 4,4,-metilenobis(6-terc-butil-2-metilfenol), 1,1-bis(5-terc-butil-4-hidróxi-2-metilfenil)butano, 2,6-bis(3-terc-butil-5-metil-2-hidroxibenzil)-4-metilfenol, 1,1,3-tris(5-terc-butil-4-hidróxi-2-metilfenil)butano, 1,1-bis(5-terc-butil-4-hidróxi-2-metil-fenil)-3-n-dodecilmer-captobutano, etileno glicol bistS.S-bisCS-terc-butil^-hidroxifenil) butirato], bis(3-terc-butil-4-hidróxi-5-metil-fenil)diciclopentadieno, bis^-p-terc-butil^'-hidróxi-5'-metilbenzil)-6-terc-butil-4-metilfenil]tereftalato, 1,1-bis-(3,5-dimetil-2-hidroxifenil)butano, 2,2-bis(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenil)propano, 2,2-bis(5-terc-butil-4-hidróxi-2-metilfenil)-4-n-dodecilmercaptobutano, 1,1,5,5-tetra-(5-terc-butil-4-hidróxi-2-metilfenil)pentano.

1.7. Compostos O-. N- e S-benzil, por exemplo, 3,5,3,,5,-tetra-terc-butil-4,4'-di-hidroxidibenzila éter, octadecil-4-hidróxi-3,5-dimetilbenzilmercaptoacetato,tridecil-4-hidróxi-3,5-di-terc-butilbenzilmercaptoacetato, tris(3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzil)amina, bis(4-terc-butil-3-hidróxi-2,6-dimetilbenzil)ditiotereftalato,bis(3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzil)sulfeto, iso-octil-3,5-di-terc-butil-4-hidroxi-benzilmercaptoacetato.

1.8. Malonatos hidroxibenzilatados. por exemplo, dioctadecil-2,2-bis(3,5-di-terc-butil-2-hidroxibenzil)malonato, dioctadecil-2-(3-terc-butil-4-hidróxi-5-me-tilbenzil)malonato, didodecilmercaptoetil-2,2-bis (3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzil)malonato, bis[4-(1,1,3,3-tetrametilbutil)fenil]-2,2-bis(3,5-di-terc-butil-4-hidroxi-benzil)malonato.

1.9. Compostos hidroxibenzila aromáticos, por exemplo, 1,3,5-tris(3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzil)-2,4,6-trimetilbenzeno, 1,4-bis(3,5-di-terc-butil-4-hidroxi-benzil)-2,3,5,6-tetrametilbenzeno, 2,4,6-tris(3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzil)fenol.

1.10. Compostos triazina, por exemplo, 2,4-bis(octilmercapto)-6-(3,5-di-terc-butil-4-hidroxianilino)-1,3,5-triazina, 2-octilmercapto-4,6-bis(3,5-di-terc-butil-4-hidroxianilino)-1,3,5-triazina, 2-octilmercapto-4,6-bis(3,5-di-terc-butil-4-hi-droxifenoxi)-1,3,5-triazina, 2,4,6-tris(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenoxi)-1,2,3-tri-azina, 1,3,5-tris(3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzil)isocianurato, 1,3,5-tris(4-terc-butil-3-hidróxi-2,6-dimetilbenzil)isocianurato, 2,4,6-tris(3,5-di-terc-butil-4-hidroxi-feniletil)-1,3,5-triazina, 1,3,5-tris(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenilpropionil) -hexa-hidro-1,3,5-triazina, 1 ,S.õ-trisíS.õ-diciclo-hexil^-hidroxibenzilJisocianurato.

1.11. Benzilfosfonatos, por exemplo, dimetil-2,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzil-fosfonato, dietil-3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzilfosfanato, dioctadecil3,5-di-terc -butil-4-hidroxibenzilfosfonato, dioctadecil-5-terc-butil-4-hidróxi-3-metilbenzil-fosfanatos, o sal de cálcio do monoetila éster de ácido 3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzilfosfônico.

1.12. Acilaminofenóis, por exemplo, 4-hidroxilauranilida, 4-hidroxistearanilida,octil N-(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenil)carbamato.

1.13. Esteres de ácido B-(3.5-di-terc-butil-4-hidroxifenil)propiônico com álcooismono- ou poli-hídricos, por exemplo, com metanol, etanol, n-octanol, i-octa-nol, octadecanol, 1,6-hexanodiol, 1,9-nonanodiol, etileno glicol, 1,2-propano-diol, neopentil glicol, tiodietileno glicol, dietileno glicol, trietileno glicol, penta-eritritol, tris(hidroxietil)isocianurato, N,N'-bis(hidroxietil)oxamida, 3-tiaundeca-nol, 3-tiapentadecanol, trimetil-hexanodiol, trimetilolpropano, 4-hidroximetil-1-fosfa-2,6,7-trioxabiciclo[2.2.2]octano.

1.14. Esteres de ácido B-(5-terc-butil-4-hidróxi-3-metilfeninpropiônico comálcoois mono- ou poli-hídricos, por exemplo, com metanol, etanol, n-octanol,i-octanol, octadecanol, 1,6-hexanodiol, 1,9-nonanediol, etileno glicol, 1,2-pro-panodiol, neopentil glicol, tiodietileno glicol, dietileno glicol, trietileno glicol,pentaeritritol, tris(hidroxietil)isocianurato, N,N'-bis(hidroxietil)oxamida, 3-tia-undecãnol, 3-tiapentadecanol, trimetil-hexanodiol, trimetilolpropano, 4-hidro-ximetil-1 -fosfa-2,6,7-trioxabiciclo[2.2.2]octano; 3,9-bis[2-{3-(3-terc-butil-4-hidróxi-5-metilfenil)propioniloxi}-1,1-dimetiletil]-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]-undecano.1.15. Esteres de ácido B-(3,5-diciclo-hexil-4-hidroxifenil)propiônico com álco-ois mono- ou poli-hídricos, por exemplo, com metanol, etanol, octanol, octa-decanol, 1,6-hexanodiol, 1,9-nonanodiol, etileno glicol, 1,2-propanodiol, neo-pentil glicol, tiodietileno glicol, dietileno glicol, trietileno glicol, pentaeritritol, tris(hidroxietil)isocianurato, N,N'-bis(hidroxietil)oxamida, 3-tiaundecanol, 3-tia-pentadecanol, trimetil-hexanodiol, trimetilolpropano, 4-hidroximetil-1-fosfa-2,6,7-trioxabiciclo[2.2.2]octano.

1.16. Esteres de ácido 3.5-di-terc-butil-4-hidroxifenil acético com álcoois mo-no- ou poli-hídricos, por exemplo, com metanol, etanol, octanol, octadecanol,1,6-hexanodiol, 1,9-nonanodiol, etileno glicol, 1,2-propanodiol, neopentil gli-col, tiodietileno glicol, dietileno glicol, trietileno glicol, pentaeritritol, tris (hidro-xietil)isocianurato, N,N'-bis(hidroxietil)oxamida, 3-tiaundecanol, 3-tiapenta-decanol, trimetil-hexanodiol, trimetilolpropano, 4-hidroximetil-1-fosfa-2,6,7-trioxabiciclo[2.2.2]octano.

1.17. Amidas de ácido B-(3.5-di-terc-butil-4-hidroxifenil)propiônico. por e-xemplo, N,N'-bis(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenilpropionil)hexametilenodiamida,N,N'-bis(3,5-di-terc-butil-4-hydroxifenilpropionil)trimetilenodiamida, Ν,Ν'-bis(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenilpropionil)hidrazida, N,N'-bis[2-(3-[3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenil]propioniloxi)etil]oxamida (Naugard®XL-1, suprido por Uni-royal).

1.18. Ácido ascórbico (vitamina C)

1.19. Antioxidantes amínicos, por exemplo, Ν,Ν'-di-isopropil-p-fenilenodia-mina, Ν,Ν'-di-sec-butil-p-fenilenodiamina, N,N'-bis(1,4-dimetilpentil)-p-fenile-nodiamina, N,N'-bis(1 -etil-3-metilpentil)-p-fenilenodiamina, N,N'-bis(1 -metil-heptil)-p-fenilenodiamina, Ν,Ν'-diciclo-hexil-p-fenilenodiamina, Ν,Ν'-difenil-p-fenilenodiamina, N,N'-bis(2-naftil)-p-fenilenodiamina, N-isopropil-N-fenil-p-fenilenodiamina, N-(1,3-dimetilbutil)-N'-fenil-p-fenilenodiamina, N-(1-metil-heptil)-N'-fenil-p-fenilenodiamina, N-ciclo-hexil-N'-fenil-p-fenilenodiamina, A-(p-toluenosulfamoil)difenilamina, N.N-dimetil-N.N-di-sec-butil-p-fenilenodi-amina, difenilamina, N-alildifenilamina, 4-isopropoxidifenilamina, N-fenil-1-naftilamina, N-(4-terc-octilfenil)-1-naftilamina, N-fenil-2-naftilamina, difenila-mina moctilatada, por exemplo, p,p'-di-terc-octildifenilamina, 4-n-butilamino-fenol, 4-butirilaminofenol, 4-nonanoilaminofenol, 4-dodecanoilaminofenol, A-octadecanoilaminofenol, bis(4-metoxifenil)amina, 2,6-di-terc-butil-4-dimetila-minometilfenol, 2,4'-diaminodifenilmetano, 4,4'-diaminodifenilmetano, N,N1N11N-tetrametil^-diaminodifenilmetano, 1,2-bis[(2-metilfenil) amino]etano,1,2-bis(fenilamino)propano, (o-tolil)biguanida, bis[4-(1 '^'-dimetilbutiljfenil]amina, terc-octilatado N-fenil-1-naftilamina, uma mistura de mono- e dialqui-latadas terc-butil/terc-octildifenillaminas, uma mistura de mono- e dialquilata-das nonildifenilaminas, uma mistura de mono- e dialquilatadas dodecildifeni-laminas, uma mistura de mono- e dialquilatadas isopropil/iso-hexildifenila-minas, uma mistura de mono- e dialquilatadas terc-butildifenilaminas, 2,3-di-hidro-3,3-dimetil-4H-1,4-benzotiazina, fenotiazina, uma mistura de mono- edialquilatadas terc-butil/terc-octilfenotiazinas, uma mistura de mono- e dial-quilatadas terc-octil-fenotiazinas, N-alilfenotiazina, N,N,N',N'-tetrafenil-1,4-diaminobut-2-eno.

2. Absorvedores de UV e estabilizadores de luz

2.1. Benzotriazóis, por exemplo, 2-(2,-hidróxi-5'-metilfenil)-benzotriazol, 2-(3,,5'-di-terc-butil-2,-hidroxifenil)benzotriazol, 2-(5,-terc-butil-2'-hidroxifenil)benzotriazol, 2-(2'-hidróxi-5'-(1,1,3,3-tetrametilbutil)fenil)benzotriazol, 2-(3',5'-di-terc-butil-2'-hidroxifenil)-5-cloro-benzotriazol, 2-(3'-terc-butil-2'-hidróxi-5'-metilfenil)-5-cloro-benzotriazol, 2-(3'-sec-butil-5,-terc-butil-2'-hidroxifenil)ben-zotriazol, 2-(2,-hidróxi-4'-octiloxifenil)benzotriazol, 2-(3',5,-di-terc-amil-2'-hidroxifenil)benzotriazol, 2-(3,,5,-bis-(a,a-dimetilbenzil)-2'-hidroxifenil) benzo-triazol, 2-(3'-terc-butil-2'-hidróxi-5,-(2-octiloxicarboniletil) fenil)-5-cloro-benzo-triazol, 2-(3'-terc-butil-5'-[2-(2-etil-hexiloxi)-carboniletil]-2,-hidroxifenil)-5-cloro-benzotriazol, 2-(3,-terc-butil-2'-hidróxi-5'-(2-metoxicarboniletil)fenil)-5-cloro-benzotriazol, 2-(3'-terc-butil-2,-hidróxi-5,-(2-metoxicarboniletil)fenil) benzotria-zol, 2-(3'-terc-butil-2,-hidróxi-5'-(2-octiloxicarboniletil) fenil)benzotriazol, 2-(3'-terc-butil-5'-[2-(2-etil-hexiloxi)carboniletil]-2,-hidroxifenil)benzotriazol, 2-(3-dodecil^-hidróxi-õ^metilfeniObenzotriazol, 2-(3'-terc-butil-2,-hidróxi-5,-(2-iso-octiloxicarboniletil)fenilbenzotriazol, 2,2'-metileno-bis[4-(1,1,3,3-tetrametil-butil)-6-benzotriazol-2-ilfenol]; o produto de trans-esterificação de 2-[3'-terc-butil-5'-(2-metoxicarboniletil)-2,-hidroxifenil]-2H-benzotriazol com polietilenoglicol 300; [r-CH2CH2-COO-CH2CH2^ . em que R = 3'-terc-butil-4'-

hidróxi-5'-2H-benzotriazol-2-ilfenil, 2-[2,-hidróxi-3'-(a,a-dimetilbenzil)-5'-(1,1,3,3-tetrametilbutil)-fenil]benzotriazol; 2-[2'-hidróxi-3'-(1,1,3,3-tetrametilbutil)-5'-(a,a-dimetilbenzil)-fenil]benzotriazol.

2.2. 2-Hidroxibenzofenonas, por exemplo, os derivados de 4-hidroxi, 4-metóxi, 4-octilóxi, 4-decilóxi, 4-dodecilóxi, 4-benzilóxi, 4,2',4,-trihidróxi e 2-hidróxi-4,4'-dimetóxi.

