BRPI0707355A2 - uso de aminas secundárias estericamente impedidas como aditivos de processamento em processos de rotomoldagem - Google Patents

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BRPI0707355A2
BRPI0707355A2 BRPI0707355-0A BRPI0707355A BRPI0707355A2 BR PI0707355 A2 BRPI0707355 A2 BR PI0707355A2 BR PI0707355 A BRPI0707355 A BR PI0707355A BR PI0707355 A2 BRPI0707355 A2 BR PI0707355A2
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Abstract

USO DE AMINAS SECUNDáRIAS ESTERICAMENTE IMPEDIDAS COMO ADITIVOS DE PROCESSAMENTO EM PROCESSOS DE ROTOMOLDAG EM. A presente invenção refere-se ao uso de aminas secundárias estericamente impedidas como aditivos de processamento em processos de moldagem rotacional. Esses aditivos aumentam a estabilidade de processo, uma vez que eles proporcionam uma faixa de temperatura mais ampla, tendendo à temperaturas maiores, durante a etapa de processamento por fusão.

Description

Relatório Descritivo da Patente de Invenção para "USO DEAMINAS SECUNDÁRIAS ESTERICAMENTE IMPEDIDAS COMO ADITI-VOS DE PROCESSAMENTO EM PROCESSOS DE ROTOMOLDAGEM".
A presente invenção refere-se ao uso de aminas secundáriasestericamente impedidas como aditivos de processamento em processos demoldagem rotacional. Esses aditivos aumentam a estabilidade de processo,uma vez que eles proporcionam uma faixa de temperatura mais ampla ten-dendo a maiores temperaturas durante a etapa de processamento por fusão.
Moldagem rotacional é uma opção de fabricação altamente ver-sátil que permite possibilidades de projeto ilimitadas, com o benefício adicio-nal de baixos custos de produção.
O processo de moldagem rotacional (processo de rotomolda-gem) começa com um molde de boa qualidade que é colocado em uma má-quina de moldagem que tem uma área de carregamento, aquecimento e res-friamento.
Vários moldes podem ser colocados sobre a máquina ao mesmotempo. Resina plástica pré-medida é carregada em cada molde e, então, osmoldes são movidos para o forno, onde eles são lentamente girados sobre oeixo vertical e horizontal. A resina fundida adere ao molde quente e revestecada superfície uniformemente. O molde continua a girar durante o ciclo deresfriamento, de modo que as partes retêm uma espessura uniforme deparede.
Uma vez que as partes são esfriadas, elas são liberadas domolde. A velocidade rotacional, aquecimento e tempos de resfriamento po-dem ser controlados por todo o processo.
Moldagem rotacional oferece vantagens de design com relaçãoa outros processos de moldagem. Com design apropriado, as partes que sãomontadas a partir de vários pedaços podem ser moldadas como uma parte,eliminando custos de fabricação caros.
O processo também tem uma série de resistências de designinerentes, tais como parede de espessura consistente e fortes bordas exter-nas que são virtualmente isentas de tensão. Se resistência adicional érequerida, estrias de reforço podem ser projetadas na parte.
Moldagem rotacional confere ao produto as considerações doprojetista. Projetistas podem selecionar o melhor material para sua aplica-ção, incluindo materiais que vão de encontro aos requisitos do FDA. Aditivospara ajudar a tornar a parte resistente à condições do tempo, com retardo dechama ou isenta de estática podem ser especificados.
E, em virtude do fato de as partes serem formadas com calor erotação, ao invés de pressão, os moldes não precisam ser manipulados parasuportar a alta pressão da moldagem por injeção.
Os custos de produção para conversões de produto são reduzi-dos porque plásticos de peso leve substituem os materiais mais pesados,freqüentemente mais caros, o que dota a moldagem rotacional com um cus-to eficaz para protótipos de um-tipo, uma vez que ela é para operações degrande produção.
Moldagem rotacional é versátil e capaz de lidar com uma vastavariedade de formatos e tamanhos. Muitas partes não podem ser pronta-mente produzidas através de qualquer outro método. Exemplos típicos sãotanques especiais e recipientes para combustível, água e processamentoquímico, canal alimentador para animais de criação, sistemas de drenagem,recipientes para guardar alimentos, estojos de instrumentos, máquinas devenda, barreiras para auto-estrada e marcadores de estradas. Outras áreasde aplicação são produtos para o consumidor, brinquedos e transporte. Mui-tos aspectos do processo de moldagem rotacional são, por exemplo, descri-tos por R. J. Crawford e J. L. Throne em Rotational Molding Technology,Plastics Design Library, William Andrew Publishing, 2001.
Conforme mencionado acima, a velocidade rotacional, temposde aquecimento e resfriamento podem todos ser controlados no decorrer doprocesso. A temperatura máxima do ar, a qual é atingida dentro do artigomoldado oco, depende fortemente do tempo de aquecimento. Essa tempera-tura é também denominada temperatura de ar de pico interno (PIAT). Ela secorrelaciona com a temperatura da resina fundida.
O conceito de temperatura de ar de pico interno (PIAT) e asconseqüências, se uma PIAT muito baixa ou muito alta é aplicada é, por e-xemplo, descrito por M. C. Cramez e et al. em Proc. Instn Mech. Engrs. Vol.217 Parte B: J. of Engineering Manufacture, 2003.
A temperatura de ar de pico interno pode influenciar as proprie-dades finais do produto moldado. Por exemplo, se a temperatura se tornamuito alta, um forte amarelamento pode ocorrer e também as propriedadesmecânicas são negativamente afetadas, por exemplo, a seqüência ao im-pacto diminui significativamente. Se a temperatura permanece muito baixa,as propriedades finais também podem ser adversamente afetadas em virtu-de do fato de as resinas não terem sido apropriadamente fundidas. Em ou-tras palavras, há apenas uma pequena faixa de temperatura para obtençãodas propriedades finais desejadas. Portanto, é de alto interesse ampliar essafaixa de temperatura ou janela de processamento, dentro da qual proprieda-des mecânicas quase constantes são obtidas.
Botkin e et al. em "An additive approach to cycle time reductionin rotational molding" Rotational Molding by Design Conference, Society ofPlastics Engineers, 2004, demonstraram que, usando um estabilizador deprocesso privado, a PIAT pode ser desviada para temperaturas menores,mantendo boa resistência ao impacto. Isso corresponde à ampliação da ja-nela de processamento para temperaturas menores.
Surpreendentemente, descobriu-se agora que, quando um com-posto de amina secundária impedida é adicionado à formulação de resina,uma janela de processamento significativamente mais ampla tendendo altastemperaturas é obtida sem afetar adversamente a cor e propriedades mecâ-nicas do artigo moldado.
Conseqüentemente, um aspecto da invenção é o uso de umcomposto de amina secundária estericamente impedida como aditivo deprocessamento para ampliação da janela de processamento a temperaturasde ar de pico interno maiores em processos de moldagem rotacional de po-límeros termoplásticos.
Por janela de processamento aqui entende-se a faixa de tempe-ratura, conforme medido através do método de ar interno de pico (PIAT),dentro da qual as propriedades mecânicas e/ou a cor do artigo moldadopermanecem essencialmente os mesmos. Uma propriedade mecânica parti-cularmente adequada a ser medida é a resistência ao impacto, por exemplo,em baixas temperaturas. Baixa temperatura significa, nesse contexto, de O0Ca -50°C, particularmente -20°C a -40°C.
Por exemplo, a amina estericamente impedida é um compostocontendo pelo menos um grupo da fórmula (I) ou (II):
<formula>formula see original document page 5</formula>
na qual:
* indica uma ligação
G é hidrogênio ou metila e
G1 e G2, independentemente um do outro, são hidrogênio, metilaou juntos são um substituinte =0.
