BRPI0711375A2 - método para fabricar uma placa de impressão litográfica - Google Patents

Abstract

<UM>MéTODO PARA FABRICAR UMA PLACA DE IMPRESSAO LITOGRAFICA <MV>é descrito um método para fabricar uma placa de impressão litográfica que compreende as etapas de: (1) prover um precursor de placa de impressão litográfica sensível ao calor que compreende um suporte que possui uma superfície hidrófila ou que é fornecido com uma camadahidrófila, um revestimento sensível ao calor, dito revestimento compreendendo uma primeira camada que compreende um primeiro polimero que é insolúvel em água e solúvel em álcali, e sobre a primeira camada, uma segunda camada que compreende um segundo polimero que é insolúvel e solúvel em álcali, e um corante absorvente infravermelho, presente pelo menos em uma das primeira e segunda ditas camadas, (2) realizar exposição ímage-wise o precursor com radiação-IR ou calor de modo que a segunda camada exiba umasolubilidade aumentada em uma solução de revelação alcalina aquosa, e (3) revelar o precursor image-wise exposto com uma solução de revelação alcalina aquosa, dita solução compreendendo um sal de metal alcalino ou de amónio de um ácido carboxilico alifátíco, tendo 8 a 11 átomos de carbono. De acordo com o método acima, a formação de produtos insolúveis na solução de revelação é inibida ou reduzida.

Description

"MÉTODO PARA FABRICAR UMA. PIACA DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA"

CAMPO DA INVENÇÃO

A presente invenção refere-se a um método para fabricação de uma placa de impressão litográfica em que um precursor de exposição image-wise é desenvolvido com uma solução alcalina aperfeiçoada.

FUNDAMENTOS DA INVENÇÃO

A impressão litográfica envolve tipicamente o uso de uma assim chamada matriz de impressão tal como uma placa de impressão que seja montada em um cilindro de uma impressora rotativa. A matriz porta uma imagem litográfica em sua superfície e uma cópia é obtida por aplicação de tinta a dita imagem e em seguida transferindo a tinta a partir da matriz para um material receptor, o qual é tipicamente papel. Em impressão litográfica convencional, tinta assim como algumas soluções aquosas de fonte (igualmente chamadas de líquido de umedecimento) são fornecidas à imagem litográfica que consiste de áreas oleofílicas (ou hidrofóbica, isto é, aceitação de tinta, impermeável) assim como áreas hidrófilas (ou oleofóbico, isto é aceitação de água, impermeabilidade a tinta). Nas chamadas impressões driográficas, a imagem litográfica consiste de áreas de aceitação ou não de tinta (impermeabilidade a tinta) e durante a impressão diográfica, somente tinta é fornecida a matriz.

As matrizes de impressão são obtidas geralmente pela exposição image-wise e pelo processamento de um material de formação de imagens chamado precursor de placa. Um precursor de placa de funcionamento positivo típico compreende um suporte hidrófilo e um revestimento oleofílico que não sejam rapidamente solúveis em um revelador alcalino aquoso no estado não-exposto e se tornem solúveis no revelador após a exposição à radiação. Além disso, para os conhecidos materiais de formação de imagens fotossensiveis que são adequados para a exposição de contato UV através de uma película de máscara (as assim chamadas placas pré-sensitizadas), igualmente os precursores de placa de impressão sensíveis a calor tornaram-se muito populares. Tais materiais térmicos oferecem a vantagem de estabilidade a luz do dia e são usados especialmente no assim chamado método computador para placa (CtP) em que o precursor de placa é exposto diretamente, isto é, sem o uso de uma película de máscara. O material é exposto ao calor ou à luz infravermelha e o calor gerado aciona um processo (físico-) químico, tal como a ablação, a polimerização, a insolubilização por reticulação de um polímero ou por coagulação de partícula de um látex termoplástico de polímero, e solubilização pela destruição de interações intermoleculares ou por aumento da penetração de uma camada de barreira de revelação.

Embora alguns destes processos térmicos permitam a produção de placa sem processamento a úmido, as mais populares placas térmicas dão forma a uma imagem por uma diferença de solubilidade induzida por calor em um revelador alcalino entre áreas expostas e não-expostas do revestimento. O revestimento compreende tipicamente um aglutinante oleofílico do qual a taxa de dissolução no revelador é ou reduzida (funcionamento negativo) ou aumentada (funcionamento positivo) por exposição da image- wise.

Tipicamente, a resina oleofílica em uma placa sensível ao calor é uma resina fenolica tal como novolac, resol ou uma resina polivinilfenólica. A resina fenolica pode ser modificada quimicamente através da unidade monomérica de fenol sendo substituída por um grupo tal como descrito em WO99/01795, EP 934 822, EP 1 072 432, U.S. 3.929.488, WO 2004/035687, WO 2004/035686, WO 2004/035645, WO 2004/035310. A resina fenolica pode igualmente ser misturada com outros polímeros como descrito em WO 2004/020484, U.S. 6.143.464, WO 2001/09682, EP 933 682, WO 99/63407, WO 2002/53626, EP 1 433 594 e EP 1 439 058. O revestimento pode igualmente ser composto de duas ou mais camadas, cada uma delas compreendendo uma ou mais das resinas acima descritas como descrito, por exemplo, em EP 864 420, EP 909 657, EP-A 1 011 970, EP-A 1 263 590, EP-A 1 268 660, EP-A 1 072 432, EP-A 1 120 246, EP-A 1 303 399, EP-A 1 311 394, EP-A 1 211 065, EP-A 1 368 413, EP-A 1 241 003, EP-A 1 299 238, EP-A 1 262 318, EP-A 1 275 498, EP-A 1 291 172, WO 2003/74287, WO 2004/33206, EP-A 1 433 594, EP-A 1 439 058, WO 2002/33491, EP-A 1 376 241, EP-A 1 275 498, EP-A 1 398 151. Nestes materiais uma camada inferior e uma camada superior são providas em um suporte. Na camada superior, um inibidor de dissolução é adicionado a uma resina fenólica como aglutinante por meio do qual a taxa de dissolução do revestimento é reduzida. Por meio do aquecimento, esta taxa reduzida de dissolução do revestimento é aumentada nas áreas expostas comparadas com as áreas não expostas, tendo por resultado uma diferença suficiente na solubilidade do revestimento após gravação de image-wise por calor ou por radiação-IR. Na camada inferior, uma resina solúvel em álcali é adicionada, por exemplo, para aperfeiçoar a resistência química da placa tendo por resultado uma extensão de tiragem mais elevada.