2.3. Benzoatos. por exemplo, 4-terc-butil-fenil salicilato, fenil salicilato, octil-fenil salicilato, dibenzoil resorcinol, bis(4-terc-butilbenzoil)resorcinol, benzoilresorcinol, 2,4-di-terc-butilfenil 3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzoato, hexadecil3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzoato, octadecil 3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzo-ato, 2-metil-4,6-di-terc-butilfenil 3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzoato.

2.4. Acrilatos. tais como α-cianoacrilatos, por exemplo, etil a-ciano-β,β-difenilacrilato, iso-octil a-ciano-p,p-difenilacrilato, metil a-carbometoxicina-mato, metil a-ciano-p-metil-p-metoxicinamato, butil a-ciano-p-metil-p-metoxi-cinamato, metil α-carbometoxi-p-metoxicinamato, N-(p-carbometoxi-j3-ciano-vinil)-2-metilindolina, neopentil tetra(a-ciano-p,p-difenilacrilato.

2.5. Compostos de níquel, por exemplo, complexos de níquel de 2,2'-tio-bis[4-(1,1,3,3-tetrametilbutil)fenol], tais como o complexo 1:1 ou 1:2, com ousem Iigantes adicionais tais como n-butilamina, trietanolamina ou N-ciclo-hexildietanolamina, níquel dibutilditiocarbamato, sais de níquel dos monoal-quila ésteres, por exemplo, o metil ou etil éster, de ácido 4-hidróxi-3,5-di-terc-butilbenzilfosfônico, complexos de níquel de cetoximas, por exemplo, de2-hidróxi-4-metilfenilundecilcetoxima, complexos de níquel de 1-fenil-4-lauroil-5-hidroxipirazol, com ou sem Iigantes adicionais.

2.6. Estabilizadores de amina estericamente retardadas, por exemplo, bis(2,2,6,6-tetrametil-4-piperidil)sebacato, bis(2,2,6,6-tetrametil-4-piperidil) suc-cinato, bis(1,2,2,6,6-pentametil-4-piperidil)sebacato, bis(1-octiloxi-2,2,6,6-tetrametil-4-piperidil)sebacato, bis(1,2,2,6,6-pentametil-4-piperidil) n-butil-3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzilmalonato, o condensado de 1-(2-hidroxietil)-2,2,6,6-tetrametil-4-hidroxipiperidina e condensados lineares ou cíclicos de ácidosuccínico de N,N,-bis(2,2,6,6-tetrametil-4-piperidil)hexametilenodiamina e 4-terc-octilamino-2,6-dicloro-1,3,5-triazina, tris(2,2>6,6-tetrametil-4-piperidil)nitrilotriacetato, tetraquis(2,2,6,6-tetrametil-4-piperidil)-1,2,3,4-butanotetracar-boxilato, 1,1 '-(1,2-etanodiil)-bis(3,3,5,5-tetrametilpiperazinona), 4-benzoil-2,2,6,6-tetrametilpiperidina, 4-esteariloxi-2,2,6,6-tetrametilpiperidina, bis(1,2,2,6,6 -pentametilpiperidil)-2-n-butil-2-(2-hidróxi-3,5-di-terc-butilbenzil)malonato, 3-n-octil-7,7,9,9-tetrametil-1,3,8-triazaspiro[4.5]decano-2,4-diona, bis(1 -octiloxi-2,2,6,6-tetrametilpiperidil)sebacato, bis(1-octiloxi-2,2,6,6-tetrametilpiperidil)succinato, condensados lineares ou cíclicos de N,N'-bis(2,2,6,6-tetrametil-4-piperidil)hexametilenodiamina e 4-morfolino-2,6-dicloro-1,3,5-triazina, oscondensados de 2-cloro-4,6-bis(4-n-butilamino-2,2,6,6-tetrametilpiperidil)-1,3,5-triazina e 1,2-bis(3-aminopropilamino)etano, os condensados de 2-cloro-4,6-di-(4-n-butilamino-1,2,2,6,6-pentametilpiperidil)-1,3,5-triazina e 1,2-bis(3-aminopropilamino)etano, 8-acetil-3-dodecil-7,7,9,9-tetrametil-1,3,8-triazaspiro[4.5]decano-2,4-diona, 3-dodecil-1-(2,2,6,6-tetrametil-4-piperidil)pirrolidina-2,5-diona, 3-dodecil-1 -(1,2,2,6,6-pentametil-4-piperidil)pirrolidina-2,5-diona, uma mistura de 4-hexadeciloxi- e 4-esteariloxi-2,2,6,6-tetrame-tilpiperidina, um condensado de N,N,-bis(2,2,6,6-tetrametil-4-piperidil) hexa-metilenodiamina e 4-ciclo-hexilamino-2,6-dicloro-1,3,5-triazina, um conden-sado de 1,2-bis(3-aminopropilamino)etano e 2,4,6-tricloro-1,3,5-triazina, bemcomo 4-butilamino-2,2,6,6-tetrametilpiperidina (CAS Reg. N- [136504-96-6]);um condensado de 1,6-hexanodiamina e 2,4,6-tricloro-1,3,5-triazina, bemcomo Ν,Ν-dibutilamina e 4-butilamino-2,2,6,6-tetrametilpiperidina (CAS Reg.N2 [192268-64-7]); N-(2,2,6,6-tetrametil-4-piperidil)-n-dodecilsuccinimida, N-(1,2,2,6,6-pentametil-4-piperidil)-n-dodecilsuccinimida, 2-undecil-7,7,9,9-tetra-metil-1-oxa-3,8-diaza-4-oxo-spiro[4,5]decano, um produto de reação de 7,7,9,9-tetrametil-2-cicloundecil-1 -oxa-3,8-diaza-4-oxospiro-[4,5]decano e epiclo-ro-hidrin, 1,1-bis(1,2,2,6,6-pentametil-4-piperidiloxicarbonil)-2-(4-metoxifenil)eteno, N,N'-bis-formil-N,N,-bis(2,2,6,6-tetrametil-4-piperidil)hexametilenodia-mina, um diéster de ácido 4-metoximetilenomalônico com 1,2,2,6,6-penta-metil-4-hidroxipiperidina, poli[metilpropil-3-óxi-4-(2,2,6,6-tetrametil-4-piperi-dil)]siloxano, um produto de reação de copolímero de ácido maleico anidrido-α-olefina com 2,2,6,6-tetrametil-4-aminopiperidina ou 1,2,2,6,6-pentametil-4-aminopiperidina, 2,4-bis[N-(1-ciclo-hexiloxi-2,2,6,6-tetrametilpiperidina-4-il)-N-butilamino]-6-(2-hidroxietil)amino-1,3,5-triazina, 1 -(2-hidróxi-2-metilpropo-xi)-4-octadecanoiloxi-2,2,6,6-tetrametilpiperidina, 5-(2-etil-hexanoil)oximetil-3,3,5-trimetil-2-morfolinona, Sanduvor® (Clariant; CAS Reg. N2 106917-31-1], 5-(2-etil-hexanoil)oximetil-3,3,5-trimetil-2-morfolinona, o produto de rea-ção de 2,4-bis[(1 -ciclo-hexiloxi^^.e.e-piperidina^-iObutilaminol-e-cloro-s-triazina com N,N'-bis(3-aminopropil)etilenodiamina), 1,3,5-tris(N-ciclo-hexil-N-(2,2,6,6-tetrametilpiperazina-3-ona-4-il)amino)-s-triazina, 1,3,5-tris(N-ciclo-hexil-N-(1,2,2,6,6-pentametilpiperazina-3-ona-4-il)amino)-s-triazina.

2.7. Oxanilidas. por exemplo, 4,4'-dioctiloxioxanilida, 2,2'-dietoxioxanilida,2,2'-dioctiloxi-5,5'-di-terc-butoxanilida, 2,2'-didodeciloxi-5,5'-di-terc-butoxa-nilida, 2-etoxi-2'-etiloxanilida, N,NMDis(3-dimetilaminopropil)oxamida, 2-etoxi-5-terc-butil-2-etoxaηiIida e sua mistura com 2-etoxi-2'-etil-5,4,-di-terc-butoxa-nilida, misturas de o- e oxanilidas p-metoxi-di-substituídas e misturas de o-xanilidas o- e p-etoxi-di-substituídas.

2.8. s-Triazinas, por exemplo, 2,4,6-tris(2-hidróxi-4-octiloxifenil)-1,3,5-tria-zina, 2-(2-hidróxi-4-octiloxifenil)-4,6-bis(2,4-dimetilfenil)-1,3,5-triazina, 2-(2,4-di-hidroxifenil)-4,6-bis(2,4-dimetilfenil)-1,3,5-triazina, 2,4-bis(2-hidróxi-4-pro-piloxifenil)-6-(2,4-dimetilfenil)-1,3,5-triazina, 2-(2-hidróxi-4-octiloxifenil)-4,6-bis(4-metilfenil)-1,3,5-triazina, 2-(2-hidróxi-4-dodeciloxifenil)-4,6-bis(2,4-dime-tilfenil)-1,3,5-triazina, 2-(2-hidróxi-4-trideciloxifenil)-4,6-bis(2,4-dimetilfenil)-1,3,5-triazina, 2-[2-hidróxi-4-(2-hidróxi-3-butiloxipropoxi)fenil]-4,6-bis (2,4-dimetil)-1,3,5-triazina, 2-[2-hidróxi-4-(2-hidróxi-3-octiloxipropiloxi)fenil]-4,6-bis(2,4-dimetil)-1,3,5-triazina, 2-[4-(dodeciloxi/trideciloxi-2-hidroxipropoxi)-2-hi-droxifenil]-4,6-bis(2,4-dimetilfenil)-1,3,5-triazina, 2-[2-hidróxi-4-(2-hidróxi-3-dodeciloxipropoxi)fenil]-4,6-bis(2,4-dimetilfenil)-1,3,5-triazina, 2-(2-hidróxi-4-hexiloxi)fenil-4,6-difenil-1,3,5-triazina, 2-(2-hidróxi-4-metoxifenil)-4,6-difenil-1,3,5-triazina, 2,4,6-tris[2-hidróxi-4-(3-butoxi-2-hidroxipropoxi) fenil]-1,3,5-tri-azina, 2-(2-hidroxifenil)-4-(4-metoxifenil)-6-fenil-1,3,5-triazina, 2-{2-hidróxi-4-[3-(2-eti l-hexi 1-1 -oxi)-2-hidroxipropiloxi]fenil}-4,6-bis(2,4-dimetilfenil)-1,3,5-tri-azina, 2,4-bis(4-[2-etil-hexiloxi]-2-hidroxifenil)-6-(4-metoxifenil)-1,3,5-triazina.

3. Desativadores de metal, por exemplo, Ν,Ν'-difeniloxamida, N-salicilal-N'-saliciloil hidrazina, N,N'-bis(saliciloil)hidrazina, N,N'-bis(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenilpropionil)hidrazina, 3-saliciloilamino-1,2,4-triazol, bis(benzilideno)oxalil dihidrazida, oxanilida, isoftaloil dihidrazida, sebacoil bisfenilhidrazida,Ν,Ν'-diacetiladipoil dihidrazida, N,N'-bis(saliciloil)oxalil dihidrazida, N1N'-bis(saliciloil)tiopropionil dihidrazida.

4. Fosfitos e fosfonitos, por exemplo, trifenil fosfito, difenilaquil fosfitos, fenil-dialquil fosfitos, tris(nonilfenil) fosfitos, trilauril fosfitos, trioctadecil fosfito, dis-tearilpentaeritritol difosfito, tris(2,4-di-terc-butilfenil) fosfito, di-isodecil pentae-ritritol difosfito, bis(2,4-di-terc-butiifenil)pentaeritritol difosfito, bis(2,4-di-cumil-fenil)pentae.ritritol difosfito, bis(2,6-di-terc-butil-4-metilfenil)pentaeritritol difos-fito, di-isodeciloxipentaertritol difosfito, bis(2,4-di-terc-butil-6-metilfenil)penta-eritritol difosfito, bis(2,4,6-tris(terc-butilfenil)pentaeritritol difosfito, tristearilsorbitol trifosfito, tetraquis(2,4-di-terc-butilfenil) 4,4,-bifenileno difosfonito, 6-iso-octiloxi-2,4,8,10-tetra-terc-butil-12H-dibenz[d,g]-1,3,2-dioxafosfocin, bis(2,4-di-terc-butil-6-metilfenil)metil fosfito, bis(2,4-di-terc-butil-6-metilfenil)etilfosfito, 6-flúor-2,4,8,10-tetra-terc-butil-12-metil-dibenz[d,g]-1,3,2-dioxafos-focin, 2,2,,2"-nitrilo[trietiltris(3,3,,5,5,-tetra-terc-butil-1,1'-bifenil-2,2'-diil)fosfito],2-etil-hexil(3,3,,5,5,-tetra-terc-butil-1,1,-bifenil-2,2,-diil)fosfito, 5-butil-5-etil-2-(2,4,6-tri-terc-butilfenoxi)-1,3,2-dioxafosfirano

Tris(2,4-di-terc-butilfenil) fosfito (lrgafos®168, Ciba Specialty Chemicals Inc.),tris(nonilfenil) fosfito,

Os seguintes fosfitos são especialmente preferidos:

<formula>formula see original document page 28</formula><formula>formula see original document page 29</formula>

5. Hidroxilaminas. por exemplo, Ν,Ν-dibenzil-hidroxilamina, Ν,Ν-dietil-hidro-xilamina, Ν,Ν-dioctil-hidroxilamina, Ν,Ν-dilauril-hidroxilamina, Ν,Ν-ditetra-decil-hidroxilamina, N,N-di-hexadecil-hidroxilamina, N,N-dioctadecil-hidroxila-mina, N-hexadecil-N-octadecil-hidroxilamina, N-heptadecil-N-octadecil-hidro-xilamina, derivado de Ν,Ν-dialquil-hidroxilamina de amina de sebo hidroge-nada.