Por exemplo, a amina estericamente impedida é um compostocontendo pelo menos um grupo da fórmula (Ia):
<formula>formula see original document page 5</formula>
Os compostos de amina estericamente impedida são conhecidose amplamente usados como estabilizadores térmicos ou de luz para políme-ros. Eles estão comercialmente disponíveis ou podem ser preparados con-forme descrito, por exemplo, em:
US-A-5.679.733, US-A-3.640.928, US-A-4.198.334, US-A-5.204.473, US-A-4.619.958, US-A-4.110.306, US-A-4.110.334, US-A-4.689.416, US-A-4.408.051, SU-A-768.175 (Derwent 88-138.751/20), US-A-5.049.604, US-A-4.769.457, US-A-4.356.307, US-A-4.619.956, US-A-5.182.390, GB-A-2.269.819, US-A-4.292.240, US-A-5.026.849, US-A-5.071.981, US-A-4.547.538, US-A-4.976.889, US-A-4.086.204, US-A-6.046.304, US-A-4.331.586, US-A-4.108.829, US-A-5.051.458, WO-A-94/12.544 (Derwent 94-177.274/22), DD-A-262.439 (Derwent89-122.983/17), US-A-4.857.595, US-A-4.529.760, US-A-4.477.615, CAS136.504-96-6, US-A-4.233.412, US-A-4.340.534, WO-A-98/51.690 e EP-A-1.803, as descrições das quais são incorporadas aqui por referência.
Preferidos são os seguintes compostos comerciais.
Chimassorb 2020®, Chimassorb 944®, Tinuvin 770® e Tinuvin783®, Cyasorb UV 3346®, Cyasorb UV 3581®, Dastib 845®, Dastib 1082®,Diacetam 5, Fero 806-X®, Goodrite 3034®, Goodrite 3150®, HALS IC-TAM,Hostavin N 20®, Hostavin N 24®, Hostavin N 30®, Hüls S-95®, ICI PA 500®,Lichtschutzstoff UV 31, Luchem HA-B 18®, Mark LA 55®, Mark LA 57®, MarkLA 67®, Mark LA 68®, Sanduvor 3050®, Sumilizer 61®, Sumilizer 70®, Suimi-sorb TM 61®, UVASORB HA 88®, Uvinul 4049®, Uvinul 5050®, Uvasil 299®,Uvasil 125®.
Esses compostos estão comercialmente disponíveis e são des-critos na: US-A-5.679.733, US-A-3.640.928, US-A-5.204.473, US-A-4.619.958, US-A-4.110.306, US-A-4.110.334, US-A-4.689.416, US-A-4.408.051, SU-A-768.175 (Derwent 88-138.751/20), US-A-5.049.604, US-A-4.769.457, US-A-4.356.307, US-A-4.619.956, US-A-5.182.390, GB-A-2.269.819, US-A-4.292.240, US-A-5.026.849, US-A-5.071.981, US-A-4.547.538, US-A-4.976.889, US-A-4.086.204, US-A-6.046.304, US-A-4.331.586, US-A-4.108.829, US-A-5.051.458, WO-A-94/12.544 (Derwent 94-177.274/22), DD-A-262.439 (Derwent 89-122.983/17), US-A-4.857.595, US-A-4.529.760, US-A-4.477.615 (CAS 136.504-96-6), US-A-4.340.534, WO-A-98/51.690. EP-A-1.803, as descrições dos quais são incorporadas porreferência.
O composto de amina estericamente impedida de acordo com ainvenção é, de preferência, adicionado em uma quantidade de 0,01 a 5%,mais preferivelmente de 0,05 a 2% e, ainda mais preferivelmente, de 0,1 a1% em peso, baseado no peso do polímero termoplástico.
Por exemplo, o polímero termoplástico é uma poliolefina, um clo-reto de polivinila ou uma poliamida. Exemplos são fornecidos abaixo.
1. Polímeros de monoolefinas e diolefinas, por exemplo, polipro-pileno, poliisobutileno, polibut-1-eno, poli-4-metilpent-1-eno, polivinilciclohe-xano, poliisopreno ou polibutadieno, bem como polímeros de cicloolefinas,por exemplo, de ciclopenteno ou norborneno, polietileno (o qual pode seropcionalmente reticulado), por exemplo, polietileno de alta densidade (HD-PE), polietileno de alta densidade e elevado peso molecular (HDPE-HMW),polietileno de alta densidade e peso molecular ultra-alto (HDPE-UHMW),polietileno de média densidade (MDPE), polietileno de baixa densidade (LD-PE), polietileno linear de baixa densidade (LLDPE), (VLDPE) e (ULDPE).Poliolefinas, isto é, os polímeros de monoolefinas exemplificadosno parágrafo precedente, de preferência polietileno e polipropileno, podemser preparadas através de diferentes métodos e, especialmente, através dosseguintes:
a) polimerização de radical (normalmente sob alta pressão e emtemperatura elevada);
b) polimerização catalítica usando um catalisador que normalmentecontém um ou mais de um metal dos grupos IVb, Vb, Vlb ou Vlll da TabelaPeriódica. Esses metais usualmente têm um ou mais de um ligante, tipica-mente óxidos, haletos, alcoolatos, ésteres, éteres, aminas, alquilas, alqueni-las e/ou arilas que podem ser π- ou σ-coordenadas. Esses complexos demetal podem estar na forma livre ou fixada sobre substratos, tipicamentesobre cloreto de magnésio ativado, cloreto de titânio (III), alumina ou oxidode silício. Esses catalisadores podem ser solúveis ou insolúveis no meio depolimerização. Os catalisadores podem ser usados em si na polimerizaçãoou outros ativadores podem ser usados, tipicamente, alquilas de metal, hi-dretos de metal, haletos de alquila de metal, óxidos de alquila de metal oualquiloxanos de metal, os referidos metais sendo elementos dos grupos Ia,Ila e/ou Illa da Tabela Periódica. Os ativadores podem ser modificados con-vencionalmente com outros grupos éster, éter, amina ou silil éter. Esses sis-temas de catalisador são usualmente denominados catalisadores de Phillips,Standard Oil Indiana, Ziegler (-Natta), TNZ (DuPont), metaloceno ou únicosítio (SSC).2. misturas dos polímeros mencionados sob 1), por exemplo,misturas de polipropileno com poliisobutileno, polipropileno com polietileno(por exemplo, PP/HDPE, PP/LDPE) e misturas de diferentes tipos de polieti-leno (por exemplo, LDPE/HDPE).
3. Copolímeros de monoolefinas e diolefinas umas com as ou-tras ou com outros monômeros de vinila, por exemplo, copolímeros de etile-no/propileno, polietileno linear de baixa densidade (LLDPE) e misturas dosmesmos com polietileno de baixa densidade (LDPE), copolímeros de propi-leno/but-1-eno, copolímeros de propileno/isobutileno, copolímeros de etile-no/but-1-eno, copolímeros de etileno/hexeno, copolímeros etile-no/metilpenteno, copolímeros de etileno/hepteno, copolímeros de etile-no/octeno, copolímeros de etileno/vinilciclohexano, copolímeros de etile-no/cicloolefina (por exemplo, etileno/norborneno, tal como COC), copolíme-ros de etileno/1-olefinas, onde a 1-olefina é gerada in situ; copolímeros depropileno/butadieno, copolímeros isobutileno/isopreno, copolímeros de etile-no/vinilciclohexeno, copolímeros de etileno/alquil acrilato, copolímeros deetileno/alquil metacrilato, copolímeros de etiIeno/acetato de vinila ou copolí-meros de etileno/ácido acrílico e seus sais (ionômeros), bem como terpolí-meros de etileno com propileno e um dieno, tais como hexadieno, diciclopen-tadieno ou etilideno-norborneno; e misturas de tais copolímeros uns com osoutros e com polímeros mencionados em 1) acima, por exemplo, copolíme-ros de polipropileno/etileno-propileno, copolímeros de LDPE/etileno-acetatode vinila (EVA), copolímeros de LDPE/etileno-ácido acrílico (EAA), LLD-PE/EVA, LLDPE/EAA e copolímeros alternados ou aleatórios de polialquile-no/monóxido de carbono e misturas dos mesmos com outros polímeros, porexemplo, poliamidas.