Durante processamento, o diferencial de solubilidade conduz à remoção das áreas de não-imagem (não formação de imagens) do revestimento, revelando desse modo o suporte hidrófilo, enquanto áreas de imagem (impressão) do revestimento permanecerem no suporte. Desse modo, a camada superior e a inferior do revestimento das áreas de não-imagem (não-impressão) solubilizadas na solução de revelação alcalina e os ingredientes que constituem o revestimento destas duas camadas acumulam na solução de revelação e todo o tipo de interações entre estes ingredientes pode conduzir à formação de um primeiro tipo de produtos insolúveis que floculam e precipitam na solução de revelação, igualmente conhecidos como resíduo. Este resíduo pode ser removido por filtração ou por decantação da solução de reveleção. Além desta formação de resíduo, outros produtos insolúveis podem ser formados do qual não precipitaram e do qual não pode ser filtrado fora, mas permaneceu na superfície da solução de revelação. Este segundo tipo de produtos insolúveis, flutuando na superfície da solução de revelação, igualmente referidos como produtos de flutuação, podem aderir à superfície dos rolos presentes na máquina de revelação e pode adicionalmente danificar a imagem nas placas de impressão. Em conseqüência, a solução de revelação precisa ser alterada regularmente para impedir este problema.

SUMÁRIO DA INVENÇÃO

Este é um aspecto da presente invenção para prover um método para fabricação de uma placa de impressão litográfica sensível ao calor por meio da qual as propriedades de impressão excelentes são obtidas e por meio da qual a formação de produtos de flutuação são inibidos ou reduzidos. Este objeto é percebido pelo método definido na reivindicação 1, tendo o atributo característico de que a solução de revelação na etapa de revelação compreende um ácido carboxílico alifático que possui 8 a 11 átomos de carbono. As modalidades específicas da invenção são definidas nas reivindicações dependentes.

DESCRIÇÃO DETALHADA DA INVENÇÃO

De acordo com a presente invenção, é provido um método de produção de uma placa de impressão litográfica que compreende as etapas de:

(1) prover um precursor de placa de impressão litográfica sensível ao calor que compreenda em um suporte tendo uma superfície hidrófila ou que é provido com uma camada hidrófila, um revestimento sensível ao calor, o dito revestimento que compreende uma primeira camada que compreende um primeiro polímero que é insolúvel em água e solúvel em álcali, e a dita primeira camada, uma segunda camada que compreende um segundo polímero que é insolúvel em água e solúvel em álcali, e em um corante absorvente infravermelho, presente em pelo menos uma da dita primeira e segunda camada,

(2) expor image-wise ao dito precursor com radiação-IR ou calor por meio do qual a dita segunda camada exibe uma solubilidade aumentada em uma solução de revelação alcalina aquosa, e

(3) revelar dito precursor image-wise exposto com uma solução de revelação alcalina aquosa, a dita solução compreendendo um metal alcalino ou um sal de amônio de um ácido carboxílico alifático, tendo 8 a 11 átomos de carbono.

Em uma modalidade preferida, o dito ácido carboxílico alifático é ácido octanóico, ácido nonanóico, ácido decanóico ou ácido undecanóico. Em uma modalidade mais preferida, dito ácido carboxílico alifático é ácido octanóico, ácido nonanóico ou ácido decanóico, mais preferivelmente ácido octanóico ou nonanóico. Durante a revelação de um precursor de placa e impressão litográfica sensível ao calor, dito sal de dito ácido carboxílico alifático está presente na solução de revelação alcalina aquosa. De acordo com uma modalidade preferida da presente invenção, o dito sal de dito ácido carboxílico alifático está presente dentro da solução de revelação alcalina no início do processo de revelação. De acordo com uma outra modalidade preferida da presente invenção, o dito sal de dito ácido carboxílico alifático é adicionado à solução de revelação alcalina durante o processo de revelação por uma solução de reabastecimento que compreende o dito sal do dito ácido carboxílico alifático.

Solucao de revelacao

A solução de revelação alcalina aquosa (em seguida igualmente referida como o "revelador") compreende um agente alcalino.

Em uma modalidade da presente invenção, dito agente alcalino compreende um agente alcalino inorgânico tal como o hidróxido de sódio, o hidróxido de potássio, o hidróxido de lítio, fosfato terciário de sódio, fosfato terciário de potássio, fosfato terciário de amônio, fosfato secundário de sódio, fosfato secundário de potássio, fosfato secundário de amônio, carbonato de sódio, carbonato de potássio, carbonato de amônio, bicarbonato de sódio, bicarbonato de potássio, bicarbonato de amônio, borato de sódio, borato de potássio e borato de amônio, e citrato de potássio, citrato de sódio e semelhante.

O agente alcalino pode igualmente incluir agentes alcalinos orgânicos tais como o monometilamina, dimetilamina, trimetilamina, monoetilamina, dietilamina, trietilamina, monoisopropilamina, diisopropilamina, triisopropilamina, n-butilamina, monoetanolamina, dietanolamina, trietanolamina, monoisopropanolamina, diisopropanolamina, etilenodiamina, piridina e semelhante.

Em uma modalidade preferida da presente invenção, o dito agente alcalino compreende um silicato ou um metassilicato alcalino. 0 silicato ou o metassilicato alcalino exibem uma alcalinidade quando dissolvido em água, e exemplos destes incluem um silicato de metal alcalino e um metassilicato de metal alcalino tal como o silicato de sódio, metassilicato de sódio, silicato de potássio e silicato de litio, e silicato de amônio. Dito silicato alcalino pode ser usado sozinho, ou em combinação com outro agente alcalino.