6. Nitronas, por exemplo, N-benzil-alfa-fenilnitrona, N-etil-alfa-metilnitrona, N-octil-alfa-heptilnitrona, N-lauril-alfa-undecilnitrona, N-tetradecil-alfa-tridecil-nitrona, N-hexadecil-alfa-pentadecilnitrona, N-octadecil-alfa-heptadecilni-trona, N-hexadecil-alfa-heptadecilnitrona, N-octadecil-alfa-pentadecilnitrona,N-heptadecil-alfa-heptadecilnitrona, N-octadecil-alfa-hexadecilnitrona, nitronaderivada de Ν,Ν-dialquil-hidroxilamina derivada de amina de sebo hidroge-nada.

7. Tiosineraísticos, por exemplo, dilauril tiodipropionato, dimistril tiodipropio-nato, distearil tiodipropionato ou distearil disulfito.

8. Purificadores de peróxido, por exemplo, ésteres de ácido β-tiodipropiô-nico, por exemplo, o lauril, estearil, miristil ou ésteres tridecil, mercaptoben-zimidazol ou o sal de zinco de 2-mercaptobenzimidazol, zinco dibutilditiocar-bamato, dioctadecil disulfito, pentaeritritol tetraquis(p-dodecilmercapto) pro-pionato.

9. Estabilizadores de poliamida, por exemplo, sais de cobre em combinaçãocom compostos de iodos e/ou fósforos, e sais de manganês divalente.

10. Coestabilizadores básicos, por exemplo, melamina, polivinilpirrolidona,diciandiamida, trialil cianurato, derivados de uréia, derivados de hidrazina,aminas, poliamidas, poliuretanos, sais de metal alcali e sais de metal alcali-no-terroso de ácidos graxos mais altos, por exemplo, estearato de cálcio,estearato de zinco, behenato de magnésio, estearato de magnésio, ricinolea-to de sódio e palmitato de potássio, pirocatecolato de antimônio ou pirocate-colato de zinco.

11. Agentes de nucleacão, por exemplo, substâncias inorgânicas, tais comotalco, óxidos de metal, tais como dióxido de titânio ou óxido de magnésio,fosfatos, carbonatos ou sulfatos de, preferivelmente, metais alcaninos terro-sos; compostos orgânicos, tais como ácidos mono- ou policarboxílicos e ossais destes, por exemplo, ácido 4-terc-butilbenzoico, ácido adípico, ácidodifenilacético, succinato de sódio ou benzoato de sódio; compostos poliméri-cos, tais como copolímeros iônicos (ionômeros). Especialmente preferidossão 1,3:2,4-bis(3',4'-dimetilbenzilideno)sorbitol, 1,3:2,4-di(parametildibenzi-lideno)sorbitol, e 1,3:2,4-di(benzilideno)sorbitol.

12. Cargas e agentes de reforço, por exemplo, carbonato de cálcio, silicatos,fibras de vidro, gotas de vidro, asbestos, talco, caulim, mica, sulfato de bário,óxidos e hidróxidos de metal, negro de fumo, grafite, farinha de madeira, efarinhas ou fibras de outros produtos naturais, fibras sintéticas.13. Outros aditivos, por exemplo, plastificantes, lubrificantes, emulsificantes,pigmentos, aditivos de reologia, catalisadores, agentes de controle de fluxo,clareadores óticos, agentes à prova de chama, agentes anti-estáticos, e a-gentes de sopramento.

14. Benzofuranonas e indolinonas, por exemplo, aquelas descritas em U.S.4.325.863; U.S. 4.338.244; U.S. 5.175.312; U.S. 5.216.052; U.S. 5.252.643;DE-A-4316611; DE-A-4316622; DE-A-4316876; EP-A-0589839, EP-A-0591102; EP-A-1291384 ou 3-[4-(2-acetoxietoxi)fenil]-5,7-di-terc-butilben-zofuran-2-ona, 5,7-di-terc-butil-3-[4-(2-estearoiloxietoxi)fenil]benzofuran-2-ona, 3,3'-bis[5,7-di-terc-butil-3-(4-[2-hidroxietoxi]fenil)benzofuran-2-ona], 5,7-di-terc-butil-3-(4-etoxifenil)benzofuran-2-ona, 3-(4-acetoxi-3,5-dimetilfenil)-5,7-di-terc-butilbenzofuran-2-ona, 3-(3,5-dimetil-4-pivaloiloxifenil)-5,7-di-terc-butilbenzofuran-2-ona, 3-(3,4-dimetilfenil)-5,7-di-terc-butilbenzofuran-2-ona,3-(2,3-dimetilfenil)-5,7-di-terc-butilbenzofuran-2-ona, 3-(2-acetil-5-iso-octil-fenil)-5-iso-octilbenzofuran-2-ona.

Por exemplo, os aditivos adicionais são antioxidantes fenólicose/ou amínicos, estabilizadores de amina estericamente retardadas, absor-ventes de UV diferentes daqueles de fórmula (I), fosfitos, fosfonitos, benzofu-ranonas, estearatos de metal, óxidos de metal, pigmentos, corantes, com-postos de organofósforo, hidroxilaminas e/ou retardadores de chama.

Preferivelmente, tais aditivos adicionais são estabilizadores deamina estericamente retardada e/ou absorventes de UV selecionados a par-tir do grupo consistindo das oxanilidas, as hidroxibenzofenonas, os benzoa-tos, os α-cianoacrilatos, os benzotriazóis e as s-triazinas diferentes a partirdaquelas da fórmula (I).

Quando os absorvedores de UV são adicionados, eles são pre-ferivelmente adicionados em uma quantidade de 0,1% a 30%, mais preferi-velmente de 0,5% a 15%, e, mais preferivelmente, de 1% a 10% por peso,baseado no peso do material orgânico. Por exemplo, estas preferências seaplicam a revestimentos, composições de revestimento, e material de regis-tro. Por exemplo, nas composições de polímero, os absorvedores de UV a-dicionais são adicionados em quantidades de 0,1% a 10 %, preferivelmentede 0,1 a 5%, especialmente de 0,1 a 2%, baseado no peso do material orgâ-nico.

Quando um estabilizador de amina estericamente retardada éadicionalmente adicionado, ele é preferivelmente adicionado em uma quan-tidade de 0,1% a 10%, mais preferivelmente de 0,5% a 5%, e, mais preferi-velmente, de 1 % a 3% por peso, baseado no peso total do material orgânico.Por exemplo, estas preferências se aplicam a revestimentos, composiçõesde revestimento, e material de registro. Por exemplo, nas composições depolímero, a quantidade do estabilizador de amina estericamente retardada éde 0,1% a 5 %, preferivelmente de 0,1 a 2%, em particular de 0,1 a 0,5%,baseado no peso do material orgânico.

A quantidade total de absorvedor de UV de fórmula (I) e outrosabsorvedores de UV e/ou estabilizador de amina estericamente retardada é,por exemplo, de 0,5% a 15% por peso, baseado no peso do material orgânico.

Exemplos dos estabilizadores de amina estericamente retardadae absorvedores de UV de classes diferentes, são dados acima.

Os absorvedores de UV particularmente preferidos são as se-guintes s-triazinas e benzotriazóis:

<formula>formula see original document page 32</formula><formula>formula see original document page 15</formula>

Uma misturade R1 = R2 = CH(CH3)-COO-C8H17, R3= R4 =H;R1 = R2 = R3 = CH(CH3)-COO-C8H17, R4 =H;

R1 = R2 = R3 = R4 = CH(CH3)-COO-C8H17

<formula>formula see original document page 34</formula><formula>formula see original document page 35</formula>

Os absorvedores de UV hidroxifenil triazina são conhecidos esão parcialmente itens de comércio.

Os absorvedores de UV benzotriazol adequados são comercial-mente disponíveis sob as Marcas Comerciais TINUVIN® 384, TINUVIN®928, TINUVIN® 900, TINUVIN® 328 e TINUVIN® 1130.

Absorvedores de UV oxanilida incluem SANDUVOR® VSU eSANDUVOR® 3206.

Hidroxibenzofenonas preferidas incluem CHIMASSORB® 81 eUVINUL® 3049.

Os estabilizadores de amina estericamente retardada são prefe-rivelmente selecionados a partir do grupo consistindo nos seguintes produtoscomerciais: DASTIB® 845, TINUVIN® 770, TINUVIN® 765, TINUVIN® 144,TINUVIN® 123, TINUVIN® 111, TINUVIN® 783, TINUVIN® 791, TINUVIN®123, TINUVIN® 292, TINUVIN® 152, TINUVIN® 144, MARK® LA 52,MARK® LA 57, MARK® LA 62, MARK® LA 67, HOSTAVIN® N 20, HOSTA-VlΝ® N 24, SANDUVOR® 3050, SANDUVOR® 3058, DIACETAM® 5, SU-MISORB® TM 61, UVINUL® 4049, SANDUVOR® PR 31, GOODRITE® UV3034, GOODRITE® UV 3150, GOODRITE® UV 3159, GOODRITE® 3110 χ128, UVINUL® 4050 H1 CHIMASSORB® 944, CHIMASSORB® 2020, CYA-SORB® UV 3346, CYASORB® UV 3529, DASTIB® 1082, CHIMASSORB®119, UVASIL® 299, UVASIL® 125, UVASIL® 2000, UVINUL® 5050 H, Ll-CHTSCHUTZSTOFF® UV 31, LUCHEM® HA B 18, MARK® LA 63, MARK®LA 68, UVASORB® HA 88, TINUVIN® 622, HOSTAVIN® N 30 e FERRO®AM 806.

Particularmente preferidos são TINUVIN® 770, TINUVIN® 292,TINUVIN® 123, TINUVIN® 144, TINUVIN® 152 e SANDUVOR® 3058.

De interesse é o material orgânico que é um material de registro.

Os materiais de registro, de acordo com a invenção, são ade-quados para sistemas de cópia sensíveis à pressão, sistemas de fotocópiausando microcápsulas, sistemas de cópia sensíveis ao calor, materiais foto-gráficos, e impressão de jato de tinta.

Os materiais de registro, de acordo com a invenção, são distin-guidos por um aperfeiçoamento inesperado na qualidade, especialmentecom relação a estabilidade à luz.

Os materiais de registro, de acordo com a invenção, têm a cons-trução conhecida para o uso particular. Eles consistem em um veículo usual,por exemplo, papel ou filme plástico, que tenha sido revestido com uma oumais camadas. Dependendo do tipo do material, estas camadas contêm oscomponentes necessários apropriados, no caso de materiais fotográficos,por exemplo, emulsões de haleto de prata, acopladores de corante, coran-tes, e similares. Materiais particularmente adequados para impressão de jatode tinta têm uma camada particularmente absortiva para tinta em um veículousual. Papel não-revestido pode também ser empregado para impressão dejato de tinta. Neste caso, o papel age, ao mesmo tempo, como o materialtransportador, e como a camada absorvedora de tinta. O material adequadopara impressão de jato de tinta é, por exemplo, descrito na Patente dos Es-tados Unidos N2 5.073.448.

O material de registro pode também ser transparente, como, porexemplo, no caso de filmes de projeção.

Os compostos da fórmula (I) podem ser incorporados no materialcardador o quanto antes na produção do último, na produção de papel, porexemplo, por ser adicionado à polpa de papel. Um segundo método de apli-cação é pulverizar o material cardador com uma solução aquosa de compos-tos da fórmula (I), ou adicionar os compostos à composição de revestimento.

As composições de revestimento pretendidas para materiais deregistro transparentes adequadas para projeção não podem conter quais-quer partículas que difundem luz, tais como pigmentos e cargas.

A composição de revestimento de ligação de corante contém umnúmero de outros aditivos, por exemplo, antioxidantes, estabilizadores de luz(incluindo também absorvedores de UV que não pertencem aos absorvedo-res de UV de acordo com a invenção), aperferçoadores de viscosidade, cla-readores fluorescentes, biocidas, e/ou agentes anti-estáticos.

A composição de revestimento é usualmente preparada confor-me segue:

Os componentes solúveis em água, por exemplo, o ligante, sãodissolvidos em água, e agitados juntos. Os componentes sólidos, por exem-plo, cargas e outros aditivos já descritos, são dispersos neste meio aquoso.A dispersão é vantajosamente efetuada por meio de dispositivos, por exem-plo, amostras ultrassônicas, agitadores de turbina, homogenizadores, moi-nhos coloidais, moinhos de gota, moinhos de areia, agitadores de alta velo-cidade, e similares. Os compostos da fórmula (I) podem ser incorporadosfacilmente na composição de revestimento.

O material de registro de acordo com esta invenção preferivel-mente contém 1 a 5000 mg/m2, em particular 50-1200 mg/m2 de um compos-to da fórmula (I).