4. Poliamidas e copoliamidas derivadas de diaminas e ácidosdicarboxílicos e/ou de ácidos aminocarboxílicos ou os Iactames correspon-dentes, por exemplo, poliamida 4, poliamida 6, poliamida 6/6, 6/10, 6/9, 6/12,4/6, 12/12, poliamida 11, poliamida 12, poliamidas aromáticas começando apartir de m-xileno diamina e ácido adípico; poliamidas preparadas a partir dehexametilenodiamina e ácido isoftálico e/ou tereftálico e com ou sem um e-lastômero como modificador, por exemplo, tereftalamida de poli-2,4,4,-trimetilhexametileno ou isoftalamida de poli-m-fenileno e também copolíme-ros em blocos das poliamidas antes mencionadas com poliolefinas, copolí-meros de olefina, ionômeros ou elastômeros enxertados ou quimicamenteligados; ou com poliéteres, por exemplo, com polietileno glicol, polipropilenoglicol ou politetrametileno glicol; bem como poliamidas ou copoliamidas mo-dificada com EPDM ou ABS; e poliamidas condensadas durante processa-mento (sistemas de poliamida RIM).
Preferência particular é dada a polietileno, de preferência polieti-leno linear de baixa densidade (LLDPE).
Por exemplo, a faixa de temperatura de ar de pico interno emprocessos de moldagem rotacional é ampliada para até 10 a 50°C, de prefe-rência até 15 a 40°C, para temperaturas maiores. A referência sendo sem aadição de uma amina estericamente impedida.
De preferência, a faixa de temperatura de ar de pico interno é de210 a 250°C, mais preferivelmente de 215 a 250°C e, ainda mais preferivel-mente, de 220 a 250°C.
A faixa de temperatura acima corresponde à janela de proces-samento preferida, dentro da qual as propriedades mecânicas e/ou a cor doartigo não são adversamente afetadas.
Em uma modalidade específica da invenção, um estabilizanteadicional selecionado do grupo consistindo em um absorvente de UV1 umaamina estericamente impedida diferente daquela da fórmula (I) ou (II), umantioxidante fenólico, uma fosfita ou fosfonita e uma benzofuranona ou indo-linona está presente.
Exemplos para os aditivos mencionados acima são fornecidosabaixo.
1. Antioxidantes
1.1. Monofenóis alguilados. por exemplo 2,6-di-terc-butil-4-metilfenol, 2-terc-butil-4,6-dimetilfenol, 2,6-di-terc-butil-4-etilfenol, 2,6-di-terc-butil-4-n-butilfenol, 2,6-di-terc-butil-4-isobutilfenol, 2,6-diciclopentil-4-metil-fenol, 2-(a-metilciclohexil)-4,6-dimetilfenol, 2,6-dioctadecil-4-metilfenol, 2,4,6-triciclohexilfenol, 2,6-di-terc-butil-4-metoximetilfenol, nonilfenóis os quais sãolineares ou ramificados nas cadeias laterais, por exemplo, 2,6-di-nonil-4-metilfenol, 2,4-dimetil-6-(1 '-metilundec-1 '-il)fenol, 2,4-dimetil-6-(1 '-metilhepta-dec-1 '-il)fenol, 2,4-dimetil-6-(1 '-metiltridec-1 '-il)fenol e misturas dos mesmos.
1.2. Alquiltiometilfenóis. por exemplo, 2,4-dioctiltiometil-6-terc-butilfenol, 2,4-dioctiltiometil-6-metilfenol, 2,4-dioctiltiometil-6-etilfenol, 2,6-di-dodeciltiometil-4-nonilfenol.
1.3. Hidroquinonas e hidroquinonas alquiladas. por exemplo, 2,6-di-terc-butil-4-metoxifenol, 2,5-di-terc-butilhidroquinona, 2,5-di-terc-amilhidro-quinona, 2,6-difenil-4-octadeciloxifenol, 2,6-di-terc-butilhidroquinona, 2,5-di-terc-butil-4-hidroxianisol, 3,5-di-terc-butil-4-hidroxianisol, estearato de 3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenila, adipato de bis(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenila).
1.4. Tocoferóis, por exemplo a-tocoferol, β-tocoferol, γ-tocoferol,δ-tocoferol e misturas dos mesmos (vitamina E).
1.5. Tiodifenil éteres hidroxilados. por exemplo, 2,2'-tiobis(6-terc-butil-4-metilfenol), 2,2'-tiobis(4-octilfenol), 4,4'-tiobis(6-terc-butil-3-metilfenol),4,4'-tiobis(6-terc-butil-2-metilfenol), 4,4'-tiobis(3,6-di-sec-amilfenol), dissulfetode 4,4'-bis(2,6-dimetil-4-hidroxifenila).
1.6. Alquilidenobisfenóis. por exemplo, 2,2'-metilenobis(6-terc-butil-4-metilfenol), 2,2'-metilenobis(6-terc-butil-4-etilfenol), 2,2'-metilenobis[4-metil-6-(a-metilciclohexil)fenol], 2,2'-metilenobis(4-metil-6-ciclohexilfenol), 2,2'-metilenobis(6-nonil-4-metilfenol), 2,2'-metilenobis(4,6-di-terc-butilfenol), 2,2'-etilidenobis(4,6-di-terc-butilfenol), 2,2'-etilidenobis(6-terc-butil-4-isobutilfenol),2,2'-metilenobis[6-(a-metilbenzil)-4-nonilfenol], 2,2'-metilenobis[6-(a,a-dimetil-benzil)-4-nonilfenol], 4,4'-metilenobis(2,6-di-terc-butilfenol), 4,4'-metilenobis(6-terc-butil-2-metilfenol), 1,1-bis(5-terc-butil-4-hidróxi-2-metilfenil)butano, 2,6-bis(3-terc-butil-5-metil-2-hidroxibenzil)-4-metilfenol, 1,1,3-tris(5-terc-butil-4-hidróxi-2-metilfenil)butano, 1,1 -bis(5-terc-butil-4-hidróxi-2-metil-fenil)-3-n-dode-cilmercaptobutano, bis[3,3-bis(3'-terc-butil-4'-hidroxifenil)butirato] de etilenoglicol, bis(3-terc-butil-4-hidróxi-5-metil-fenil)diciclopentadieno, tereftalato debis^-ÍS^terc-butil^^hidróxi-õ^metilbenziO-e-terc-butil^-metilfenila], 1,1 -bis-(3,5-dimetil-2-hidroxifenil)butano, 2,2-bis(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenil)pro-pano, 2,2-bis(5-terc-butil-4-hidróxi2-metilfenil)-4-n-dodecilmercaptobutano,1,1,5,5-tetra-(5-terc-butil-4-hidróxi-2-metilfenil)pentano.
1.7. Compostos de O-, N- e S-benzila. por exemplo, 3,5,3',5'-tetra-terc-butil^^-dihidroxidibenzil éter, mercaptoacetato de octadecil-4-hidróxi-3,5-dimetilbenzila, mercaptoacetato de tridecil-4-hidróxi-3,5-di-terc-butilbenzila, tris(3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzil)amina, ditiotereftalato debis(4-terc-butil-3-hidróxi-2,6-dimetilbenzila), sulfeto de bis(3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzila), mercaptoacetato de isooctil-3,5-di-terc-butií-4-hidroxibenzila.