O desempenho de revelação da solução aquosa alcalina pode ser facilmente modulado por ajuste de uma relação molar de silicatos alcalinos e de hidróxidos de metal alcalinos, representada pelo óxido de silício (SiO2) e por um óxido alcali (M2O, em que M representa um metal alcalino ou um grupo de amônio). A solução aquosa alcalina tem preferivelmente uma relação molar SiO2 / M2O a partir de 0,5 a 3,0, e mais pref erivelmente de 1,0 a 2,0. Quando a relação molar SiO2 / M2O é menor do que 0,5, alcalinidade da solução se reforça para causar um efeito prejudicial tal como corrosão de uma placa de alumínio que é usada geralmente como um substrato em um precursor de placa de impressão litográfica. Quando a relação molar, SiO2 / M2O é maior do que 3,0, o desempenho de revelação da solução pode ser degradado.

A concentração de silicato alcalino no revelador varia geralmente de 1 a 14% em peso, preferivelmente 3 a 14% em peso, e mais preferivelmente de 4 a 14% em peso. Quando a dita concentração é menor do que 1% em peso, a capacidade de desempenho de revelação ou de tratamento pode ser degradada. Quando a dita concentração é maior do que 14% em peso, os materiais ou os cristais precipitados podem ser facilmente gerados, e a gelificação pode ser facilmente causada durante a neutralização de restos de liquido, tendo por resultado um obstáculo à eliminação dos restos.

A solução de revelação alcalina aquosa possui pref erivelmente um valor de pH pelo menos de 10, mais preferivelmente pelo menos de 11,5, mais principalmente preferível de pelo menos de 12. Não há limite superior específico algum para o pH, mas o pH não é geralmente mais elevado do que 14, preferivelmente não mais elevado do que 13, 7.

Em uma outra modalidade da presente invenção, a solução alcalina aquosa pode compreender adicionalmente um açúcar não reduzido. 0 açúcar não reduzido denota os açúcares que não possuem propriedade redutiva alguma devido à ausência de um grupo de aldeído livre ou de um grupo livre de cetona. 0 dito açúcar não reduzido é classificado dentro de tipo trihalose de oligossacarídeos em que um grupo redutivo e um outro grupo redutivo faz uma ligação; glicosídeos em que um grupo redutivo em um açúcar é ligado a um composto sem açúcar; e alcoóis de açúcar que são produzidos por redução de um açúcar com hidrogenação. Os ditos oligossacarídeos de tipo Trihalose incluem sacarina e trihalose, e ditos glicosídeos incluem glicosídeos de alquila, glicosídeos de fenol, glicosídeos de óleo de mostarda e semelhante. Os ditos alcoóis de açúcar incluem D, L-arabitol, ribitol, xilitol, D, L-sorbitol, D, L- manitol, D, L-iditol, talitol, dulcitol, alodulcitol e semelhante. Adicionalmente, maltitol obtido por hidrogenação de dissacarídeo, um material reduzido obtido por hidrogenação de oligossacarídeo (um xarope reduzido de amido) e o semelhante são usados preferivelmente. Pentaeritritol pode igualmente ser usado na solução de revelação.

No açúcar não reduzido acima, são preferidos os alcoóis de açúcar e a sacarose, e particularmente preferidos são o D-sorbitol, a sacarose e um xarope reduzido de amido, desde que possuam a ação de proteção em faixa apropriada de pH.

Em uma modalidade preferida, a solução alcalina aquosa compreende adicionalmente um mono metal alcalino ou sal de amônio de um ácido carboxilico orgânico, tendo 4 a 12 átomos de carbono e substituído com 3 a 11 grupos hidroxila. Dito ácido carboxilico orgânico dito é mais preferivelmente um ácido de açúcar, isto é, um composto de açúcar que possui um grupo de ácido carboxilico. Os ácidos de açúcar possuem preferivelmente pelo menos 3 grupos hidroxila, mais preferivelmente pelo menos 4 grupos hidroxila, mais preferivelmente pelo menos 5 grupos hidroxila. Os ácidos de açúcar possuem preferivelmente no máximo 11 grupos hidroxila, mais preferivelmente no máximo 7 grupos hidroxila, mais preferivelmente no máximo 6 grupos hidroxila. Ditos ácidos de açúcar incluem o ácido glucônico, o ácido D-glucárico, o ácido pentárico, o ácido D-galacturônico, o ácido D-glucurônico, o ácido heptônico, o ácido de D-gluco-heptônico, o ácido tartárico, o ácido eritrônico, o ácido de L-arabinóico, o ácido de D-arabino- 2-hexulosônico, o ácido glicopiranurônico e o ácido murâmico. Os exemplos preferidos são ácido glucônico, ácido de D-gluco-heptônico e ácido de L-arabinóico. Ácido glucônico é altamente preferido na solução de revelação da presente invenção.

O açúcar não reduzido acima pode ser usado sozinho ou em combinação com outros ingredientes, e a concentração deste no revelador varia geralmente de 0,1 a 30% em peso, e preferivelmente 1 a 20% em peso.

O revelador pode opcionalmente conter componentes mais adicionais, tais como substâncias de tampão, agentes complexante, agentes antiespumantes, solventes orgânicos, inibidores de corrosão, corantes, tensoativos e/ou agentes hidrotrópicos como conhecido na técnica.