Conforme já mencionado, os materiais de registro de acordocom a invenção envolvem um campo amplo. Os compostos da fórmula (I)podem, por exemplo, ser empregados em sistemas de cópia sensíveis àpressão. Eles podem ser introduzidos, ou no papel de modo a proteger osprecursores de corante microencapsulados a partir da luz, ou no Iigante dacamada desenvolvedora de modo a proteger os corantes ali formados.

Sistemas de fotocópia usando microcápsulas sensíveis à luz quesão desenvolvidas por meio de pressão são descritos nas Patentes dos Es-tados Unidos Nss 4.416.966; 4.483.912; 4.352.200; 4.535.050; 4.5365.463;4.551.407; 4.562.137 e 4.608.330, também no EP-A 139.479; EP-A 162.664;EP-A 164.931; EP-A 237.024; EP-A 237.025 ou EP-A 260.129. Em todosestes sistemas, os compostos podem ser postos na camada de recebimentode corante. Os compostos podem, contudo, também serem postos na cama-da doadora de modo a proteger os formadores de cor a partir da luz.

Os materiais fotográficos que podem ser estabilizados são co-rantes fotográficos e camadas contendo tais corantes ou precursores destes,por exemplo, papel fotográfico e filmes. Materiais adequados são, por exem-pio, descritos na Patente dos Estados Unidos N2 5.364.749. Os compostosda fórmula (I) agem aqui como um filtro de UV contra jatos de luz eletrostáti-cos. Em materiais fotográficos de cor, acopladores e corantes são tambémprotegidos contra decomposição fotoquímica.

Os presentes compostos podem ser usados para todos os tiposde materiais fotográficos de cor. Por exemplo, eles podem ser empregadospara papel colorido, papel reverso colorido, material de cor direta-positiva,filme negativo de cor, filme positivo de cor, filme reverso de cor, etc. Eles sãopreferivelmente usados, entre outros, para material de cor fotográfico quecontém um substrato reverso ou formas positivas.

Os materiais de registro fotográficos de cor usualmente contêm,em um suporte, uma camada de emulsão de haleto de prata sensível a azule/ou sensível a verde e/ou sensível a vermelho e, se desejado, uma camadade proteção, os composto estando, preferivelmente, ou na camada sensívela verde ou sensível a vermelho, ou em uma camada entre a camada sensí-vel a verde e sensível a vermelho, ou em uma camada no topo das camadasde emulsão de haleto de prata.

Os compostos da fórmula (I) podem também serem empregadosem materiais de registro baseados nos princípios de fotopolimerização, foto-plastificação, ou a ruptura de microcápsulas, ou nos casos onde sais de dia-zônio sensíveis a calor e sensíveis a luz, Ieuco corantes tendo um agente deoxidação ou Iactonas de corante tendo ácidos de Lewis são usados.

Adicionalmente, eles podem ser empregados em materiais deregistro para impressão de transferência de difusão de corante, impressãode transferência de cera térmica, e impressão de matriz de ponto, e para usocom impressoras eletrostáticas, eletrográficas, eletroforéticas, magnetográfi-cas e laser-eletrofotográficas e plotadoras de caneta. Do acima, os materiaisde registro para impressão de transferência de difusão de corante são prefe-ridos como, por exemplo, descritos no EP-A-507.734.

Eles também podem ser empregados em tintas, preferivelmentepara impressão de jato de tinta, como, por exemplo, descritos adicionalmen-te na Patente dos Estados Unidos Na 5.098.477.

De interesse adicional é o material orgânico que é um polímeronatural, semissintético ou sintético, especialmente um polímero termoplástico.

Exemplos de tais polímeros são dados abaixo.

1. Polímeros de mono-olefinas e diolefinas, por exemplo, poli-propileno, poli-isobutileno, polibut-1-eno, poli-4-metilpent-1-eno, polivinilciclo-hexano, poli-isopreno ou polibutadieno, bem como polímeros de cicloolefi-nas, por exemplo, de ciclopenteno ou norborneno, polietileno (que opcional-mente pode ser reticulado), por exemplo polietileno de alta densidade (HD-PE), polietileno de alta densidade e de alto peso molecular (HDPE-HMW),polietileno de alta densidade e de peso molecular ultra-alto (HDPE-UHMW),polietileno de média densidade (MDPE), polietileno de baixa densidade (LD-PE), polietileno Iinearde baixa densidade (LLDPE), (VLDPE) e (ULDPE).

Poliolefinas, isto é, os polímeros de mono-olefinas exemplifica-dos no parágrafo precedente, preferivelmente polietileno e polipropileno, po-dem ser preparados por métodos diferentes, e especialmente pelos seguin-tes métodos:

a) Polimerização de radical (normalmente sob alta pressão eem temperatura elevada).b) polimerização catalítica usando um catalisador que normal-mente contém um ou mais do que um metal dos grupos IVb1 Vb, Vlb ou Vlllda Tabela Periódica. Estes metais usualmente têm um ou mais do que umligante, tipicamente óxidos, haletos, alcoolatos, ésteres, éteres, aminas, al-quis, alquenis, e/ou aris que podem ser ou π- ou σ-coordenados. Estes com-plexos de metal podem estar na forma livre, ou fixados nos substratos, tipi-camente no cloreto de magnésio ativado, cloreto de titânio (III), alumina ouóxido de silício. Estes catalisadores podem ser solúveis ou insolúveis nomeio de polimerização. Os catalisadores podem ser usados por si na polime-rização, ou ativadores adicionais podem ser usados, tipicamente alquis demetal, hidretos de metal, haletos de alquil de metal, óxidos de alquil de metalou alquiloxanos de metal, referidos metais sendo elementos dos grupos Ia,IIa e/ou IIIa da Tabela Periódica. Os ativadores podem ser modificados con-venientemente com outros grupos éster, éter, amina ou silila éter. Estes sis-temas catalíticos são usualmente denominados Phillips, Standard Oil India-na, Ziegler (-Natta), TNZ (DuPont), metaloceno, ou catalisadores de localsimples (SSC).

2. Misturas dos polímeros mencionados sob 1), por exemplo,misturas de polipropileno com poli-isobutileno, polipropileno com polietileno(por exemplo, PP/HDPE, PP/LDPE), e misturas de tipos diferentes de polieti-leno (por exemplo, LDPE/HDPE).

3. Copolímeros de mono-olefinas e diolefinas um com o outro,ou com outros monômeros de vinil, por exemplo, copolímeros de etile-no/propileno, polietileno de baixa densidade (LLDPE), e misturas destes,com polietileno de baixa densidade (LDPE), copolímeros de propileno/but-1-eno, copolímeros de propileno/isobutileno, copolímeros de etileno/but-1-eno,copolímeros de etileno/hexeno, copolímeros de etileno/metilpenteno, copo-límeros de etileno/hepteno, copolímeros de etileno/octeno, copolímeros deetileno/vinilciclo-hexano, copolímeros de etileno/cicloolefina (por exemplo,etileno/norborneno similar a COC), copolímeros de etileno/1-olefinas, onde a1-olefina é gerada in-situ; copolímeros de propileno/butadieno, copolímerosde isobutileno/isopreno, copolímeros de etileno/vinilciclo-hexeno, copolímerosde etileno/alquil acrilato, copolímeros de etileno/alquil metacrilato, copolímerosde etileno/vinil acetato, ou copolímeros de etileno/ácido acrílico e seus sais(ionômeros), bem como terpolímeros de etileno com propileno e um dieno,tal como hexadieno, diciclopentadieno ou etilideno-norborneno; e misturasde tais copolímeros com um outro, e com polímeros mencionados em 1) a-cima, por exemplo, copolímeros de polipropileno/etileno-propileno, copolíme-ros de LDPE/etileno-vinil acetato (EVA), copolímeros de LDPE/etileno-ácidoacrílico (EAA), LLDPE/EVA, LLDPE/EAA e copolímeros de polialquileno al-ternante ou aleatório/monóxido de carbono, e misturas destes com outrospolímeros, por exemplo, poliamidas.

4. Resinas de hidrocarboneto (por exemplo, C5-C9), incluindomodificações hidrogenadas destas (por exemplo, envernizadores) e misturasde polialquilenos e amido.

Homopolímeros e copolímeros de 1.) - 4.) podem ter qualquerestereoestrutura incluindo sindiotática, isotática, hemi-isotática ou atática;onde polímeros atáticos são preferidos. Polímeros de estereobloco são tam-bém incluídos.

5. Poliestireno, poli(p-metilestireno), poli(a-metilestireno).

6. Homopolímeros e copolímeros aromáticos derivados de mo-nômeros vinil aromático incluindo estireno, α-metilestireno, todos os isôme-ros de vinil tolueno, especialmente p-viniltolueno, todos os isômeros de etilaestireno, propila estireno, vinil bifenil, vinil naftaleno, e vinil antraceno, e mis-turas destes. Homopolímeros e copolímeros podem ter qualquer estereoes-trutura incluindo sindiotática, isotática, hemi-isotática ou atática; onde polí-meros atáticos são preferidos. Polímeros de estereobloco são também incluídos.

6a. Copolímeros, incluindo monômeros e comonômeros de vini-Ia aromático antes mencionados, selecionados a partir de etileno, propileno,dienos, nitrilas, ácidos, anidridos maleicos, maleimidas, vinil acetato e vinilcloreto, ou derivados acrílicos e misturas destes, por exemplo, estireno/bu-tadieno, estireno/acrilonitrila, estireno/etileno (interpolímeros), estireno/alquilmetacrilato, estireno/butadieno/alquil acrilato, estireno/butadieno/alquil meta-crilato, estireno/anidrido maleico, estireno/acrilonitrila/metil acrilato; misturasde copolímeros de estireno de alta resistência à impacto e outro polímero,por exemplo, um poliacrilato, um polímero de dieno, ou um terpolímero de die-no, ou um terpolímero de etileno/propileno/dieno; e copolímeros de bloco deestireno, tais como estireno/butadieno/estireno, estireno/isopreno/estireno,estireno/etileno/butileno/estireno ou estireno/etileno/propileno/estireno.

6b. Polímeros aromáticos hidrogenados derivados de hidroge-nação de polímeros mencionados sob 6.), especialmente incluindo policiclo-hexiletileno (PCHE) preparado por hidrogenação de poliestireno atático, fre-quentemente referido como polivinilciclo-hexano (PVCH).

6c. Polímeros atáticos hidrogenados derivados de hidrogenaçãode polímeros mencionados sob 6a.).

Os homopolímeros e copolímeros podem ter qualquer estereo-estrutura incluindo sindiotática, isotática, hemi-isotática ou atática; onde po-límeros atático são preferidos. Polímeros de esterobloco são também incluí-dos.

7. Copolímeros de enxerto de monômeros de vinila aromática,tais como estireno ou α-metilestireno, por exemplo, estireno em polibutadie-no, estireno em polibutadieno-estireno, ou copolímeros de polibutadieno-acrilonitrila; estireno e acrilonitrila (ou metacrilonitrila) em polibutadieno; esti-reno, acrilonitrila e metil metacrilato em polibutadieno; estireno e anidridomaleico em polibutadieno; estireno, acrilonitrila e anidrido maleico, ou ma-Ieimida em polibutadieno; estireno e maleimida em polibutadieno; estireno ealquil acrilatos ou metacrilatos em polibutadieno; estireno e acrilonitrila emterpolímeros de etileno/propileno/dieno; estireno e acrilonitrila em polialquilacrilatos ou polialquil metacrilatos, estireno e acrilonitrila em copolímeros deacrilato/butadieno, bem como misturas destes com os polímeros listados sob6), por exemplo, as misturas de copolímeros conhecidas como polímerosABS, MBS, ASA ou AES.

8. Polímeros contendo halogênio, tais como policloropreno, bor-rachas clorinatadas, copolímero clorinatado e brominado de isobutileno-isopreno (borracha de halobutila), polietileno clorinatado ou sulfoclorinatado,copolímeros de etileno e etileno clorinatado, homo e copolímeros de epiclo-ro-hidrin, especialmente polímeros de compostos de vinil contendo halogê-nio, por exemplo, cloreto de polivinila, cloreto de polivinilideno, fluoreto depolivinila, fluoreto de polivinilideno, bem como copolímeros destes, tais comocopolímeros de cloreto de vinila acetato/vinilideno, cloreto de vinila aceta-to/vinila ou de cloreto de vinilideno acetato/vinila.

9. Polímeros derivados de ácidos α,β-insaturados e derivadosdestes, tais como poliacrilatos e polimetacrilatos; polimetil metacrilatos, poli-acrilamidas e poliacrilonitrilas modificados por impacto com butil acrilato.

10. Copolímeros dos monômeros mencionados sob 9) um com ooutro, ou com outros monômeros insaturados, por exemplo, copolímeros deacrilonitrila/butadieno, copolímeros de acrilonitrila/alquil acrilato, copolímerosde acrilonitrila/alcoxialquil acrilato ou acrilonitrila/vinil haleto, ou terpolímerosde acrilonitrila/ alquil metacrilato/butadieno.

11. Polímeros derivados de álcoois insaturados e aminas, ou osderivados de acila ou acetais destes, por exemplo, polivinil álcool, acetato depolivinil, estereato de polivinila, benzoato de polivinila, maleato de polivinila,polivinil butiral, ftalato de polialila, ou polialil melamina; bem como seus co-polímeros com olefinas mencionadas em 1) acima.

12. Homopolímeros e copolímeros de éteres acrílicos, tais comopolialquileno glicóis, óxido de polietileno, oxido de polipropileno, ou copolí-meros destes com éteres de bisglicidil.