1.8. Malonatos hidroxibenzilados. por exemplo, malonato de di-octadecil-2,2-bis(3,5-di-terc-butil-2-hidroxibenzila), malonato de di-octadecil-2-(3-terc-butil-4-hidróxi-5-metilbenzila), malonato de di-dodecilmercaptoetil-2,2-bis (3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzila), malonato de bis[4-(1,1,3,3-tetrametilbutil)fenil]-2,2-bis(3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzila).
1.9. Compostos aromáticos de hidroxibenzila. por exemplo 1,3,5-tris(3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzil)-2,4,6-trimetilbenzeno, 1,4-bis(3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzil)-2,3,5,6-tetrametilbenzeno, 2,4,6-tris(3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzil)fenol.
1.10. Compostos de triazina. por exemplo, 2,4-bis(octilmer-capto)-6-(3,5-di-terc-butil-4-hidroxianilino)-1,3,5-triazina, 2-octilmercapto-4,6-bis(3,5-di-terc-butil-4-hidroxianilino)-1,3,5-triazina, 2-octilmercapto-4,6-bis-(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenóxi)-1,3,5-triazina, 2,4,6-tris(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenóxi)-1,2,3-triazina, isocianurato de 1,3,5-tris(3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzila), isocianurato de 1,3,5-tris(4-terc-butil-3-hidróxi-2,6-dimetilbenzila), 2,4,6-tris(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifeniletil)-1,3,5-triazina,1,3,5-tris(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenilpropionil)-hexahidro-1,3,5-triazina, iso-cianurato de 1,3,5-tris(3,5-diciclohexil-4-hidroxibenzila).
1.11. Benzilfosfonatos. por exemplo, dimetil-2,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzilfosfonato, dietil-3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzilfosfonato, diocta-decil3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzilfosfonato, dioctadecil-5-terc-butil-4-hidróxi-3-metilbenzilfosfonato, o sal de cálcio do monoetil éster de ácido 3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzilfosfônico.1.12. Acilaminofenóis, por exemplo, 4-hidroxilauranilida, 4-hidroxiestearanilida, N-(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenil)carbamato de octila
1.13. Esteres de ácido B-(3.5-di-terc-butil-4-hidroxifenil)pro-piônico com álcoois mono- ou poliídricos, por exemplo, com metanol, etanol,n-octanol, i-octanol, octadecanol, 1,6-hexanodiol, 1,9-nonanodiol, etileno Qli-col,. 1,2-propanodiol, neopentil glicol, tiodietileno glicol, dietileno glicol, trieti-Ieno glicol, pentaeritritol, isocianurato de tris(hidroxietila), N1N1-bis(hidroxietil)oxamida, 3-tiaundecanol, 3-tiapentadecanol, trimetilhexanodiol,trimetilolpropano, 4-hidroximetil-1-fosfa-2,6,7-trioxabiciclo[2.2.2]octano.
1.14. Esteres de ácido B-(5-terc-butil-4-hidróxi-3-metilfenil)pro-piônico com álcoois mono- ou poliídricos, por exemplo, com metanol, etanol,n-octanol, i-octanol, octadecanol, 1,6-hexanodiol, 1,9-nonanodiol, etileno gli-col, 1,2-propanodiol, neopentil .glicol, tiodietileno glicol, dietileno glicol, trieti-leno glicol, pentaeritritol, isocianurato de tris(hidroxietila), N1N1-bis(hidroxietil)oxamida, 3-tiaundecanol, 3-tiapentadecanol, trimetilhexanodiol,trimetilolpropano, 4-hidroximetil-1 -fosfa-2,6,7-trioxabiciclo[2.2.2]octano; 3,9-bis[2-{3-(3-terc-butil-4-hidróxi-5-metilfenil)propionilóxi}-1,1 -dimetiletil]-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecano.
1.15. Esteres de ácido B-(3.5-diciclohexil-4-hidroxifenil)propiô-nico com álcoois mono- ou poliídricos, por exemplo, com metanol, etanol,
• octanol, octadecanol, 1,6-hexanodiol, 1,9-nonanodiol, etileno glicol, 1,2-propanodiol, neopentil glicol, tiodietileno glicol, dietileno glicol, trietileno gli-col, pentaeritritol, isocianurato de tris(hidroxietila), N,N'-bis(hidroxietil)oxa-mida, 3-tiaundecanol, 3-tiapentadecanol, trimetilhexanodiol, trimetilolpropa-no, 4-hidroximetil-1 -fosfa-2,6,7-trioxabiciclo[2.2.2]octano.
1.16. Esteres de ácido 3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenil acético comálcoois mono- ou poliídricos, por exemplo, com metanol, etanol, octanol, oc-tadecanol, 1,6-hexanodiol, 1,9-nonanodiol, etileno glicol, 1,2-propanodiol,neopentil glicol, tiodietileno glicol, dietileno glicol, trietileno glicol, pentaeritri-tol, isocianurato de tris(hidroxietila), N,N'-bis(hidroxietil)oxamida, 3-tiaunde-canol, 3-tiapentadecanol, trimetilhexanodiol, trimetilolpropano, 4-hidroximetil-1 -fosfa-2,6,7-trioxabiciclo[2.2.2]octano.1.17. Amidas de ácido B-(3.5-di-terc-butil-4-hidroxifenil)propiô-nico, por exemplo, N,N'-bis(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenilpropionil)hexame-tilenodiamida, N.N^bisíS.S-di-terc-butil-^hidroxifenilpropioniOtrimetileno-diamida, N,N'-bis(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenilpropionil)hidrazida, N,N'-bis[2-
(3-[3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenil]propionilóxi)etil]oxamida (Naugard®XL-1,fornecido pela Uniroyal).
1.18. Ácido ascórbico (vitamina C).