Na solução de revelação alcalina aquosa, é possível usar simultaneamente os solventes orgânicos que possuem solubilidade na água a 20 0C não mais de 15% em peso de acordo com as necessidades. Os exemplos de tais solventes orgânicos são ésteres ácidos carboxílicos como o acetato de etila, o acetato de propila, o acetato de butila, o acetato de amila, o acetato de benzila, o acetato de éter monobutil glicol de etileno, o lactato de butila e o levulinato de butila; tais cetonas como a cetona de butil etila, a cetona isobutil metila e a ciclohexanona; tais alcoóis como o éter monobutil glicol de etileno, o éter benzil glicol de etileno, o éter do monofenil glicol de etileno, o álcool benzila, o metilfenilcarbinol, o alcoól n-amílico e o álcool de metilamila; tais hidrocarbonetos aromáticos alquila substituída como xileno; e hidrocarbonetos halogenados como o dicloreto de metileno e o monoclorobenzeno. Estes solventes orgânicos podem ser usados sozinhos ou em combinação. Particularmente preferido é álcool benzila na invenção. Estes solventes orgânicos são adicionados ao revelador ou ao reabastecedor e por isso geralmente em uma quantidade não mais de 10% em peso e preferivelmente não mais de 5% em peso.

Além dos componentes descritos acima, a solução de revelação da presente invenção compreende preferivelmente um composto que possui grupos alquilenóxido, mais preferivelmente dito composto é um tensoativo não iônico que possui grupos alquilenóxido. Os grupos alquilenóxido podem ser selecionados a partir de grupos etilenóxido, dos grupos do propilenóxido ou de uma combinação de ambos. Um tal tensoativo não iônico pode ser usado como uma dissolução que impede o agente por meio do qual a dissolução cinética de áreas não-expostas é reduzida. Os exemplos de tensoativos não iônicos que incluem alcoóis etoxilados, glicóis de polietileno e alcoóis polihidrico. Os alcoóis etoxilados são preferidos, e em particular os alcoóis etoxilados que possuem um equilíbrio hidrofílico - lipofílico (HLB) mais elevado do que 5 são mais preferidos. Os exemplos específicos de tensoativos não iônicos estão listados abaixo: polietileno glicol, polioxietileno glicol, lauril éter, éteres de poliglicol laurilálcool, álcool oleil etoxilado, álcool de lanolina etoxilado, dodecanol etoxilado, álcool de cetoestearil etoxilado, tetrametildecindiol etoxilado, éter nonil de polioxietileno, éter cetil de polioxietileno, éter estearil de polioxietileno, éter oleil de polioxietileno, éter behenil de polioxietileno, copolímeros de bloco de polioxipropileno polioxietileno, éter cetil de polioxipropileno polioxietileno, éter behenil de polioxipropileno polioxietileno, éter nonilfenil de polioxietileno, éter octilfenil de polioxietileno, estearilamina de polioxietileno, oleilamina de polioxietileno, amida de ácido esteárico de polioxietileno, amido de ácido oléico de polioxietileno, óleo de rícino de polioxietileno, éter abietil de polioxietileno, éter de lanolina de polioxietileno, monolaurate de polioxietileno, monostearate de polioxietileno, monooleate gliceril de polioxietileno, monostearate gliceril de polioxietileno, monostearato de glicol de propileno de polioxietileno, monolaurate de sorbitan de polioxietileno, e monolaurate de sorbitan. Estes tensoativos não iônicos possuem preferivelmente um peso molecular médio que varia de 500 a 10.000, preferivelmente a partir de 1000 a 5000.

Os copolimeros de bloco que compreendem segmentos de cadeia de etilenóxido e de propilenóxido e que possuem uma estrutura ramificada são mais preferidos. Copolimeros de bloco que compreendem os segmentos de cadeia de etilenóxido e o propilenóxido, substituído em uma amina, em etilenodiamina ou em dietilenotriamina são ainda mais preferidos. Os mais preferidos são estes compostos em que o grupo amina ou os dois grupos amina de etilenodiamina ou de dietilenotriamina são substituídos com 2, 3 ou 4 segmentos de cadeia de etilenóxido e de propilenóxido, por exemplo, Synperonic T304, disponível no comércio de ICI, tendo uma relação de etilenodiamina, propilenóxido e etilenóxido de 1/15/14 e possuindo um peso molecular médio de 1600.

Este composto que possui grupos de alquilenóxido pode ser compreendido individualmente ou como uma mistura de dois ou mais compostos em uma quantidade que varia de 0,05 a 5%, preferivelmente a partir de 0,1 a 1% em peso da solução de revelação total.

Os reveladores usados na presente invenção podem simultaneamente conter um outro tensoativo com a finalidade de aperfeiçoar propriedades deste. Por Incorporação de tensoativos à solução reveladora, a tensão de superfície reduz drasticamente e a solução reveladora torna-se eficaz - isto é, remoção das áreas da não-imagem sem ocorrência da mancha / tonalização - em um pH mais baixo comparado à mesma solução reveladora sem um tensoativo. O revelador pode compreender um tensoativo iônico tal como o tensoativo aniônico ou catiônico, um tensoativo não iônico e/ou tensoativos anfotéricos tais como Librateric AA30 (marca registrada de Libra Chemicals Limited). Os exemplos de tais tensoativos incluem sais de álcool de ésteres de ácido sulfúrico (C8 ~ c22) mais elevados tais como o sal de sódio de sulfato de álcool lauril, o sal de sódio de sulfato álcool octilico, o sal do amônio de sulfato de álcool lauril, o Teepol B-81 (marca registrada disponível de Shell Chemicals Co., Ltd.) e os alquil sulfatos de sódio; sais de ésteres de ácido fosfórico de álcool alifático tais como o sal de sódio de fosfato de álcool cetílico; sais de ácido alquil aril sulfônicos tais como o sal de sódio de sulfonato de dodecilbenzeno, o sal de sódio de sulfonato de isopropilnaftaleno, o sal de sódio de dissulfonato de dinaftaleno e o sal de sódio de sulfonato de metanitrobenzeno; sais de ácido sulfônico de alquilamidas tais como Ci7H33CON (CH3) CH2CH2SO3Na e sais de ácido sulfônico de ésteres de ácidos alifáticos dibásicos tais como o sulfossucinato dioctil de sódio e o sulfossucinato do dihexil de sódio. Estes tensoativos podem ser usados sozinhos ou em combinação. Particularmente preferidos são os sais ácidos fosfônicos ou a combinação de sais de ácido fosfônico e sulfônico.