13. Poliacetais, tais como polioximetileno e aqueles polioximeti-Ienos que contêm óxido de etileno como um comonômero; poliacetais modi-ficados com poliuretanos termoplásticos, acrilatos ou MBS.

14. Óxidos de polifenileno e sulfetos, e misturas de óxidos depolifenileno com polímeros de estireno ou poliamidas.

15. Poliuretanos derivados de poliéteres hidroxil-terminado, poli-ésteres ou polibutadienos, por um lado, e poli-isocianatos alifáticos ou aro-máticos, por outro lado, bem como precursores destes.

16. Poliamidas e copoliamidas derivadas de diaminas e ácidoscarboxílicos, e/ou de ácidos aminocarboxílicos, ou as Iactamas correspon-dentes, por exemplo, poliamida 4, poliamida 6, poliamida 6/6, 6/10, 6/9, 6/12,4/6, 12/12, poliamida 11, poliamida 12, poliamidas aromáticas começando dem-xileno diamina e ácido adípico; poliamidas preparadas de hexametilenodia-mina e ácido isoftálico e/ou tereftálico, e com ou sem um elastômero como mo-dificador, por exemplo, poli-2,4,4,-trimetil-hexametileno tereftalamida ou poli-m-fenileno isoftalamida; e também copolímeros de bloco das poliamidas antesmencionadas com poliolefinas, copolímeros de olefina, ionômeros ou elas-tômeros quimicamente ligados ou enxertados; ou com poliéteres, por exemplo,com polietileno glicol, polipropileno glicol ou politetrametileno glicol; bem comopoliamidas ou copoliamidas modificadas com EPDM ou ABS; e poliamidascondensadas durante processamento (sistemas de poliamida de RIM).

17. Poliuréias, poli-imidas, poliamida-imidas, polieterimidas, poli-esterimidas, poli-hidantoins e polibenzimidazóis.

18. Poliésteres derivados de ácidos carboxílicos e dióis, e/ou deácidos hidroxicarboxílicos ou as Iactonas correspondentes, por exemplo, po-lietileno tereftalato, polibutileno tereftalato, poli-1,4-dimetilolciclo-hexano te-reftalato, polialquileno naftalato (PAN), e poli-hidroxibenzoatos, bem comoésteres de copoliéter de bloco derivados de poliéteres hidroxil-terminados; etambém poliésteres modificados com policarbonatos ou MBS.

19. Policarbonatos e poliéster carbonatos.

20. Policetonas.

21. Polisulfonas, poliéter sulfonas e poliéter cetonas.

22. Polímeros reticulados derivados de aldeídos, por um lado, efenóis, uréias e melaminas, por outro lado, tais como resinas de fenol/formal-deído, resinas de ureia/formaldeído e resinas de melamina/formaldeído.

23. Resinas alquídica de secagem e não-secagem.

24. Resinas de poliéster insaturado derivadas de copoliésteresde ácidos carboxílicos saturados e insaturados com álcoois poli-hídricos ecompostos de vinila como agentes de reticulação, e também modificaçõesdestes contendo halogênio de baixa inflamabilidade.

25. Resinas acrílicas reticuláveis derivadas de acrilatos substitu-ídos, por exemplo, epóxi acrilatos, uretano acrilatos, ou poliéster acrilatos.26. Resinas alquídicas, resinas de poliéster e resinas de acrilatoreticuladas com resinas de melamina, resinas de uréia, isocianatos, isocia-nuratos, poli-isocianatos ou resinas epóxi.

27. Resinas epóxi reticuladas derivadas de compostos glicidilalifáticos, cicloalifáticos, heterocíclicos ou aromáticos, por exemplo, produtosde éteres de diglicidil de bisfenol A e bisfenol F, que são reticulados comendurecedores usuais, tais como anidridos ou aminas, com ou sem acelera-dores.

28. Polímeros naturais, tais como celulose, borracha, gelatina, ederivados homólogos derivados destes, por exemplo, acetatos de celulose,propionatos de celulose e butiratos de celulose, e os éteres de celulose, taiscomo metil celulose; bem como rosinas e seus derivados.

29. Misturas dos polímeros antes mencionados (polimisturas),por exemplo, PP/EPDM, Poliamida/EPDM ou ABS, PVC/EVA, PVC/ABS,PVC/MBS, PC/ABS, PBTP/ABS, PC/ASA, PC/PBT, PVC/CPE, PVC/acrilatos,POM/termoplástico PUR, PC/termoplástico PUR, POM/acrilato, POM/MBS,PPO/HIPS, PPO/PA 6.6 e copolímeros, PA/HDPE, PA/PP, PA/PPO, PBT/PC/ABS ou PBT/PET/PC.

De interesse é o uso dos presentes compostos como estabiliza-dores em polímeros orgânicos sintéticos, por exemplo, um revestimento ouum polímero de massa, ou artigo formado a partir deste, especialmente empolímeros termoplásticos e composições correspondentes, bem como emcomposições de revestimento, por exemplo, em composições de revestimen-to catalisadas com ácido ou metal.

Em geral os presentes compostos são adicionados ao polímeroorgânico a ser estabilizado em quantidades de a partir de 0,01 a 10 %, prefe-rivelmente de 0,01 a 5 %, em particular de 0,01 a 2 % (baseado no polímeroorgânico a ser estabilizado). Preferência particular é dada ao uso dos pre-sentes compostos em quantidades de a partir de 0,05 a 1,5 %, especialmen-te de 0,1 a 0,5 %.

A incorporação nos polímeros orgânicos pode ser efetuada, porexemplo, pela mistura em, ou aplicação dos presentes compostos e, se de-sejado, aditivos adicionais pelos métodos que são usualmente na técnica. Aincorporação pode ocorrer antes ou durante a operação de moldagem, oupela aplicação do composto dissolvido ou disperso ao polímero, com ou semevaporação subsequente do solvente. No caso de elastômeros, estes podemtambém serem estabilizados como treliças. Uma possibilidade adicional paraincorporação do presente composto nos polímeros é adicioná-los antes, du-rante, ou diretamente após a polimerização dos monômeros corresponden-tes, ou antes da reticulação. Neste contexto, os presentes compostos podemser adicionados conforme eles estão, ou mesmo na forma encapsulada (porexemplo, em ceras, óleos ou polímeros).

Os presentes compostos podem também ser adicionados naforma de uma batelada principal contendo referido composto em uma con-centração, por exemplo, de a partir de 2,5 a 25% por peso aos polímerosque são para serem estabilizados.

Os presente compostos podem ser criteriosamente incorporadospelos seguintes métodos:

- uma emulsão ou dispersão (por exemplo, em polímeros de tre-liças ou emulsão),

- como uma mistura seca durante a mistura de componentesadicionais

ou misturas de polímeros,

- por introdução direta no aparelho de processamento (por e-xemplo, extrusores, misturadores internos, etc),

- como solução ou fundido.

As novas composições poliméricas podem ser empregadas emvárias formas e/ou processadas para dar vários produtos, por exemplo, co-mo (para dar) filmes, fibras, fitas, composições de moldagem, perfis, ou co-mo Iigantes para materiais de revestimento, adesivos ou massas.

Por exemplo, o material orgânico é uma composição de revesti-mento, especialmente uma composição de revestimento automotivo.

Por exemplo, o material orgânico é um revestimento, em particu-lar, um revestimento automotivo.As resinas usadas nos revestimentos são tipicamente polímerosreticulados, por exemplo, derivados de aldeídos, por um lado, e fenóis, uréi-as e melamina, por outro lado, tais como resinas de fenol/formaldeído, resi-nas de ureia/formaldeído e resinas de melamina/formaldeído.

Também úteis são resinas de poliéster insaturadas derivadas decopoliésteres de ácidos carboxílicos saturados e insaturados com álcooispoli-hídricos, e compostos de vinila como agentes de reticulação, e tambémmodificações destes contendo halogênio de baixa inflamabilidade.

Preferivelmente usadas são resinas acrílicas reticuláveis deriva-das de acrilatos substituídos, por exemplo, epóxi acrilatos, uretano acrilatosou poliéster acrilatos.

Também possíveis são resinas alquídicas, resinas de poliéster, eresinas acriladas reticuladas com resinas de melamina, resinas de uréia,isocianatos, isocianuratos, poli-isocianatos ou resinas epóxi.

Resinas epóxi reticuladas derivadas de compostos de glicidilaalifáticos, cicloalifáticos, heterocíclicos ou aromáticos, por exemplo, produtosde éteres de diglicidil de bisfenol A e bisfenol F, que são reticulados comendurecedores usuais, tais como anidridos ou aminas, com ou sem acelera-dores.

O material de revestimento pode também ser uma composiçãocurável com radiação contendo monômeros ou oligômeros etilenicamenteinsaturados, e um oligômero alifático poli-insaturado.

As lacas de resina alquídica que podem ser estabilizadas contraa ação de luz, de acordo com a presente invenção, são Iacas de fornalhaque são usadas em particular para revestimento de automóveis (laças deacabamento de automóvel), por exemplo, Iacas baseadas nas resinas dealquid/melamina e resinas alquídicas/acrílica/melamina (ver H. Wagner andH. F. Sarx, "Lackkunstharze" (1977), páginas 99-123). Outros agentes dereticulação incluem resinas de glicourila, isocianatos bloqueados ou resinasepóxi.

É também para ser notado que os compostos da presente in-venção são aplicáveis para uso em resinas de termocura catalisadas não-ácidas, tais como resinas de epóxi, epóxi-poliéster, vinil, alquídicas, acrílica,e de poliéster, opcionalmente modificadas com silicone, isocianatos, ou iso-cianuratos. As resinas epóxi e epóxi-poliésteres são reticuladas com reticu-ladores convencionais, tais como ácidos, anidridos ácidos, aminas e simila-res. Correspondentemente, o epóxido pode ser utilizado como o agente dereticulação para vários sistemas de resina de acrílica ou poliéster que forammodificados pela presença de grupos reativos na estrutura de suporte.

Quando os revestimentos solúveis em água, miscíveis em água,ou dispersíveis em água são desejados, sais de amônio de grupos ácidospresentes na resina são formados. A composição de revestimento em pópode ser preparada pela reação de glicidil metacrilato com componentes deálcool selecionados.

Mais preferivelmente, o material orgânico é um revestimento au-tomotivo compreendendo as seguintes camadas

d) um revestimento catodicamente depositado, aderindo a umsubstrato de metal;

e) pelo menos uma camada de revestimento subsequente con-tendo um composto de fórmula (I)

aderência ao revestimento catodicamente depositado; e

f) um revestimento superior claro contendo um ou mais absorve-dores de UV diferentes daqueles de fórmula (I) e, opcionalmente, estabiliza-dores de luz adicionais

Por exemplo, a camada de revestimento e) é diretamente emseguida à camada de revestimento d), e a camada de revestimento f) é dire-tamente em seguida à camada de revestimento e).

Por exemplo, em tal revestimento automotivo, o substrato demetal é pré-tratado em, por exemplo, um banho de fosfato de zinco usual.

De interesse é a composição na qual o revestimento é aplicadoem um substrato, que é sensível à radiação eletromagnética de comprimen-tos de onda maiores do que 380 nm.

Um substrato sensível típico é, por exemplo, um revestimentocatodicamente depositado aderindo a um substrato de metal. Tais revesti-mentos são tipicamente usados na indúdtria automotiva.

Sensível à radiação eletromagnética de comprimentos de ondamaiores do que 380 nm é compreendido UV ou luz visível, por exemplo, nafaixa de comprimento de onda até 450 nm, preferivelmente até 440 nm e, emparticular até 420 nm.

Por exemplo, a presente composição do composto de fórmula (I)está presente em uma quantidade de a partir de 0,1% a 30% por peso, pre-ferivelmente de 0,5% a 15% e, mais preferivelmente, de 1% a 10% por peso,baseado no peso do material orgânico. Estas concentrações são de interes-se particular para composições de revestimento ou revestimentos ou materi-al de registro. As concentrações preferidas para composições de polímerosão dadas acima.

Um aspecto adicional da presente invenção é um processo paraa estabilização de um material orgânico contra influência prejudicial de UVe/ou luz visível, que compreende mistura e/ou aplicação ao referido materialcomo estabilizador de um composto de fórmula (I).

Por exemplo, neste processo, o material orgânico é um revesti-mento, especialmente um revestimento automotivo.

Em particular, neste processo, o material orgânico é um revesti-mento automotivo, compreendendo

g) aplicação de um revestimento catodicamente depositado, a-derindo a um substrato de metal;

h) incorporação em pelo menos um revestimento que adere aorevestimento catodicamente depositado de um composto de fórmula (I); e

j) aplicação de uma camada superior clara sobre o revestimentoque adere ao revestimento catodicamente depositado, cujo revestimentosuperior claro contém um ou mais absorvedores de UV diferentes daquelesde fórmula (I) e, opcionalmente, estabilizadores de luz adicionais.

Por exemplo, a camada de revestimento h) é diretamente emseguida à camada de revestimento g), e a camada de revestimento j) é dire-tamente em seguida à camada de revestimento h).

Outro aspecto da invenção é o uso de um composto de fórmula(I) como absorvedor de luz ultravioleta (UV) e absorvedor de luz visível (VIS)em material orgânico que é submetido a degradação induzida pela luz.

Por exemplo, para este uso, o material orgânico é um revesti-mento, em particular, um revestimento automotivo.

As definições e preferências dadas para os compostos se apli-cam também a outros aspectos da invenção.

As percentagens dadas são percentagens em peso, a menosque de outro modo citado.

Os seguintes exemplos ilustram a invenção.