1.19. Antioxidantes amínicos. por exemplo, Ν,Ν'-di-isopropil-p-fenilenodiamina, Ν,Ν'-di-sec-butil-p-fenilenodiamina, N,N'-bis(1,4-dimetilpen-til)-p-fenilenodiamina, N,N'-bis(1-etil-3-metilpentil)-p-fenilenodiamina, N,N'-bis(1 -metilheptil)-p-fenilenodiamina, N,N'-diciclohexil-p-fenilenodiamina, N1N1-difenil-p-fenilenodiamina, N,N'-bis(2-naftil)-p-fenilenodiamina, N-isopropil-N'-fenil-p-fenilenodiamina, N-(1,3-dimetilbutil)-N'-fenil-p-fenilenodiamina, N-(1 -metilheptil)-N'-fenil-p-fenilenodiamina, N-ciclohexil-N'-fenil-p-fenilenodiamina,4-(p-tolueno-sulfamoil)difenilamina, N,N'-dimetil-N,N'-di-sec-butil-p-fenileno-diamina, difenilamina, N-alildifenilamina, 4-isopropoxidifenilamina, N-fenil-1-naftilamina, N-(4-terc-octilfenil)-1-naftilamina, N-fenil-2-naftilamina, difenila-mina octilada, por exemplo, ρ,ρ'-di-terc-octildifenilamina, 4-n-butilaminofenol,4-butirilaminofenol, 4-nonanoilaminofenol, 4-dodecanoilaminofenol, 4-octa-decanoilaminofenol, bis(4-metoxifenil)amina, 2,6-di-terc-butil-4-dimetilamino-metilfenol, 2,4'-diaminodifenilmetano, 4,4'-diaminodifenilmetano, N,N1N1,N1-tetrametil-4,4'-diaminodifenilmetano, 1,2-bis[(2-metilfenil)amino]etano, 1,2-bis(fenilamino)propano, (o-tolil)biguanida, bis[4-(1 ',3'-dimetilbutil)fenil]amina,N-fenil-1-naftilamina terc-octilada, uma mistura de terc-butil/terc-octildifenilaminas mono- e dialquiladas, uma mistura de nonildifenilaminasmono- e dialquiladas, uma mistura de dodecildifenilaminas mono- e dialqui-ladas, uma mistura de isopropil/isohexildifenilaminas mono- e dialquiladas,uma mistura de terc-butildifenilaminas mono- e dialquiladas, 2,3-dihidro-3,3-dimetil-4H-1,4-benzotiazina, fenotiazina, uma mistura de terc-butil/terc-octilfenotiazinas mono- e dialquiladas, uma mistura de terc-octil-fenotiazinasmono- e dialquiladas, N-alilfenotiazina, N,N,N',N'-tetrafenil-1,4-diaminobut-2-eno.2. Absorventes de UV e estabilizantes de luz
2.1. 2-(2'-Hidroxifenil)benzotriazóis. por exemplo, 2-(2'-hidróxi-5'-metilfenil)-benzotriazol, 2-(3')5l-di-terc-butil-2'-hidroxifenil)benzotriazol, 2-(5'-terc-butil-2'-hidroxifenil)benzotriazol, 2-(2'-hidróxi-5'-(1,1,3,3-tetrametilbutil)-
fenil)benzotriazol, 2-(3,,5,-di-terc-butil-2'-hidroxifenil)-5-cloro-benzotriazol, 2-(S^terc-butil^^hidróxi-õ^metilfeniO-S-cloro-benzotriazol, 2-(3'-sec-butil-5'-terc-butil-2'-hidroxifenil)benzotriazol, 2-(2,-hidróxi-4'-octiloxifenil)benzotriazol,2-(3,,5'-di-terc-amil-2,-hidroxifenil)benzotriazol, 2-(3',5'-bis-(a,a-dimetilbenzil)-2'-hidroxifenil)benzotriazol, 2-(3'-terc-butil-2,-hidróxi-5'-(2-octiloxicarbonil-etil)-
fenil)-5-cloro-benzotriazol, 2-(3,-terc-butil-5l-[2-(2-etilhexilóxi)-carboniletil]-2'-hidroxifenil)-5-cloro-benzotriazol, 2-(3,-terc-butil-2'-hidróxi-5'-(2-metoxicarbo-niletil)fenil)-5-cloro-benzotriazol, 2-(3'-terc-butil-2'-hidróxi-5'-(2-metoxicarbo-niletil)fenil)benzotriazol, 2-(3'-terc-butil-2'-hidróxi-5'-(2-octiloxicarboniletil)-fenil)benzotriazol, 2-(3'-terc-butil-5,-[2-(2-etilhexilóxi)carboniletil]-2'-hidroxi-
fenil)benzotriazol, 2-(3'-dodecil-2'-hidróxi-5,-metilfenil)benzotriazol, 2-(3'-terc-butil-2l-hidróxi-5,-(2-isooctiloxicarboniletil)fenilbenzotriazol, 2,2'-metileno-bis-[4-(1,1,3,3-tetrametilbutil)-6-benzotriazol-2-ilfenol]; o produto da transesterifi-cação de 2-[3'-terc-butil-5l-(2-metoxicarboniletil)-2'-hidroxifenil]-2H-benzo-triazol com polietileno glicol 300;
[R-CH2CH2-COO-CH2CH2-]2
onde R = 3'-terc-butil-4'-hidróxi-5,-2H-benzotriazol-2-ilfenila, 2-[2'-hidróxi-3'-(a,a-dimetilbenzil)-5'-(1,1,3,3-tetrametilbutil)-fenil]benzotriazol; 2-[2'-hidróxi-S^I.I.S.S-tetrametilbutiO-õ^ía.a-dimetilbenziO-fenillbenzotriazol.
2.2. 2-Hidroxibenzofenonas. por exemplo, os derivados de A-hidróxi, 4-metóxi, 4-octilóxi, 4-decilóxi, 4-dodecilóxi, 4-benzilóxi, 4,2',4'-trihidróxi e 2'-hidróxi-4,4,-dimetóxi.
2.3. Esteres de ácidos benzóicos substituídos e não substituí-dos. por exemplo, salicilato de 4-terc-butil-fenila, salicilato de fenila, salicilatode octilfenila, dibenzoil resorcinol, bis(4-terc-butilbenzoil)resorcinol, benzoilresorcinol, 3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzoato de 2,4-di-terc-butilfenila, 3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzoato de hexadecila, 3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzoatode octadecila, 3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzoato de 2-metil-4,6-di-terc-butilfenila.
2.4. Acrilatos. por exemplo, etil a-ciano-p,p-difenilacrilato, isooctila-ciano-p.p-difenilacrilato, metil α-carbometoxicinamato, metil oc-ciano-β-metil-p-metoxicinamato, butil a-ciano-p-metil-p-metóxi-cinamato, metil oc-car-bometóxi-p-metoxicinamato, N-(a-carbometóxi-p-cianovinil)-2-metilindolina,neopentil tetra(a-ciano-p,p-difenilacrilato.
2.5. Compostos de níquel, por exemplo, complexos de níquel de2,2'-tio-bis[4-(1,1,3,3-tetrametilbutil)fenol], tais como o complexo a 1:1 ou1:2, com ou sem Iigantes adicionais, tais como n-butilamina, trietanolaminaou N-ciclohexildietanolamina, dibutilditiocarbamato de níquel, sais de níqueldos monoalquil ésteres, por exemplo, o metil ou etil éster, de ácido 4-hidróxi-3,5-di-terc-butilbénzilfosfônico, complexos de níquel de cetoximas, por e-xemplo, de 2-hidróxi-4-metilfenilundecilcetoxima, complexos de níquel de 1-fenil-4-lauroil-5-hidroxipirazol, com ou sem Iigantes adicionais.