Os tensoativos podem ser usados em uma concentração de geralmente não mais de 5% e preferivelmente não mais de 3%. Quando os tensoativos aniônicos são usados, a solução de revelação tende ao acúmulo de muita espuma e por isso um agente antiespumante é adicionado para suprimir a formação de espuma. 0 exemplo de um agente antiespumante adequado é Surfynol 104H, um acetileno glicol, disponível no comércio de Keyser & Mackay. Em uma modalidade mais preferida, o tensoativo aniônico possui um ácido sulfônico e/ou um grupo de ácido fosfônico e é usado em uma concentração de não mais de 1%, mais prefeivelmente não mais do que 0,5%. Um tensoativo catiônico pode igualmente ser usado no revelador e pode incluir sais de amina, sais de amônio quaternário, sais do fosfônio, sais do sulfônio e semelhante. Os exemplos dos sais da amina são sais de amina primária, sais de amina secundária, sais de amina terciária, e sais de imidazolina. Os exemplos de sais de amônio quaternário incluem sais de amônio quaternário de tetraalquil, sais de amônio quaternário benzil de trialquil, sais de alquil piridinio, sais de alquil quinolinio, sais de imidazolinio e sais de benzimidazolinio.

Um tensoativo anfotérico pode igualmente ser usado no revelador e pode incluir derivados da betaina, tais como, por exemplo, betaina de alquilamidopropil, betaina de alquildimetil, betaina do bishidroxietil, alquilamida de betaina propila, lauril betaina, e semelhante, derivados de glicina, tais como, por exemplo, glicinato de cocoamfocarbóxi, glicinato de lauroanfocarbóxi, glicinato do caprilanfocarbóxi, glicinato de oleoanfocarbóxi, glicinato de oleoanfopolicarbóxi, glicinato de N-alquil, e semelhante, derivados de imino, tais como, por exemplo, cocoiminodipropionato, octiliminodipropionato, e

semelhante, derivados de imidazolina, tais como, por exemplo, imidazolina de coco, e semelhante, derivados de lecitina, e ácidos aminocarboxiicos. Estes tensoativos anfotéricos possuem preferivelmente um peso molecular médio variando de 500 a 10.000, preferivelmente de 1.000 a 5.000. Estes podem ser compreendidos individualmente ou como uma mescla de dois ou mais compostos.

A fim de aumentar a estabilidade de revelação dos reveladores, os seguintes compostos podem simultaneamente ser usados. Os exemplos de tais compostos são sais neutros tais como o NaCl, o KCl e o KBr como descrito em JN-A- 58 - 75 152; agentes quelantes tais como EDTA e NTA como divulgado em JN-A- 58 - 190 952 (U. S. -A- 4 469 776), complexos tais como [Co (NH3)6] Cl3 como divulgado em JN-A- 59 - 121 336 (U. S. 4 606 995); compostos ionizáveis de elementos do grupo lia, IIIa ou IIIb da Tabela Periódica tal como aqueles divulgados em JN-A- 55 - 25 100; tensoativos aniônicos ou anfotéricos tais como sulfonato de naftaleno de alquil de sódio e N-tetradecil-N, N- dihidroxietil betaina como descrito em JN-A- 50 - 51 324; tetrametildecino diol como descrito em U.S. 4 374 920; tensoativos não iônicos como descrito em JN-A- 60 - 213 943; polímeros catiônicos tais como produtos de cloreto de metila quaternário de p-dimetilaminometil poliestireno como descrito em JN-A- 55 - 95 946; polieletrólitos anfotéricos tais como copolímero de vinilbenzil de cloreto trimetilamônio e de acrilato de sódio como descrito em JN- A- 56 - 142 528; reduzindo sais inorgânicos tais como sulfito de sódio como descrito em JN-A- 57 - 192 952 (U. S. 4 4 67 027) e compostos de mercapto solúveis em álcali ou compostos de tioéter tais como ácido tiosalicoílico, cisteína e ácido tioglicólico; compostos inorgânicos de lítio tais como cloreto de litio como descrito em JN-A- 58 - 59 444; compostos orgânicos de lítio tais como benzoato de lítio como descrito em JN-A- 50 34 442; tensoativos organometálicos que contêm Si, Ti ou semelhante como descrito em JN-A- 59 - 75 255; compostos de organoboro como descrito em JN-A- 59 - 84 241 (U. S. 4 500 625); sais de amônio quaternário tais como óxidos de tetralquilamônio como divulgado em EP-A- 101 010; e bactericidas tais como dehidroacetato de sódio como descrito em JN-A- 63 - 226 657 .

De acordo com a presente invenção, a solução de revelação alcalina compreende um sal de metal alcalino ou de amônio de um ácido carboxilico alifático, possuindo de 8 a 11 átomos de carbono. Em uma modalidade preferida, dito ácido carboxilico alifático é ácido octanóico, ácido nonanóico, ácido decanóico ou ácido undecanóico. Em uma modalidade mais preferida, o dito ácido carboxilico alifático é ácido octanóico, ácido nonanóico ou ácido decanóico, mais preferivelmente ácido octanóico ou ácido nonanóico. A solução de revelação alcalina compreende preferivelmente um dos ditos compostos ou de uma mistura de pelo menos dois dos ditos compostos em uma concentração que varia dentre 0,01 e 2,0 mol/1, mais preferivelmente dentre 0,03 e 1,0 mol/1, mais preferivelmente dentre 0,06 e 0,5 mol/1.