Exemplos

Todas as reações são realizadas sob condições inertes e secas,a menos que de outro modo citado.

Abreviações:

1H-RMN: Bruker 300/400MHz (CDCI3, DMSO-d6)

TA: temperatura ambiente

p.f.: ponto de fusão (0C)

ε: coeficiente de excitação em I mol"1 cm"1

Àmax: absorção máxima em nm

Estabilizadores comerciais usados nos exemplos de aplicação:

<formula>formula see original document page 50</formula><formula>formula see original document page 51</formula>

Exemplo 1: preparação de material de partida

<formula>formula see original document page 51</formula>

18,5 g (0,1 mol) de 1 e 20,5 g (0,1 mol) de 2 são dissolvidos em 350 ml declorobenzeno. A solução é arrefecida a uma temperatura de 0-5°C, e, dentrode 15 minutos, 14,7 g de AICI3 são adicionados em porções a esta solução.

Uma suspensão é formada, que é agitada por duas horas a uma temperatu-ra de reação de abaixo de 5o. A reação é operada pela adição de 200 ml demetanol frio à mistura de reação. O produto 3 é precipitado como cristais. Oscristais isolados são dispersos em 200 ml de HCI a 2N por mais uma hora aT = 0-5°C. Os cristais de produto 3 são filtrados e lavados com água (rendi-mento: 84%). Ponto de fusão de 3: 245-247°C.Exemplo 2:

<formula>formula see original document page 52</formula>

7 g (20 mmols) de 3 são dispersos em 50 ml de nitrobenzeno, 5,9 g de AICI3são adicionados, e a mistura de reação é agitada por 1 hora à temperaturaambiente. 4,84 g (44 mmols) de 4 são adicionados a esta solução, e a mistu-ra de reação é aquecida até uma temperatura de reação de 90°C. Após duashoras, a massa de reação é arrefecida à temperatura ambiente, e a massa éresfriada pela adição de 200 ml de HCI a 2N. O produto 5 é precipitado comocristais e filtrado. Os cristais são lavados em 200 ml de metanol, separadospor filtração, e secos a 70°C. O produto 5 é isolado em rendimento de 85%.

Ponto de fusão de 5:>310°C.

Exemplo 3:

8 g (16,1 mmols) de 5 e 4,9 g de carbonato de potássio são dissolvidos em50 ml de dimetil-formamida. A solução é aquecida até T=100°C e, em segui-da, 6,83 g (35 mmols) de 6 são adicionados. A mistura de reação é mantidapor três horas nesta temperatura e, em seguida, arrefecida à temperaturaambiente, e hidrolizada pela adição de 20 ml de água. O produto 7 é precipi-tado como cristais, e purificado por cromatografia de coluna (sílica-gel, tolu-eno como eluente). Após purificação, o produto 7 é isolado como fração emrendimento de 40%. Ponto de fusão de 7: 190-200°C; UVA/is (CHCI3):Àmáx(s): 298,5 (41311), 361,5 (55791), 400 (25461), 436 (1972).

Exemplo 4:

<formula>formula see original document page 53</formula>

5 g (10 mmols) de 5 e 50 mg de brometo de trifenil-fosfônio são dissolvidosem 20 ml de dimetil-formamida. A mistura de reação é aquecida a uma tem-peratura de reação de T=100°C. 3,7 g (20mmols) de 8 é adicionado em por-ções, e a mistura de reação é mantida a T=105°C até que todo epóxido 8seja reagido. A mistura de reação é arrefecida à temperatura ambiente, dilu-ída com CH2CI2, e a fase orgânica é lavada com água. A fase orgânica éseca sobre MgSO4, e o solvente é destilado. A mistura de produto consisteem Produto 9a (76%) e o produto 9b (15%). O produto 9a é purificado porcromatografia de coluna (sílica-gel, tolueno como eluente), e obtido comofração com um rendimento de 73 %. Ponto de fusão de 9a: 170-175°C;UVA/is (CHCI3): XmUs): 299 (46400), 358.5 (53700), 400 (26000).

O produto 9b é isolado como primeira fração pela cromatografiade coluna acima (Rf=0,18, tolueno) com um rendimento de 12%. 9b: óleo;UV/Vis (CHCI3): λ™χ(ε): 293 (41400), 345 (36700), 400 (22000).

Exemplo 5:

<formula>formula see original document page 53</formula>

9,2 g (0,05 mol) de 1 e 20,2 g (0,1 mol) de 2 são dissolvidos em 250 ml declorobenzeno. A solução é arrefecida a uma temperatura de T=0-5°C, e den-tro de 15 minutos 14,7 g de AICI3 são adicionados em porções a esta solu-ção. Uma suspensão é formada, que é agitada por duas horas a uma tempe-ratura de reação de abaixo de 5°C. A mistura de reação é aquecida atéT=50°C até que todo pireno 2 seja reagido. A mistura de reação com inter-mediário 10 é arrefecida abaixo de T=50°C, e outros 11 g de AICI3 são adi-cionados, e a mistura de reação é agitada por 30 minutos. Em seguida, 11 gde 4 são adicionados, e a temperatura de reação é elevada para T=105°C.Após a reação ser completada, a massa de reação é arrefecida à temperatu-ra ambiente, e a massa é resfriada por adição de 200 ml de HCL a 2N. Oproduto H é precipitado e filtrado. Os cristais são lavados em 200 ml de me-tanol, separados por filtração, e secos a 70°C. O produto ΛΛ é obtido em ren-dimento de 66%. Ponto de fusão de H:>300°C.

Exemplo 6:

<formula>formula see original document page 54</formula>

5 g (8,5 mmols) de H e 50 g de brometo de trifenil-fosfônio sãodissolvidos em 10 ml de dimetil-formamida. A mistura de reação é aquecidaaté uma temperatura de reação de T=140°C. 3,05 g (16 mmols) de 8 é adi-cionado em porções, e a mistura de reação é mantida a T=140°C até que areação seja terminada. A mistura de reação é arrefecida à temperatura am-biente, e o produto é precipitado em 200 ml de etanol. O produto bruto é pu-rificado por cromatografia de coluna (sílica-gel, tolueno como eluente). Oproduto 12 é obtido como fração na forma de cristais com um rendimento de54%. Ponto de fusão de 12: 245-250°C; UV/Vis (CHCI3): λ™χ(ε): 295,5(55700), 377 (54115), 400 (49500).Exemplo 7:

<formula>formula see original document page 55</formula>

9,25 g (50 mmol) de 1 e 10,1 g (50 mmols) de 13 são dissolvidos em 100 mlde benzeno. A solução é arrefecida a uma temperatura de 0-5°C, e, dentrode 60 minutos, 7,5 g de AICI3 são adicionados em porções a esta solução. Asolução é formada, que é agitada por vinte horas, enquanto a mistura dereação é aquecida até temperatura ambiente. A suspensão é precipitada em200 ml de metanol frio, e o produto 14 é isolado como cristais. Os cristaisisolados são dispersos em 200 ml de HCI a 2N por outra uma hora a T=O-5°C. Os cristais do produto 14 são filtrados e lavados com água, e finalmenterecristaIizados de tolueno. O produto 14 é obtido na forma de cristais comum rendimento de 85%. Ponto de fusão de 14: 230-240°C.

Exemplo 8:

<formula>formula see original document page 55</formula>

6 g (17 mmols) de 14 são dissolvidos em 120 ml de nitrobenze-no, 5 g de AICI3 são adicionados, e a mistura de reação é agitada por 1 horaà temperatura ambiente. 4,15 g (37 mmols) de 4 são adicionados a esta so-lução, e a mistura de reação é aquecida até uma temperatura de reação de90°C. Após dezoito horas, a massa de reação é arrefecida à temperaturaambiente, e a massa é resfriada por adição de 200ml de HCI a 2N. O produ-to 15 é precipitado como cristais, e filtrado. Os cristais são lavados em 200ml de metanol, separados por filtração, e secos a 70°C. O produto 15 é re-cristalizado a partir de dimetil-formamida quente, e obtido em rendimento de74%. Ponto de fusão de 15:>300°C.Exemplo 9:

<formula>formula see original document page 56</formula>

5 g (10 mmols) de 15 e 3,04 g de carbonato de potássio são dis-solvidos em 40 ml de dimetil formamida. A solução é aquecida até uma tem-peratura de 100°C e, em seguida, 4,7 g (24 mmols) de 6 são adicionados. Amistura de reação é mantida até que todo 6 seja reagido e, em seguida, ar-refecida à temperatura ambiente, e hidrolizada por adição de 20 ml de água.O produto é extraído por CH2CI2. Após destilação dos solventes, o produtobruto 16 é purificado por cromatografia de coluna (sílica-gel, tolueno, acetatode etila como eluentes), e obtido como fração em rendimento de 42%. Pontode fusão de 16: 110-115°C; UV/Vis (CHCI3): Xmáx(s): 308.5 (37952), 364(55348), 400 (16054), 436 (436).

Exemplo 10:

<formula>formula see original document page 56</formula>

10 g (0,054 mol) de 1 e 23,5 g (0,116 mol) de 13 são dissolvidosem 300 ml de clorobenzeno. A solução é arrefecida a uma temperatura deT=0-5°C, e dentro de 30 minutos 14,8 g de AICI3 são adicionados em por-ções a esta solução. Uma suspensão é formada imediatamente, que é agi-tada por três horas a uma temperatura de reação de abaixo de 5o. A misturade reação é, em seguida, aquecida até T=60°C até que todo o fluoranteno13 seja reagido. A mistura de reação contendo o intermediário 17 é arrefeci-da a uma temperatura de T=60°C. Em seguida, 7,2 g de AICI3 são adiciona-dos, e a mistura de reação é agitada por 15 minutos. Em seguida, 8,9 g(8 mmols) de 4 são adicionados a esta solução, e a mistura de reação é a-quecida até uma temperatura de reação de T=90°C. Após a reação sercompletada, a massa de reação é resfriada à temperatura ambiente, e amassa é resfriada por adição de 200 ml de HCI a 2N. O produto 18 é precipi-tado e filtrado. Os cristais coloridos marrons são lavados em 200 ml de me-tanol, separados por filtração, e secos a 70°C. O produto 18 é obtido emrendimento de 41 %. Ponto de fusão de 18: 280-285°C.

Exemplo 11:

<formula>formula see original document page 57</formula>

5 g (8,5 mmols) de 18 e 30 mg de brometo de trifenil-fosfôniosão dissolvidos em 20 ml de dimetil-formamida. A mistura de reação é aque-cida a uma temperatura de reação de T=100°C. 7,2 g (25 mmols) de epóxido7,8 (misturas de isômero) de 8 é adicionado em porções, e a mistura de rea-ção é elevada a uma temperatura de T=140°C. A mistura de reação é manti-da a esta temperatura por três horas. A mistura de reação é arrefecida àtemperatura ambiente, diluída com tolueno (quente), e a fase orgânica é la-vada com água. A fase orgânica é seca sobre MgSO4, e o solvente é desti-lado. O produto bruto 19 é purificado por cromatografia de coluna (sílica-gel,tolueno como eluente), e obtido como fração em rendimento de 34%. Pontode fusão de 19:190-195°C; UV/Vis (CHCI3): We): 273 (43550), 307,5(45823), 343,5 (37000), 375 (50360), 400 (35050).Exemplo 12:

<formula>formula see original document page 58</formula>

5 g (10 mmols) de 5 e 2,9 g de carbonato de potássio são dis-solvidos em 7 ml de dimetil-formamida. A solução é aquecida até T=100°C,e, em seguida, 5,6 g (21 mmols) de 21, diluído em 15 ml de tolueno, são adi-cionados à mistura de reação. A mistura de reação é mantida por três horasa esta temperatura e, em seguida, arrefecida à temperatura ambiente, e hi-drolizada por adição de 20 ml de água. A fase orgânica é separada e evapo-rada. O produto bruto 22 é purificado por cromatografia de coluna (sílica-gel,tolueno/acetato de etila como eluente). Após purificação, o produto 22 é iso-lado como fração em rendimento de 46%. Ponto de fusão de 22: 146-152°C;UVA/is (CHCI3): λ™χ(ε): 298.5 (47521), 359 (50775), 365 (48007), 400(25601), 436 (3421).

Exemplo 13:

<formula>formula see original document page 58</formula>

O composto 3 é preparado similarmente ao Exemplo 1: 9,31 g(0,05 mol) de 1 são dissolvidos em 100 ml de diclorobenzeno. A solução éarrefecida a uma temperatura de T=0-5°C, e, dentro de 30 minutos, 20,2 gde AICI3 (0,15 mol) são adicionados em porções a esta solução. Uma sus-pensão é formada, e 10 g (0,05mol) de 2 dissolvido em 40 ml de dicloroben-zeno são adicionados dentro de 1 hora, uma suspensão negra é formada,que é agitada por 2 horas a uma temperatura de reação de abaixo de 0o. 10g (0,05mol) de 13 dissolvidos em 40 ml de diclorobenzeno são adicionadosdentro de 1 hora à mistura de reação contendo o intermediário 3. A misturade reação é, em seguida, aquecida até T=25°C, e após 1 hora aquecida atéT=80°C até que todo 3 seja reagido. À mistura de reação contendo o inter-mediário 23, 6,11 g (0,05 mol) de 4 são adicionados, e a mistura de reação éaquecida até T=120°C. Após a reação ser completada, a massa de reação éaquecida à temperatura ambiente, e a massa é resfriada por adição de 200ml de HCI a 2N. O produto 24 é precipitado e filtrado. Os cristais são lavadosem 200 ml de metanol, separados por filtração, e secos a 70°C. O produto24 é obtido em rendimento de 3%. Ponto de fusão de 24: 308-311 °C.