2.6. Aminas estericamente impedidas, por exemplo, bis(2,2,6,6-tetrametil-4-piperidil)sebacato, bis(2,2,6,6-tetrametil-4-piperidil)succinato, bis-(1,2,2,6,6-pentametil-4-piperidil)sebacato, bis(1 -octilóxi-2,2,6,6-tetrametil-4-piperidil)sebacato, bis(1,2,2,6,6-pentametil-4-piperidil) n-butil-3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzilmalonato, o condensado de 1-(2-hidroxietil)-2,2,6,6-tetrametil-4-hidroxipiperidina e ácido succínico, condensados lineares ou cíclicos deN,N'-bis(2,2,6,6-tetrametil-4-piperidil)hexametilenodiamina e 4-terc-octilami-no-2,6-dicloro-1,3,5-triazina, tris(2,2,6,6-tetrametil-4-piperidil)nitrilotriacetato,tetraquis(2,2,6,6-tetrametil-4-piperidil)-1,2,3,4-butanotetracarboxilato, 1,1'-(1,2-etanodiil)-bis(3,3,5,5-tetrametilpiperazinona), 4-benzoil-2,2,6,6-tetrame-tilpiperidina, 4-estearilóxi-2,2,6,6-tetrametilpiperidina, bis(1,2,2,6,6-pentame-tilpiperidil)-2-n-butil-2-(2-hidróxi-3,5-di-terc-butilbenzil)malonato, 3-n-octil-7,7,9,9-tetrametil-1,3,8-triazaspiro[4.5]decano-2,4-diona, bis(1 -octilòxi-2,2,6,6-tetrametilpiperidil)sebacato, bis(1-octilóxi-2,2,6,6-tetrametilpiperidil)-succinato, condensados lineares ou cíclicos de N,N'-bis(2,2,6,6-tetrametil-4-piperidil)hexametilenodiamina e 4-morfolino-2,6-dicloro-1,3,5-triazina, o con-densado de 2-cloro-4,6-bis(4-n-butilamino-2,2,6,6-tetrametilpiperidil)-1,3,5-triazina e 1,2-bis(3-aminopropilamino)etano, o condensado de 2-cloro-4,6-di-(4-n-butilamino-1,2,2,6,6-pentametilpiperidil)-1,3,5-triazina e 1,2-bis(3-amino-propilamino)etano, 8-acetil-3-dodecil-7,7,9,9-tetrametil-1,3,8-triazaspiro[4,5]-decano-2,4-diona, 3-dodecil-1 -(2,2,6,6-tetrametil-4-piperidil)pirrrolidina-2,5-diona, 3-dodecil-1-(1,2,2,6,6-pentametil-4-piperidil)pirrolidina-2,5-diona, umamistura de 4-hexadecilóxi- e 4-estearilóxi-2,2,6,6-tetrametilpiperidina, umcondensado de N,Nl-bis(2,2,6,6-tetrametil-4-piperidil)hexametilenodiamina e4-ciclohexilamino-2,6-dicloro-1,3,5-triazina, um condensado de 1,2-bis(3-aminopropilamino)etano e 2,4,6-tricloro-1,3,5-triazina, bem como 4-butil-amino-2,2,6,6-tetrametilpiperidina (N2 Reg. CAS [136504-96-6]); um conden-sado de 1,6-hexanodiamina e 2,4,6-tricloro-1,3,5-triazina, bem como N,N-dibutilamina e 4-butilamino-2,2,6,6-tetrametilpiperidina (Ns Reg. CAS[192268-64-7]); N-(2,2,6,6-tetrametil-4-piperidii)-n-dodecil-succinimida, N-(1,2,2,6,6-pentametil-4-piperidil)-n-dodecil-succinimida, 2-undecil-7,7,9,9-tetrametil-1-oxa-3,8-diaza-4-oxo-spiro[4,5]decano, um produto da reação de7,7,9,9-tetrametil-2-cicloundecil-1-oxa-3,8-diaza-4-oxospiro-[4,5]decano eepiclorohidrina, 1,1 -bis(1,2,2,6,6-pentametil-4-piperidiloxicarbonil)-2-(4-metoxifenil)eteno, N,N'-bis-formil-N,N,-bis(2,2,6,6-tetrametil-4-piperidil)hexa-metilenodiamina, um diéster de ácido 4-metoximetiienomalônico com1,2,2,6,6-pentametii-4-hidroxipiperidina, poli[metilpropil-3-óxi-4-(2,2,6,6-tetrametil-4-piperidil)]siloxano, um produto da reação de copolímero de ani-drido de ácido maléico/a-olefina com 2,2,6,6-tetrametil-4-aminopiperidina ou1,2,2,6,6-pentametil-4-aminopiperidina, 2,4-bis[N-(1 -ciclohexilóxi-2,2,6,6-tetrametilpiperidina-4-il)-N-butilamino]-6-(2-hidroxietil)amino-1,3,5-triazina, 1-(2-hidróxi-2-metilpropóxi)-4-octadecanoilóxi-2,2,6,6-tetrametilpiperidina, 5-(2-etilhexanoil)oximetil-3,3,5-trimetil-2-morfolinona, Sanduvor (Clariant; N- Reg.CAS 106917-31-1], 5-(2-etilhexanoil)oximetil-3,3,5-trimetil-2-morfo-linona, oproduto da reação de 2,4-bis[(1 -ciclohexilóxi-2,2,6,6-piperidina-4-il)butilami-no]-6-cloro-s-triazina com N,N'-bis(3-aminopropil)etilenodiamina), 1,3,5-tris-(N-ciclohexil-N-(2,2,6,6-tetrametilpiperazina-3-ona-4-il)amino)-s-triazina,1,3,5-tris(N-ciclohexil-N-(1,2,2,6,6-pentametilpiperazina-3-ona-4-il)amino)-s-triazina.2.7. Oxamidas. por exemplo, 4,4'-dioctiloxioxanilida, 2,2'-dietoxioxanilida, 2,2,-dioctilóxi-5,5,-di-terc-butoxanilida, 2,2'-didodecilóxi-5,5'-di-terc-butoxanilida, 2-etóxi-2'-etiloxanilida, N,N'-bis(3-dimetilaminopropil)-oxamida, 2-etóxi-5-terc-butil-2'-etoxanilida e sua mistura com 2-etóxi-2'-etil-5,4'-di-terc-butoxanilida, misturas de oxanilidas o- e p-metóxi-di-substituídase misturas de oxanilidas o- e p-etóxi-di-substituídas.
2.8. 2-(2-Hidroxifenil)-1,3.5-triazinas. por exemplo, 2,4,6-tris(2-hidróxi-4-octiloxifenil)-1,3,5-triazina, 2-(2-hidróxi-4-octiloxifenil)-4,6-bis(2,4-dimetilfenil)-1,3,5-triazina, 2-(2,4-dihidroxifenil)-4,6-bis(2,4-dimetilfenil)-1,3,5-triazina, 2,4-bis(2-hidróxi-4-propiloxifenil)-6-(2,4-dimetilfenil)-1,3,5-triazina, 2-(2-hidróxi-4-octiloxifenil)-4,6-bis(4-metilfenil)-1,3,5-triazina, 2-(2-hidróxi-4-dode-ciloxifenil)-4,6-bis(2,4-dimetilfenil)-1,3,5-triazina, 2-(2-hidróxi-4-trideciloxifenil)-4,6-bis(2,4-dimetilfenil)-1,3,5-triazina, 2-[2-hidróxi-4-(2-hidróxi-3-butiloxipropó-xi)fenil]-4,6-bis(2,4-dimetil)-1,3,5-triazina, 2-[2-hidróxi-4-(2-hidróxi-3-octiloxi-propilóxi)fenil]-4,6-bis(2,4-dimetil)-1,3,5-triazina, 2-[4-(dodecilóxi/tridecilóxi-2-hidroxipropóxi)-2-hidroxifenil]-4,6-bis(2,4-dimetilfenil)-1,3,5-triazina, 2-[2-hidró-xi-4-(2-hidróxi-3-dodeciloxipropóxi)fenil]-4,6-bis(2,4-dimetilfenil)-1,3,5-triazina,2-(2-hidróxi-4-hexilóxi)fenil-4,6-difenil-1,3,5-triazina, 2-(2-hidróxi-4-metoxifenil)-4,6-difenil-1,3,5-triazina, 2,4,6-tris[2-hidróxi-4-(3-butóxi-2-hidroxipropóxi)fenil]-1,3,5-triazina, 2-(2-hidroxifenil)-4-(4-metoxifenil)-6-fenil-1,3,5-triazina, 2-{2-hidróxi-4-[3-(2-etilhexil-1-óxi)-2-hidroxipropilóxi]fenil}-4,6-bis(2,4-dimeti^1,3,5-triazina, 2,4-bis(4-[2-etilhexilóxi]-2-hidroxifenil)-6-(4-metoxifenil)-1,3,5-triazina.
3. Desativadores de metal, por exemplo, Ν,Ν'-difeniloxamida, N-salicilal-N'-saliciloil hidrazina, N,N'-bis(saliciloil)hidrazina, N,N'-bis(3,5-di-terc-butil-4-hidroxifenilpropionil)hidrazina, 3-saliciloilamino-1,2,4-triazol, bis(ben-zilideno)oxalil dihidrazida, oxanilida, isoftaloil dihidrazida, sebacoil bisfenilhi-drazida, Ν,Ν'-diacetiladipoil dihidrazida, N,N'-bis(saliciloil)oxalil dihidrazida,N,N'-bis(saliciloil)tiopropionil dihidrazida.