Em uma outra modalidade preferida da presente invenção, a dita solução de revelação alcalina compreende adicionalmente um composto que compreende os segmentos de cadeia de grupos de etilenóxido e do propilenóxido, mais preferivelmente um tensoativo não iônico que possui grupos alquilenóxido, mais preferivelemente blocos de copolimeros que compreendem os segmentos de cadeia de etilenóxido e de propilenóxido, substituídos em uma amina, em uma etilenodiamina ou em um grupo dietilenotriamina. Em uma modalidade ainda mais preferida, a relação da concentração (% em peso) de dito sal de ácido carboxilico alifático à concentração (% em peso) de dito composto que compreende os segmentos de cadeia de grupos do etilenóxido e de propilenóxido ou de dito tensoativo não iônico ou de dito bloco copolímero como mencionados acima está dentre 1 e 20, mais preferivelmente dentre 2 e 15, mais preferivelmente dentre 3 e 10.

Em uma modalidade ainda mais preferida da presente invenção, a solução de revelação alcalina compreende, além dos compostos acima mencionados, um ácido de açúcar tendo de 4 a 12 átomos de carbono e substituído com 3 a 11 grupos hidroxila, mais preferivelmnete pelo menos um de ácido glucônico, de ácido D-glucárico, de ácido pentárico, de ácido D-galacturônico, de ácido D-glucurônico, de ácido heptônico, de ácido D-gluco-heptônico, de ácido tartárico, de ácido eritrônico, de ácido de L-arabinôico, de ácido D- arabino-2-hexulosônico, de ácido glucopiranurônico e de ácido murâmico, mais preferivelmente ácido glucônico, de ácido de D-gluco-heptônico e de ácido de L-arabinóico.

Em uma modalidade ainda mais preferida da presente invenção, a solução de revelação alcalina compreende, além dos compostos acima mencionados, um tensoativo aniônico compreendendo um grupo ácido sulfônico ou fosfônico.

Em uma modalidade ainda mais preferida da presente invenção, o agente alcalino nas soluções de revelação alcalinas como definidas acima compreendem um silicato ou um metassilicato alcalino.

Reabastecendo a solução

Durante a revelação as áreas da não imagem do revestimento são removidas com uma solução reveladora alcalina aquosa opcionalmente em combinação com a fricção mecânica, por exemplo, por uma escova giratória. Durante a etapa da revelação, qualquer camada solúvel em água presente também é removida preferivelmente. A revelação é realizada preferivelmente a temperatura de 20 a 40 0C em unidades de processamento automatizadas como é habitual na técnica.

Para realizar a revelação de processamento estável por um longo período de tempo, é particularmente importante controlar a intensidade do álcali silicato ou do álcali metassilicato e a concentração de outros ingredientes no revelador. Por isso, uma solução de reabastecimento, em seguida também é referida como o reabastecedor, é adicionada à solução de revelação, geralmente em pequenas quantidades tais que um processamento estável da revelação pode ser realizado durante um longo período de tempo sem trocar o revelador. Por isso, é igualmente importante que a concentração de ácido carboxílico alifático, possua de 8 a 11 átomos de carbono, da presente invenção está presente na solução reveladora em um nível suficientemente elevado a fim de impedir a formação de produtos de flutuação e esta pode ser realizada por adição de um reabastecedor que compreende o ácido carboxílico alifático da presente invenção.

Para a regeneração, a solução de reabastecimento compreende preferivelmente ingredientes ativos da solução de revelação tal como o agente alcalino, agente anti- resíduos, tampão, agente para impedir dissolução, agente antiespumante, agente complexante, agente anticorrosão, tensoativo e o ácido carboxílico alifático da presente invenção. A solução de reabastecimento é adicionada continuamente ou em pequenas quantidades à solução de revelação durante ou depois que o processo de revelação a fim regular a concentração dos ingredientes ativos na solução de revelação a um nível suficientemente elevado ou a um nível constante de modo que a revelação de image-wise exposta permaneça a um nível constante. As quantidades exigidas de material regenerado devem ser adaptadas aos instrumentos de revelação usados, capacidades de transmissão de placa rotineiras, áreas de imagem, etc. e estão em geral de 1 a 150 ml por metro quadrado de precursor de placa. A adição de reabastecedor pode ser regulada, para 0 exemplos, por medição da condutibilidade do revelador como descrito em EP-A 0.556.690 ou, por exemplo, em reabastecedor é adicionado regularmente após um periodo de tempo especifico de processamento.

No método para revelação de processamento, quaisquer meios conhecidos de suplementar um reabastecedor para o revelador podem igualmente ser empregados. Exemplos de tais métodos usados preferivelmente são um método para intermitentemente ou continuamente suplementando um reabastecedor em função da quantidade de placas processadas e tempo como divulgado em JN-A- 55 - 115 039 (GB-A- 2 046 931), um método que compreende dispor um sensor para detectar o grau de camada sensível à luz se dissolveu para fora na fração média de uma zona de revelação e de suplementar o reabastecedor em proporção ao grau detectado da camada sensível a luz dissolvido completamente como descrito em JN-A- 58 - 95 349 (U. S. 4 537 496); um método que compreende determinar o valor de impedância de um revelador e processando o valor detectado de impedância por um computador para realizar suplemento de um reabastecedor como divulgado em GB-A- 2 208 24 9.

Em uma modalidade preferida da presente invenção, o ácido carboxílico alifático da presente invenção está presente em uma solução de reabastecimento em uma concentração de pelo menos de 0,05 mol/1, preferivelmente em uma concentração que varia entre 0,07 e 5,0 mol/1, mais preferivelmente dentre 0,1 e 3,0 mol/1, mais preferivelmente dentre 0,15 e 1,5 mol/1.

A solução de reabastecimento possui preferivelmente um valor de pH de pelo menos de 10, mais preferivelmente de pelo menos de 11,5, mais preferivelmente de pelo menos de 12. Não há limite superior específico algum para o pH mas o pH é geralmente não mais elevado do que 14. Em uma outra modalidade da presente invenção, mais do que uma solução de reabastecimento pode ser usada por adição à solução de revelação durante ou após o processamento de revelação e estes reabastecedores podem conter tipos diferentes de ingredientes ativos e também dos tipos diferentes de ingredientes ativos em quantidades diferentes para aperfeiçoar o processamento de revelação.