Exemplo 14

<formula>formula see original document page 59</formula>

0,5 g (0,8 mmols) de 24 e 0,12 g de carbonato de potássio sãodissolvidos em 2 ml de dimetil-formamida. A solução é aquecida atéT=100°C e, em seguida, 0,23 g (0,86 mmol) de 21^ diluído em 3ml de tolue-no, são adicionados à reação. A mistura de reação é mantida por três horasnesta temperatura e, em seguida, arrefecida à temperatura ambiente, e hi-drolizada por adição de 20 ml de água. Estas duas fases são separadas eevaporadas. O produto bruto 25 é purificado por cromatografia de coluna(sílica-gel, tolueno/acetato de etila como eluente). Após purificação, o produ-to 25 é isolado em rendimento de 30%. Ponto de fusão de 25: 136-142°C;UV/Vis (CHCI3): λ™χ: 298.5, 359, 365, 400, 436.

Exemplo 15: Preparação de material de partida

<formula>formula see original document page 59</formula>

10 g (55 mmols) de 26 são dissolvidos em 80 ml de nitrobenze-no, 20 g de água é adicionado. A esta solução, 3,9 g (38 mmols) de brometode sódio e 2,4 g (16 mmols) de bromato de sódio são adicionados. A misturade reação é arrefecida a T= 0°C, e 11 g (25 mmols) de ácido sulfúrico sãoadicionados dentro de 7 horas. Em seguida, a temperatura é aquecida àtemperatura ambiente, e agitada por 3 horas. O produto 27 é isolado por ex-tração com 100 ml de diclorometano, e a fase orgânica é lavada três vezescom 30 ml de água. O produto 27 é evaporado e purificado por cromatogra-fia de coluna (sílica-gel, heptano como eluente). O produto 27 é isolado emrendimento de 54% como óleo.

Exemplo 16: preparação de material de partida:

<formula>formula see original document page 60</formula>

5,1 g (20 mmols) de 27 é dissolvido em 100 ml de dioxano, e 14,9 g (65mmols) de DDQ (4,5-dicloro-3,6-dioxo-1,4-ciclo-hexadieno-1,2-dicarbonitrila)é adicionado. Uma suspensão negra é formada, e a mistura de reação é a-quecida até T= 10O0C1 e agitada por 24 horas. A mistura de reação é arrefe-cida à temperatura ambiente e filtrada. O produto 28 é isolado por evapora-ção, e purificado por cromatografia de coluna (sílica-gel, heptano como elu-ente). O produto 28 é isolado em rendimento de 67% como cristais incolores.

Ponto de fusão de 28: 84-88°C

Exemplo 17: preparação de material de partida:

<formula>formula see original document page 60</formula>

0,6 g (24 mmols) de magnésio é suspenso em 10 ml de tetra-hidrofurano. Uma solução de 2,1 g (8,2 mmols) de 28 dissolvida em 10 ml detetra-hidrofuran é adicionada dentro de 30 minutos, e a temperatura é manti-da por 2 horas a 80°C. Este intermediário de Grignard é, em seguida, arrefe-cido à temperatura ambiente, filtrado e adicionado dentro de 30 minutos auma suspensão fria (O0C) de 1,5 g (8,2 mmols) de 1 em 10 mi de tetra-hidrofurano. Uma suspensão negra é formada e agitada por 24 horas. A mis-tura de reação é arrefecida à temperatura ambiente, e o produto 29 é isoladopor filtração. O sólido é mantido em gelo e extraído com diclorometano; afase orgânica é evaporada e seca a 70°C. O produto 29 é isolado em rendi-mento de 27% como pó. Ponto de fusão de 29 : >240°C.

Exemplo 18:

<formula>formula see original document page 61</formula>

0,4 g (1,2 mmol) de 29 é suspenso em 3 ml de clorobenzeno, e0,3 g (2,35 mmols) de AICI3 é adicionado. Após 30 minutos de agitação, 0,3g (2,25 mmols) de 4 é adicionado, e a reação é aquecida até 90°C até quetodo 29 seja reagido. A massa de reação é arrefecida à temperatura ambien-te, e a massa é resfriada por adição de 10 ml de HCI a 2N. O produto 30 éprecipitado e filtrado. O produto bruto 30 é purificado por cromatografia decoluna (sílica-gel, tolueno/tetra-hidrofurano como eluente), e obtido em ren-dimento de 70%. Ponto de fusão de 30: >295°C.

Exemplo 19:

0,5 g (11 mmols) de 30 e 0,18 g de carbonato de potássio são dissolvidosem 3 ml de dimetil-formamida. A solução é aquecida até uma temperatura de100°C e, em seguida, 0,35 g (1,3 mmol) de 21 é adicionado. A mistura dereação é mantida nesta temperatura até que 30 é reagido e, em seguida,arrefecido à temperatura ambiente, e hidrolizada por adição de 20 ml de á-gua. O produto é extraído por CH2CI2- Após destilação dos solventes, o pro-duto bruto 31 é purificado por cromatografia de coluna (sílica-gel, tolueno,acetato de etila como eluentes) e obtido em rendimento de 63%. UV/Vis(CHCI3): Xmáx: 308,5, 364, 400, 436.

Exemplos de aplicação

Exemplo 20: foto-permanência

A foto-permanência dos presentes absorvedores de UV é avali-ada conforme segue:

Os presentes absorvedores de UV são incorporados em um re-vestimento claro de acril de termocura/melamina (baseado em Viacryl® SC303 / Viacryl® SC 370 / Maprenal® MF 650) em uma concentração de 3%baseada no teor de sólidos da formulação (teor de sólidos: 50,4%). O reves-timento claro é pulverizado em placas de vidro resultando em uma espessurade película seca do revestimento claro de 20 μιη após cura (130°C/30 Minutos).

Antes da exposição das espécimes, os espectros de absorção deUV são registrados usando-se um espectrômetro de UV/VIS (Perkin Elmer,Lamda 40). Referência: revestimento claro de acril não-estabilizado/melamina.Subseqüentemente, as espécimes são expostas em um climatômetro Xenon-WOM (Atlas Corp.) de acordo com SAE J 1960. A percentagem de absorve-dor de UV retida (determinada em λ máx.) sob exposição, é monitorada peloregistro do espectro de UV após intervalos de exposição regulares. Os resul-tados testes são resumidos na Tabela 1:

Tabela 1: foto-permanência de absorvedores de UV reivindicados duranteexposição em Xe-WOM em comparação a referências comerciais

<table>table see original document page 62</column></row><table>1)TINUVIN® 384

2)TINUVIN® 928

3)TINUVIN® 400

4) SANDUVOR® 3206

Exemplo 21:

Em outro exemplo, dois revestimentos claros são aplicados naparte superior um do outro. O primeiro revestimento claro (Revestimento cla-ro I) é estabilizado e aplicado conforme descrito em maiores detalhes no E-xemplo 20. Um segundo revestimento claro de acril de termocura/melamina(baseado em Viacryl® SC 303/Viacryl® SC 370/Maprenal® MF 650) é sub-seqüentemente pulverizado no primeiro revestimento claro, resultando emuma espessura de película seca do segundo revestimento claro (revestimen-to claro II) de 40 pm após cura (130°C/30 minutos). O segundo revestimentoclaro é estabilizado usando-se uma combinação de absorvedor de UV de 3%de TINUVIN® 109/1,5% TINUVIN® 400 e 1% de TINUVIN® 152 como coes-tabilizador (HALS). Referência: primeiro revestimento claro não-estabilizado.Conforme descrito no Exemplo 20, os espectros de transmissão de UV sãoregistrados antes da exposição das espécimes usando-se um espectrômetrode UV/VIS (Perkin Elmer, Lamda 40). Subseqüentemente, as espécimes sãoexpostas em um climatômetro Xenon-WOM (Atlas Corp.) de acordo comSAE J 1960. Os valores de transmissão (determinados em 394 nm) comouma função do período de exposição, são monitorados pelo registro do es-pectro de transmissão após intervalos de exposição regulares. Os resultadostestes são resumidos na Tabela 2A e 2B:

Tabela 2A: valores de transmissão (determinados a 394 nm) como uma fun-ção de intervalos de exposição durante exposição a Xe-WOM.

<table>table see original document page 63</column></row><table><table>table see original document page 64</column></row><table>

Tabela 2B: valores de transmissão (determinados a 388nm) como uma fun-ção dos intervalos de exposição durante exposição a Xe-WOM.

<table>table see original document page 64</column></row><table>

Exemplo 22: adesão de revestimentos claros aplicados em eletro-reves-timentos

Conforme descrito em maiores detalhes no Exemplo 21, duascamadas de revestimento claro subsequentes são aplicadas no topo de pai-néis de alumínio eletrorevestidos (ED 6950A, 10x30cm), conforme comerci-almente disponíveis de ACT Laboratories (ACT Laboratories, Inc., Southfield,Michigan 48 075, USA). Referências: a) ambas camadas de revestimentoclaro não-estabilizadas, b) segundo revestimento claro estabilizado com a-condicionamento de absorvedor de UV existente baseado em TINUVIN®109/ TINUVIN® 400, isto é, corte em toda luz UV entre 300 - 385 nm.

Subseqüentemente, as espécimes são expostas em um clima-tômetro Xenon-WOM (Atlas Corp.) de acordo com SAE J 1960. A adesãoentre os revestimentos claros e o eletro-revestimento sensível à luz é deter-minada em intervalos regulares por hachura cruzada (ISO 2409), seguidopor teste de fita. Os resultados testes são resumidos na Tabela 3:

Tabela 3:

<table>table see original document page 65</column></row><table>

NOTA: Gt 0 de acordo com ISO 2409 = melhor (nenhuma perda de adesão)Gt 5 = pior (delaminação completa)Formulação de revestimento claro:

a) Viacryl SC 3031 27,51 g(65% de solução em xileno/butanol, 26:9 peso./peso.)

b) Viacryl SC 3702 23,34g(75% em Solvesso 10O3)

c) Maprenal MF 6504 27,29g(55% em isobutanol)

d) Butilacetato / butanol (37:8 peso./peso.) 4,33g

e) Isobutanol 4,87g

f) Solvesso 1505 2,72g

g) Óleo de cristal 306 8,74g

h) Baysilone MA7 (1 % em Solvesso 150) 1,20g

Total 100,00g

Matéria-primas:

1 Viacryl SC 303: resina acrílica (Solutia, primeiramente Vianova Resins)

2 Viacryl SC 370: resina acrílica (Solutia, primeiramente Vianova Resins)

3 Solvesso 100: hidrocarboneto aromático, bp. 163-180°C (Exxon Corp.)

4 Maprenal MF 650: resina de melamina (Solutia, primeiramente VianovaResins)

5 Solvesso 150: hidrocarboneto aromático, bp. 180-203°C (Exxon Corp.)

6 Óleo de cristal 30: hidrocarboneto alifático, bp. 145- 200°C (Shell Corp.)

7 Baysilone MA: agente de nivelamento (BayerAG)

Claims (20)