4. Fosfitas e fosfonitas. por exemplo, trifenil fosfita, difenilalquilfosfitas, fenildialquil fosfitas, tris(nonilfenil) fosfita, trilauril fosfita, trioctadecilfosfita, diestearilpentaeritritol difosfita, tris(2,4-di-terc-butilfenil) fosfita, diiso-decil pentaeritritol difosfita, bis(2,4-di-terc-butilfenil)pentaeritritol difosfita,bis(2,4-di-cumilfehil)pentaeritritol difosfita, bis(2,6-di-terc-butil-4-metilfenil)-pentaeritritol difosfita, diisodeciloxipentaeritritol difosfita, bis(2,4-di-terc-butil-6-metilfenil)pentaeritritol difosfita, bis(2,4,6-tris(terc-butilfenil)pentaeritritoldifosfita, triestearil sorbitol trifosfita, tetraquis(2,4-di-terc-butilfenil) 4,4'-bifenileno difosfonita, 6-isooctilóxi-2,4,8,10-tetra-terc-butil-12H-dibenz[d,g]-1,3,2-dioxafosfocina, bÍs(2,4-di-terc-butil-6-metilfenil)metil fosfita, bis(2,4-di-terc-butil-6-metilfenil)etil fosfita, 6-flúor-2,4,8,10-tetra-terc-butil-12-metil-dibenz[d,g]-1,3,2-dioxafosfocina, 2,2,,2"-nitrilo[trietiltris(3,3',5,5,-tetra-terc-butil-1,1 '-bifenil-2,2'-diil)fosfita], 2-etilhexil(3,3',5,5'-tetra-terc-butil-1,1'-bifenil-2,2'-diil)fosfita, 5-butil-5-etil-2-(2,4(6-tri-terc-butilfenóxi)-1,3,2-dioxafosfirano.
As seguintes fosfitas são especialmente preferidas:
Tris(2,4-di-terc-butilfenil) fosfita (lrgafos®168, Ciba SpecialtyChemicals Inc.), tris(nonilfenil) fosfita,
<formula>formula see original document page 18</formula>
5. Hidroxilaminas. por exemplo, Ν,Ν-dibenzilhidroxilamina, Ν,N-dietilhidroxilamina, Ν,Ν-dioctilhidroxilamina, Ν,Ν-dilaurilhidroxilamina, N,N-ditetradecilhidroxilamina, N.N-dihexadecilhidroxilamina, N,N-dioctadecilhidroxilamina, N-hexadecil-N-octadecilhidroxilamina, N-heptadecil-
N-octadecilhidroxilamina, Ν,Ν-dialquilhidroxilamina derivada de amina desebo hidrogenada.
6. Nitronas, por exemplo, N-benzil-alfa-fenilnitrona, N-etil-alfa-metilnitrona, N-octil-alfa-heptilnitrona, N-lauril-alfa-undecilnitrona, N-tetradecil-alfa-tridecilnitrona, N-hexadecil-alfa-pentadecilnitrona, N-octadecil-
alfa-heptadecilnitrona, N-hexadecil-alfa-heptadecilnitrona, N-ocatadecil-alfa-pentadecilnitrona, N-heptadecil-alfa-heptadecilnitrona, N-octadecil-alfa-hexadecilnitrona, nitrona derivada de Ν,Ν-dialquilhidroxilamina derivada deamina de sebo hidrogenada.
7. Tio-sineraistas. por exemplo, tiodipropionato de dilaurila, tiodi-propionato de dimiristila, tiodipropionato de diestearila ou dissulfeto de dies-tearila.
8. Seqüestrantes de peróxido, por exemplo, ésteres de ácido β-tiodipropiônico, por exemplo, os lauril, estearil, miristil ou tridecil ésteres,mercaptobenzimidazol ou o sal de zinco de 2-mercaptobenzimidazol, dibutil-ditiocarbamato de zinco, dissulfeto de dioctadecila, tetraquis(P-dodecilmercapto)propionato de pentaeritritol.
9. Estabilizantes de poliamida, por exemplo, sais de cobre emcombinação com compostos de iodetos e/ou fósforo e sais de manganêsdivalente.
10. Co-estabilizantes básicos, por exemplo, melamina, polivinil-pirrolidona, diciandiamida, cianurato de trialila, derivados de uréia, derivadosde hidrazina, aminas, poliamidas, poliuretanos, sais de metal alcalino e saisde metal alcalino terroso de ácidos graxos superiores, por exemplo, esteara-to de cálcio, estearato de zinco, beenato de magnésio, estearato de magné-sio, ricinoleato de sódio e palmitato de potássio, pirocatecolato de antimônioou pirocatecolato de zinco.
11. Agentes de nucleacão, por exemplo, substâncias inorgâni-cas, tais como talco, óxidos de metal, tais como dióxido de titânio ou óxidode magnésio, fosfatos, carbonatos ou sulfatos, de preferência de metais al-calinos-terrosos; compostos orgânicos, tais como ácidos mono- ou policar-boxílicos e os sais dos mesmos, por exemplo, ácido 4-terc-butilbenzóico,ácido adípico, ácido difenilacético, succinato de sódio ou benzoato de sódio;compostos poliméricos, tais como copolímeros iônicos (ionômeros). Especi-almente preferidos são 1,3:2,4-bis(3',4'-dimetilbenzilideno)sorbitol, 1,3:2,4-di(parametildibenzilideno)sorbitol, e 1,3:2,4-di(benzilideno)sorbitol.
12. Agentes de enchimento e reforço, por exemplo, carbonato decálcio, silicatos, fibras de vidro, glóbulos de vidro, amianto, talco, caulim, mi-ca, sulfato de bário, óxidos e hidróxidos de metal, negro-de-fumo, grafita,farinha de madeira e farinhas ou fibras de outros produtos naturais, fibrassintéticas.
13. Outros aditivos, por exemplo, plastificantes, lubrificantes,emulsificantes, pigmentos, aditivos de reologia, catalisadores, agentes paracontrole de fluxo, brangueadores ópticos, agentes a prova de chama, agen-tes anti-estática e agentes de sopro.
14. Benzofuranonas e indolinonas, por exemplo, aguelas divul-gadas na U.S. 4.325.863; U.S. 4.338.244; U.S. 5.175.312; U.S. 5.216.052;U.S. 5.252.643; DE-A-4316611; DE-A-4316622; DE-A-4316876; EP-A-0589839, EP-A-0591102; EP-A-1291384 ou 3-[4-(2-acetoxietóxi)fenil]-5,7-di-terc-butilbenzofuran-2-ona, 5,7-di-terc-butil-3-[4-(2-estearoiloxietóxi)fenil]-benzofuran-2-ona, 3,3'-bis[5,7-cli-terc-butil-3-(4-[2-hidroxietóxi]fenil)benzo-furan-2-ona], 5,7-di-terc-butil-3-(4-etoxifenil)benzofuran-2-ona, 3-(4-acetóxi-3,5-dimetilfenil)-5,7-di-terc-butilbenzofuran-2-ona, 3-(3,5-dimetil-4-pivaloiloxi-fenil)-5,7-di-terc-butilbenzofuran-2-ona, 3-(3,4-dimetilfenil)-5,7-di-terc-butilbenzofuran-2-ona, 3-(2,3-dimetilfenil)-5,7-di-terc-butilbenzofuran-2-ona,3-(2-acetil-5-isooctilfenil)-5-isooctilbenzofuran-2-ona.
Os aditivos acima são, em geral, aplicados em uma quantidadeentre 0,01 e 2% em peso, baseado no peso do polímero termoplástico.
Um outro aspecto da invenção é um método para ampliar a faixade temperatura de pico ótima em processos de moldagem rotacional de po-límeros termoplásticos através do uso de um composto de amina secundáriaestericamente impedida como aditivo de processamento.
Conseqüentemente, é descrito um método para ampliação dajanela de processamento para temperaturas de ar de pico interno maioresem processos de moldagem rotacional de polímeros termoplásticos, métodoo qual compreende incorporação de uma aminá secundária estericamenteimpedida em um polímero termoplástico e sujeição do polímero a um pro-cesso de moldagem rotacional.