Em uma modalidade mais preferida da presente invenção, a solução de revelação recente no começo do processamento de revelação compreende pela primeira vez o ácido carboxilico alifático da presente invenção em uma concentração mais baixa do que em uma solução de revelação usada, e durante ou após o processamento de um número de precursores, uma solução de reabastecimento, contendo o ácido carboxilico alifático da presente invenção, é adicionada à solução de revelação por meio de que esta concentração na solução de revelação é aumentada a um nivel mais alto.

O precursor de placa de impressão litográfica sensível ao calor da presente invenção compreende um suporte que possui uma superfície hidrófila ou que é provido com uma camada hidrófila, e, no dito suporte, um revestimento sensível ao calor.

Suporte

O suporte do precursor de placa de impressão litográfica possui uma superfície hidrófila ou é provida com uma camada hidrófila. O suporte pode ser um material semelhante a folha de papel tal como uma placa ou este pode ser um elemento cilíndrico tal como uma luva que possa ser deslizada em torno de um cilindro de cópia de uma impressora. Um suporte preferido é um suporte de metal tal como alumínio ou aço inoxidável. O metal pode igualmente ser laminado a uma camada plástica, por exemplo, película de poliéster. Os suportes alternativos para o precursor de placa podem igualmente ser usados, como ligas metálicas amorfas (vidros metálicos). Tais ligas metálicas amorfas podem ser usadas como tal ou ser unidas com outros metais não amorfos tais como alumínio. Os exemplos de ligas metálicas amorfas são descritos em U.S. 5,288,344, U. S. 5,368,659, U.S. 5,618,359, U. S. 5,735,975, U.S. 5,250,124, U.S. 5,032,196, U.S. 6,325,868, e U.S. 6,818,078, 'as descrições de que são incorporados por referência. As seguintes referências descrevem a ciência de metais amorfos em muito mais detalhes e são incorporadas como referências:

Introduction to the Theory of Amorphous Metals, N.P. Kovalenko et AL. (2001); Atomic Ordering in Liquid and Amorphous Metals, S.I. Popel, et AL.; Physics of Amorphous Metals, N.P. Kovalenko et AL. (2001).

Um suporte litográfico preferido particularmente é um suporte de alumínio eletroquimicamente granulado e anodizado. A granulação e a anodização do alumínio são conhecidos na técnica. 0 suporte de alumínio anodizado pode ser tratado para aperfeiçoar as propriedades hidrófilas de sua superfície. Por exemplo, o suporte de alumínio pode ser silicado por tratamento de sua superfície com uma solução de silicato de sódio à temperatura elevada, por exemplo, 95°C. Alternativamente, pode ser aplicado um tratamento de fosfato que envolva tratar a superfície do óxido de alumínio com uma solução de fosfato que possa conter adicionalmente fluoreto inorgânico. Adicionalmente, a superfície de óxido de alumínio pode ser enxaguada com uma solução de ácido cítrico ou de citrato. Este tratamento pode ser efetuado à temperatura ambiente ou pode ser efetuado a uma temperatura ligeiramente elevada de aproximadamente 30 a 50 °C. Um tratamento adicionalmente interessante envolve enxaguar a superfície do óxido de alumínio com uma solução de bicarbonato. Ainda mais adicionalmente, a superfície de óxido de alumínio pode ser tratada com ácido polivinilfosfônico, ácido polivinilmetilfosfônico, ésteres de ácido fosfórico de álcool de polivinil, ácido polivinilsulfônico, ácido polivinilbenzenossulfônico, ésteres de ácido sulfúrico de álcool de polivinil, e os acetais de alcoóis de polivinil formados por reação com um aldeído alifático sulfonado. É adicionalmente evidente que um ou mais destes pós- tratamentos podem ser efetuados sozinhos ou em combinação. Mais descrições detalhadas destes tratamentos são dadas em GB-A 1 084 070, DE-A 4 423 140, DE-A 4 417 907, EP-A 659 909, EP-A 537 633, DE-A 4 001 466, EP-A 292 801, EP-A 291 760 e U.S. 4.458.005.

Revestimento

O revestimento sensível ao calor, o qual é provido no suporte, pode ter funcionamento positivo ou funcionamento negativo. Um revestimento sensível ao calor de funcionamento positivo é preferido. O revestimento de um revestimento sensível ao calor de funcionamento positivo não se dissolve em uma solução de revelação alcalina nas áreas não expostas e não se torna solúvel nas áreas expostas dentro do tempo usado para revelar a placa.

O revestimento sensível ao calor compreende uma primeira camada que compreende um primeiro polímero que é insolúvel em água e solúvel em álcali, e na dita primeira camada, em uma segunda camada que compreendem um segundo polímero que é insolúvel em água e solúvel em álcali, e em um corante absorvente infravermelho, presente pelo menos em uma das ditas primeira e segunda camadas, por meio do qual a segunda camada exibe uma solubilidade aumentada em uma solução de revelação alcalina aquosa sob aquecimento ou IR- radiação.

O segundo polímero é preferivelmente uma resina oleofílica insolúvel em água e solúvel em álcali a partir do qual a solubilidade em uma solução de revelação alcalina é reduzidoa no revestimento e a partir do qual a solubilidade em uma solução de revelação alcalina é aumentada sob aquecimento ou IR-radiação. A segunda camada preferivelmente mais adicional compreende um inibidor de dissolução que pode ser IR-corante ou um outro composto por meio do qual a taxa de dissolução da segunda camada em uma solução de revelação alcalina é reduzida. Devido a este diferencial de solubilidade a taxa de dissolução das áreas expostas é suficientemente mais elevada do que nas áreas não expostas.