1. Composto, caracterizado pelo fato de que apresenta a fórmula<formula>formula see original document page 67</formula>na qualE1 é um sistema de anel fundido carbocíclico aromático substitu-ído ou não-substituído compreendendo pelo menos 3 anéis;E2 é, independentemente definido conforme definido para Ei; oué uma naftila substituída ou não-substituída; ou é um sistema de anel heteroaromático substituído ou não-substituído compreendendo um ou mais anéis;ou corresponde à fórmula<formula>formula see original document page 67</formula>R1 é H, Ci-C24alquil, C2-Ci8alquenil, C5-Ci2cicloalquil, C7-Cis fe-nilalquil, fenil, ou a referida fenila ou a referida fenilalquila substituída no anelfenila por CrC8alquila; ou OR3;R2 é H, CrCi8alquila; C2-C6alquenila; fenila; fenila substituída porC1-C8 alquila ou por CrC8alcóxi; C7-Cnfenilalquila; C5-Ci2cicloalquila; COOR4;CN; NH2, NHR7, -N(R7)(R8)1 NH-CO-R5; halogênio; CrCi8haloalquila; C1-C18alcóxi; -S-R3 ou -O-R3;R3 é independentemente H, CrC18alquila; C5-C12cicloalquila; C3-Ci8alquenila; fenila; CrC18alquil que é substituída por fenil, OH1 CrCi8alcoxi, C5-C12 cicloalcoxi, C3-Ci8alqueniloxi, halogênio, -COOH, -COOR4, -O-CO-R5,-O-CO-O-R6l -CO-NH2, -CO-NHR7, -CO-N(R7)(R8)1 CN, NH2, NHR7l -N(R7)(R8)1 -NH-CO-R5, fenóxi, fenóxi CrC18alquil-substituído, fenil-CrC4-alcoxi, C6-C15 bicicloalcoxi, C6-C15bicicloalquil-alcóxi, C6-C15bicicloalquenil-alcóxi e/ou por C6-C15tricicloalcóxi; C5-C12cicloalquila que é substituída porOH, C1-Otalquil, C2-C6alquenila e/ou por -O-CO-R5; -CO-R9 ou -SO2-R10; ouC3-C5oalquila que éinterrompida por um ou mais átomos de oxigênio e é não-substituída ousubstituído por OH1 fenóxi e/ou por C7-Ci8alquilfenóxi; ou -A; -CH2-CH(XA)-CH2-O-Ri2; -CRi3Ri3'-(CH2)m-X-A;-CH2-CH(OA)-Ri4; -CH2-CH(OH)-CH2-XA; A ^Y^cfVn-CRI5Ri5'-C(=CH2)-RI5"; -CRi3Ri3-(CH2)m-CO-X-A;-CR13Ri3'-(CH2)m-C0-0-CRi5Ri5'-C(=CH2)-R15" ou -C0-0-CR15R15-C(=CH2)-R15";A é -CO-CRi6=CH-Ri7;R4 é independentemente CrCi8alquila; C3-Ci8alquenila; C7-Cnfenilalquila; C5-Ci2cicloalquila; ou C3-C50alquila que é interrompida por um oumais de -O-, -NH-, -NR7- e -S- e é não-substituída ou substituída por OH1fenóxi e/ou por C7-Ci8alquilfenóxi; ou C2-Ci2hidroxialquila;R5 é independentemente H; C1-C1SaIquiIa; CrCi8alquila substitu-ida por COOH ou por COOR4; C2-C18alquenila; C2-C18alquenila substituídapor COOH ou por COOR4; C5-C12cicloalquila; fenila; C7-Cnfenilalquila;C6-C15 bicicloalquila; C6-C15bicicloalquenila; ou C6-Ci5tricicloalquila;R6 é independentemente CrCi8alquila; C3-C18alquenila; fenila; CrCnfenilalquila; ou C5-Ci2cicloalquila;R7 e R8 são independentemente C-i-Ci2alquila; C3-C12alcoxial-quila; C4-Ci6dialquilaminoalquila; ou C5-Ci2cicloalquila; ou juntos para formarC3-C9-alquileno, -oxa-alquileno ou -aza-alquileno;R9 é independentemente C1-Ciealquila; C2-C18alquenila; fenila;C5-C12cicloalquila; C7-Cnfenilalquila; C6-C15bicicloalquil, C6-C15bicicloalquil-alquil, C6-C15bicicloalquenil, ou C6-C15tricicloalquila;R10 é independentemente CrC12alquila; fenila; naftila ou C7-C14alquilfenila;R11 e R22 são independentemente H; C-i-C18alquila; C3-C6-alquenila; C5-C12cicloalquila; fenila; naftila; bifenilila; CrC^fenilalquila; C7-C14 al-quilfenila; halogênio; CrC18haloalquila; ou CrC18alcóxi;R12 é independentmente CrC18alquila; C3-Ciealquenila; fenila;fenila substituída por um a três dos radicais CrC8alquil, CrC8alcoxi, C3-C8alqueniloxi, halogênio e trifluormetila; C7-Ciifenilalquila; C5-Ci2cicloalquila; C6-Ci5tricicloalquila; C6-C15bicicloalquila; C6-C15bicicloalquil-alquila; C6-C15bicicloal-quenil-alquila; -CO-R5; ou C3-C50alquila que é interrompida por um ou maisde -O-, -NH-, -NR7- e -S- e é não-substituída ou substituída por OH1 fenóxie/ou por C7-Ci8alquilfenóxi;R13 e R13' são independentemente H; CrC18alquila; ou fenila;R14 é independentemente CrC18alquila; C3-C12alcoxialquila; feni-la; ou fenil-C1-C4alquila;R15, R15' e R15" são independentemente H ou CH3;R16 é independentemente H; -CH2-COO-R4; CrC4alquila; ou CN;R17 é independentemente H; -COOR4; CrC17alquila; ou fenila;R22' tem um dos significados de R11; ou é NH2, NHR7, NH-CO-R5; -S-R3, -N(R7)(R8) ou OR3;X é independentemente -NH-; -NR7-; -O-; -NH-(CH2)p-NH-; ou -O-(CH2)q-NH-;e os índices são como segue:m é um número de O a 19;η é um número de 1 a 8;ρ é um número de O a 4; eq é um número de 2 a 4.

2. Composto de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pe-lo fato de que<formula>formula see original document page 69</formula>E1 é a fórmulaou<formula>formula see original document page 70</formula> E2 é independentemente conforme definido para Ei ou corres-ponde à fórmula <formula>formula see original document page 70</formula> R25 e R27 são independentemente conforme definido para R22;R23, R24 e R26 são independentemente conforme definido para R22'.

3. Composto de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pe-lo fato de queR1 é H1 CrC24alquil, C2-Ci8alquenil, C5-Ci2cicloalquil, C7-Ci5 fe-nilalquil, fenil, ou referida fenila ou referida fenilalquila substituída no anelfenil por CrC8alquila; ou OR3;R2 é H, CrCi8alquila; C2-C6alquenila; fenila; fenila substituída porCrC8 alquila ou por CrC8alcóxi; NH-CO-R5; halogênio; CrC18haloalquila;CrC-I8 alcóxi; ou OR3;R3 é independentemente H, CrCi8alquila; C5-Ci2cicloalquila; C3-Ci8alquenila; fenila; CrCi8alquil que é substituído por fenil, OH1 CrCi8alcoxi,C5-C12 cicloalcoxi, C3-C18alqueniloxi, halogênio, -COOH, -COOR4, -O-CO-R5,-O-CO-O-R6, -CO-NH2, -CO-NHR7, -CO-N(R7)(R8), CN1 NH2, NHR7, -N(R7)(R8)1 -NH-CO-R5, fenóxi, fenóxi CrC18alquil-substituído e/ou por fenil-C1-C4alcóxi; C5-C12cicloalquila que é substituída por OH, CrC4alquil, C2-C6alquenila e/ou por -O-CO-R5; ou -SO2-Ri0; ou C3-C50alquil que é interrompi-do por um ou mais átomos de oxigênio e é não-substituída ou substituída porOH1 fenóxi e/ou por C7-Ci8alquilfenóxi; ou -CO-CH=CH2 ou -CO-C(CH3)=CH2;R4 é independentemente CrCi8alquila; C3-C18alquenila; C7-Cnfenilalquila; C5-Ci2cicloalquila; ou C3-C50alquil que é interrompido por um oumais de -O-, -NH-, -NR7- e -S- e é não-substituído ou substituído por OH1fenóxi e/ou por C7-Ci8alquilfenóxi; or C2-Ci2hidroxialquila;R5 é independentemente H; CrCi8alquila; C2-C18alquenila; C5-Ci2cicloalquila; fenila; ou C7-Cnfenilalquila;R6 é independentemente CrCi8alquila; C3-Ci8alquenila; fenila; CrCnfenilalquila; ou C5-Ci2cicloalquila;R7 e R8 são independentemente Ci-Ci2alquila; C3-C12alcoxi-alquila; C4-C16dialquilaminoalquila; ou ciclo-hexila; ou juntos formam C3-C9-alquileno ou -oxa-alquileno;R10 é independentemente CrCi2alquila; fenila; naftila ou C7-Ci4alquilfenila;R11 e R22 são independentemente H1 CT-C^fenilalquila ouC1-Csalquila;R22' é independentemente H; CrC8alquila; C3-C6alquenila; C7-C11fenilalquila; C5-C12cicloalquila; fenila; naftila; bifenilila; C7-C14alquilfenila; NHR7;-N (R7)(R8); halogênio; CrC18haloalquila; ou OR3.

4. Composto de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pe-lo fato de que:R1 é H1 CrC24alquil, C2-C18alquenil, C5-C12cicloalquil, C7-C15 fe-nilalquil, fenil, ou a referida fenila ou a referida fenilalquila substituída no anelfenila por CrC8alquila; ou OR3;R2 é H1 CrC8alquila; fenila; fenila substituída por metila ou pormetóxi; NH-CO-R5; trifluormetila; CrCi8alcóxi; ou OR3;R3 é independentemente H, CrCi8alquila; ciclo-hexila; C3-Ci8alquenila; CrCi8alquila que é substituída por fenil, OH1 CrC18alcoxi, ciclo-hexiloxi, halogênio, -COOH1 -COOR4, -O-CO-R5, -CO-NHR7, -CO-N(R7)(R8)1CN1 NHR7l -N(R7)(R8)1 -NH-CO-R5 e/ou por fenil-CrC4alcóxi; ou ciclo-hexilque é substituído por OH1 CrC4alquil, C2-C6alquenila e/ou por-O-CO-R5;R4 é independentemente CrCi8alquila; C7-Ciifenilalquila; C5-Ci2cicloalquila; ou C2-Ci2hidroxialquila;R5 é independentemente H; CrCi8alquila; C2-C8alquenila; ciclo-hexila; fenila; ou C7-Cnfenilalquila;R7 e R8 são independentemente C3-Ci2alquila ou ciclo-hexila; oujuntos para formar C3-C9oxa-alquileno;R11 e R22 são independentemente H1 C7-Cnfenilalquila ouC1-C8alquila;R22' é independentemente H; CrC8alquila; C3-C6alquenila; C7-Cnfenilalquila; C5-Ci2cicloalquila; trifluormetila; fenila; naftila; bifenilila; C7-C14-alquilfenila; NHR7; -N(R7)(R8); ou OR3.

5. Composto de acordo com a reivindicação 2, caracterizado pe-lo fato de que:<formula>formula see original document page 73</formula>E2' é independentemente conforme definido para E1' ou corres-ponde à fórmulaR1 é H1 CrC12alquila ou OR3;R2 é H, C1-Csalquila; ou OR3;R3 é independentemente H1 CrC18alquila; ou CrC12alquila que ésubstituída por OH1 CrC18alcoxi, COOR4 e/ou por -O-CO-R5;R4 é independentemente C1-C1SaIquiIa;R5 é independentemente H; CrC18alquila; ou Cy-C^fenilalquila;R11 é H; eR22' é H1 metila ou OR3.

6. Composição estabilizada contra degradação induzida por luz,caracterizada pelo fato de que compreende(a) um material orgânico sujeito à degradação induzida por luz, e(b) um composto de fórmula (I), como definido na reivindicação 1.

7. Composição de acordo com a reivindicação 6, caracterizadapelo fato de que compreende outros aditivos.

8. Composição, de acordo com a reivindicação 7, caracterizadapelo fato de que compreende como aditivos adicionais antioxidantes fenóli-cos e/ou amínicos, estabilizadores de amina estericamente retardada, ab-sorvedores diferentes daqueles da fórmula (I), como definida na reivindica-ção 1, fosfitos, fosfonitos, benzofuranonas, estearatos de metal, óxidos demetal, pigmentos, corantes, compostos de organofósforo, hidroxilaminase/ou retardadores de chama.

9. Composição, de acordo com a reivindicação 7, caracterizadapelo fato de que compreende como aditivos adicionais estabilizadores deamina estericamente impedida e/ou absorvedores de UV selecionados a par-tir do grupo consistindo nas oxanilidas, as hidroxibenzofenonas, os benzoa-tos, os α-cianoacrilatos, os benzotriazóis e as s-triazinas diferentes daquelasda fórmula (I), como definida na reivindicação 1.

10. Composição de acordo com a reivindicação 6, caracterizadapelo fato de que o material orgânico é um material de registro.

11. Composição de acordo com a reivindicação 6, caracterizadapelo fato de que o material orgânico é um polímero natural, semissintético ousintético.

12. Composição de acordo com a reivindicação 6, caracterizadapelo fato de que o material orgânico é uma composição de revestimento.

13. Composição de acordo com a reivindicação 12, caracteriza-da pelo fato de que a composição de revestimento é uma composição derevestimento automotivo.

14. Composição de acordo com a reivindicação 13, caracteriza-da pelo fato de que o revestimento automotivo compreende as seguintescamadasd) um revestimento catodicamente depositado, aderindo a umsubstrato de metal;e) pelo menos uma camada de revestimento subsequente con-tendo um composto da fórmula (I), como definido na reivindicação 1, aderin-do ao revestimento catodicamente depositado; ef) um revestimento superior claro contendo um ou mais absorve-dores de UV diferentes daqueles de fórmula (I), e opcionalmente outros es-tabilizadores de luz.

15. Composição de acordo com a reivindicação 12, caracteriza-da pelo fato de que a composição de revestimento é aplicada em um subs-trato, que é sensível à radiação eletromagnética de comprimentos de ondamaiores do que 380 nm.

16. Composição de acordo com a reivindicação 6, caracterizadapelo fato de que o composto de fórmula (I) está presente em uma quantida-de de a partir de 0,1% a 30% por peso, com base no peso do material orgânico.

17. Processo para a estabilização de um material orgânico con-tra a influência danosa de luz UV e/ou visível, caracterizado pelo fato de quecompreende mistura e/ou aplicação ao referido material como estabilizadorde um composto da fórmula (I), como definido na reivindicação 1.

18. Processo de acordo com a reivindicação 17, caracterizadopelo fato de que o material orgânico é um revestimento.

19. Processo de acordo com a reivindicação 18, caracterizadopelo fato de que o revestimento é um revestimento automotivo.

20. Processo de acordo com a reivindicação 17, caracterizadopelo fato de que o material orgânico é um revestimento automotivo compre-endendog) aplicação de um revestimento catodicamente depositando,aderindo a um substrato de metal;h) incorporação em pelo menos um revestimento que adere aorevestimento catodicamente depositado de um composto de fórmula (I) co-mo definido na reivindicação 1; ej) aplicação de uma camada superior clara sobre o revestimentoque adere ao revestimento catodicamente depositado, cuja camada superiorclara contém um ou mais absorvedores de UV diferentes daqueles de fórmu-la (I) e opcionalmente outros estabilizadores de luz.