Ainda outra modalidade da invenção é um processo para a pro-dução de artigos ocos termoplásticos, processo o qual compreende:
mistura de um polímero termoplástico com uma amina secundá-ria estericamente impedida e
sujeição dessa mistura a um processo de moldagem rotacionalonde a faixa de temperatura de ar de pico interno é de cerca de 215 a cercade 250°C,
em que, quando o polímero termoplástico é polietileno, a aminaimpedida não é um condensado linear ou cíclico de N,N'-bis-(2,2,6,6-tetrametil-4-piperidil)hexametilenodiamina e 4-morfolino-2,6-dicloro-1,3,5-triazina.
Definições e preferências fornecidas acima se aplicam tambémpara o outro aspecto da invenção.
Os exemplos a seguir ilustram a invenção.Exemplo 1: Preparação de artigos ocos de poliolefina através de um proces-so de moldagem rotacional
100 partes de polietileno de média densidade, copolimerizadocom hexeno (índice de fusão nominal de 3,3 g/10 min., densidade de 0,938g/cm3) são misturadas a seco com 0,050 parte de estearato de zinco e umacombinação de estabilizantes adicionais, conforme fornecido na Tabela 1. Asmisturas são compostas por fusão em péletes a 190°C em uma extrusoraSuperior/MPM usando um parafuso L/D de 24:1 com uma cabeça de misturaMaddock a 100 rpm. Os péletes compostos foram triturados em um tamanhode partícula uniforme (150-500 μηι) antes do processo de moldagem rota-cional. Essa etapa de trituração aumenta a área de superfície das partículas,levando a uma absorção mais rápida de calor e, assim, reduzindo o consu-mo de energia global. O processo de moldagem por rotação é realizado emum equipamento em escala para laboratório FSP M20 "Clamshell". A resinatriturada é colocada em um molde de alumínio, o qual é girado biaxialmenteem um forno a gás. Ar quente é circulado por sopradores na câmara, en-quanto a temperatura é aumentada para 2749C. Essa temperatura é mantidadurante um tempo específico, o que proporcionará uma determinada tempe-ratura de ar de pico interno (PIAT), conforme fornecido na Tabela 2. subse-qüentemente, o forno é aberto e, enquanto ainda girando, o molde é esfriado/ com circulação de ar forçada durante 7,3 minutos, seguido por pulverizaçãode uma névoa de água durante 1,5 minutos, resfriamento com ar durante 2minutos, pulverização com água 2,9 minutos e resfriamento com ar 4,4 minu-tos. Por todo os ciclos de aquecimento e resfriamento, a velocidade do eixoprincipal é mantida a 6 rpm com uma proporção de rotação de 4:1. Após osciclos de resfriamento, o molde é aberto e o objeto oco removido.
A faixa de processamento é definida como faixa de temperaturade ar de pico interno (PIAT), na qual uma parte com elevada resistência aoimpacto pode ser produzida. A resistência ao impacto é medida com o méto-do de pesagem Dynatup Falling 11,34 kg/50,8 cm (25 libras/20"") de acordocom a ASTM D-3763 a -40°C.Tabela 1
<table>table see original document page 23</column></row><table>
Tabela 2: Resultados
<table>table see original document page 23</column></row><table>
Os dados indicam claramente que a faixa de processo útil podeser significativamente desviada para temperaturas maiores através do usode compostos de amina secundária estericamente impedida sem sacrificar aresistência ao impacto.
Exemplo 2: Preparação de artigos ocos de poliolefina através de um proces-so de moldagem rotacional
O procedimento fornecido no exemplo 1 foi repetido com outrosaditivos, conforme esboçado na Tabela 3. Os resultados são apresentadosna Tabela 4.Tabela 3
<table>table see original document page 24</column></row><table>
Enquanto que a temperatura de processamento, conforme me-dido pela temperatura de ar de pico interno (PIAT), não deverá exceder a198°C se nenhuma amina estericamente impedida está presente, 210° sãoaceitáveis quando uma amina terciária estericamente impedida está presen-te. Contudo, essa temperatura pode ser ainda estendida para até 2210Cquando, de acordo com a invenção, uma amina secundária estericamenteimpedida tiver sido adicionada.
®lrganox 3114 é um antioxidante fenólico da Ciba SpecialtyChemicals.
®lrgastab FS042 é N,N-di(sebo alquil)hidroxilamina da Ciba Spe-cialty Chemicals.
®lrgafos 168 é uma trisaril fosfita da Ciba Specialty Chemicals.
®Tinuvin 622 é uma amina terciária estericamente impedida daCiba Specialty Chemicals.
®Cyasorb UV 3346 é uma amina secundária estericamente im-pedida da Cytech Industries.
®Chimassorb 944 é uma amina secundária estericamente impe-dida da Ciba Specialty Chemicals.
®Chimassorb 2020 é uma amina secundária esteticamente im-pedida da Ciba Specialty Chemicals.
®Chimassorb 119 é uma amina terciária estericamente impedidada Ciba Specialty Chemicals.
®Hostavin N 30 é uma amina terciária estericamente impedidada Clariant.
®Tinuvin 770 é uma amina estericamente impedida da Ciba Spe-cialty Chemicals.
®Tinüvin 783 é uma mistura de uma amina secundária e terciáriaestericamente impedidas da Ciba Specialty Chemicals.

Claims (11)

1. Uso de um composto de amina estericamente impedida comoaditivo de processamento para ampliar a janela de processamento paratemperaturas de ar de pico interno maiores em processos de moldagem ro-tacional de polímeros termoplásticos.
2. Uso de acordo com a reivindicação 1, em que a amina esteri-camente impedida é um composto contendo pelo menos um grupo da fórmu-la (I) ou (II):<formula>formula see original document page 26</formula>na qual:* indica uma ligaçãoG é hidrogênio ou metila eG1 e G2, independentemente um do outro, são hidrogênio, metilaou juntos são um substituinte =O.
3. Uso de acordo com a reivindicação 2, em que a aminaestericamente impedida é um composto contendo pelo menos um grupo dafórmula (Ia):<formula>formula see original document page 26</formula>
4. Uso de acordo com a reivindicação 1, em que o composto deamina estericamente impedida é adicionado em uma quantidade de 0,01 a 5% em peso, baseado no peso do polímero termoplástico.
5. Uso de acordo com a reivindicação 1, em que o polímero ter-moplástico é uma poliolefina, cloreto de polivinila ou poliamida.
6. Uso de acordo com a reivindicação 1, em que o polímero ter-moplástico é polietileno.
7. Uso de acordo com a reivindicação 1, em que a faixa de tem-peratura de ar de pico interno em processos de moldagem rotacional é am-pliada para até 10 a 50°C, tendendo a temperaturas maiores.
8. Uso de acordo com a reivindicação 1, em que a faixa de tem-peratura de ar de pico interno é de 215 a 250°C.
9. Uso de acordo com a reivindicação 1, em que, no processo demoldagem rotacional, um estabilizante adicional selecionado do grupo con-sistindo em um absorvente de UV1 uma amina estericamente impedida dife-rente daquela da fórmula (I) ou (II), um antioxidante fenólico, uma fosfita oufosfonita e uma benzofuranona ou indolinona está presente.
10. Método para ampliar a janela de processamento para tempe-raturas de ar de pico interno em processos de moldagem rotacional de polí-meros termoplásticos, método o qual compreende incorporação de uma a -mina secundária estericamente impedida em um polímero termoplástico esujeição do polímero a um processo de moldagem rotacional.
11. Método de uso de um composto de amina secundária esteri-camente impedida como aditivo de processamento para ampliação da janelade processamento para temperaturas de ar de pico interno maiores em pro-cessos de moldagem rotacional de polímeros termoplásticos.
BRPI0707355-0A 2006-02-01 2007-01-24 uso de aminas secundárias estericamente impedidas como aditivos de processamento em processos de rotomoldagem BRPI0707355A2 (pt)

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