Em uma modalidade preferida da presente invenção, o segundo polímero é uma resina fenólica tal como o novolac, o resol ou uma resina polivinil fenol; novolac é mais preferido. Os exemplos típicos de tais polímeros são descritos em DE-A-4007428, em DE-A-4027301 e em DE-A- 4445820. Outros polímeros preferidos são resinas de fenol em que o grupo fenila ou o grupo hidróxi da unidade monomérica de fenol são modificados quimicamente com um substituinte orgânico como descrito em EP 894 622, EP 901 902, EP 933 682, WO 99/63407, EP 934 822, EP 1 072 432, U.S. 5.641.608, EP 982 123, WO 99/01795, WO 04/035310, WO 04/035686, WO 04/035645, WO 04/035687 ou EP 1 506 858.

A resina novolac ou a resina resol podem ser preparadas por policondensação pelo menos de um membro selecionado a partir de hidrocarbonetos aromáticos tais como o fenol, o-cresol, p-cresol, m-cresol, 2.5 - xilenol, 3.5 xilenol, resorcinol, pirogalol, bisfenol, bisfenol A, trisfenol, o-etilfenol, p-etilfenol, propilfenol, n- butilfenol, t-butilfenol, 1- naftol e 2- naftol, com pelo menos um aldeido ou cetona selecionado dos aldeídos tais como formaldeido, glioxal, acetoaldeido, propionaldeido, benzaldeido e o furfural e as cetonas tais como acetona, metil etil cetona e metil isobutil cetona, na presença de um catalizador ácido. Em vez de formaldeido e de acetaldeido, paraformaldeido e paraldeido podem, respectivamente, ser usados.

0 peso molecular médio de peso, medido por cromatografia de permeação em gel usando padrões universais de calibração e de poliestireno, da resina novolac é preferivelmente de 500 a 150.000 g/mol, mais preferivelmente de 1.500 a 50.000 g/mol.

A resina poli (vinilfenol) pode igualmente ser um polímero de um ou vários do hidroxi-f enil que contém monômeros tais como hidroxiestirenos ou hidroxi-fenil (met) acrilatos. Os exemplos de tais hidroxiestirenos são o- hidroxiestireno, m-hidroxiestireno, p-hidroxiestireno, 2- (o- hidroxifenil) propileno, 2- (m-hidroxifenil) propileno e 2- (p- hidroxifenil) propileno. Tal hidroxiestireno pode ter um substituinte tal como cloro, bromo, iodo, flúor ou um grupo alquil Ci-4, em seu anel aromático. Um exemplo de tal (met) acrilato hidroxi-fenil é 2 hidróxi fenil metacrilato.

A resina poli (vinilfenol) pode geralmente ser preparada por polimerização de um ou vários hidroxi-fenil que contém o monômero na presença de um iniciador radical ou de um iniciador catiônico de polimerização. A resina poli (vinilfenol) pode igualmente ser preparada por copolimerização de um ou vários destes hidroxi-fenil que contém monômeros com outros compostos monoméricos tais como monômeros de acrilato, monômeros de metacrilato, monômeros de acrilamido, monômeros de metacrilamida, monômeros de vinil, monômeros aromáticos de vinil ou monômeros de dieno.

O peso molecular médio de peso, medido pela cromatografia de permeação em gel usando padrões universais de calibração e de poliestireno, de resina poli (vinilfenol) é preferivelmente de 1.000 a 200.000 g/mol, meais preferivelmente de 1.500 a 50.000 g/mol.

São exemplos de resinas de fenol:

POL-01: ALNOVOL SPN452 é uma solução de uma resina novolac, 40% em peso de Dowanol PM, obtido a partir de CLARIANT GmbH.

Dowanol PM consiste em 1-metoxi- 2-propanol (> 99,5 %) e 2 metoxi- 1-propanol (< 0,5 %).

POL-02: ALNOVOL SPN400 is uma solução de uma resina novolac, 44 % em peso de Dowanol PMA, obtido a partir de CLARIANT GmbH.

Dowanol PMA consiste em 2-metoxi-1-metil- etilacetato.

POL-03: ALNOVOL SPN402 é uma solução de uma resina novolac, 4 4,3 % em peso, obtida a partir de CLARIANT GmbH.

POL-04: ALNOVOL HPNlOO é uma resdina novolac obtida a partir de CLARIANT GmbH.

POL-05: DURITE PD443 é uma resina novolac obtida a partir de BORDEN CHEM. INC.

POL-06: DURITE SD423A é uma resina novolac obtida a partir de BORDEN CHEM. INC.

POL-07: DURITE SD126A é uma resina novolac obtida a partir de BORDEN CHEM. INC.

POL-08: BAKELITE 6866LB02 é uma resina novolac obtida a partir de BAKELITE AG.

POL-09: BAKELITE 6866LB03 é uma resina novolac obtida a partir de BAKELITE AG. POL-10: KR 400/8 é uma resina novolac obtida a partir de KOYO CHEMICALS INC.

POL-11: HRJ 1085 é uma resina novolac obtida a partir de SCHNECTADY INTERNATIONAL INC.

POL-12: HRJ 2606 é uma resina fenólica novolac obtida a partir de SCHNECTADY INTERNATIONAL INC.

POL-13: LYNCUR CMM é um copolímero de 4 -hidroxi- estireno and metil metacrilato obtido a partir de SIBER HEGNER.

Em uma outra modalidade preferida da presente invenção, o primeiro polímero é insolúvel em água e solúvel em uma solução alcalina. 0 primeiro polímero é preferivelmente um polímero orgânico o qual possui grupos ácidos com um pKa menor do que 13 para assegurar de que a camada seja solúvel ou pelo menos sofra intumescência ou seja dispersível em reveladores alcalinos aquosos. Vantajosamente, o aglutinante é um polímero ou policondensado, por exemplo, um poliéster, uma resina de poliamido, uma resina de epóxi, uma resina acetal, uma resina acrílica, uma resina metacrílica, um estireno baseado em resina, uma resina de poliuretano ou poliurea.

O primeiro polímero possui mais preferivelmente um ou vários grupos funcionais selecionados a partir da lista de

(i) um o grupo sulfonamida tal como - S02-NH-Rg onde Rg representa um hidrogênio ou um grupo hidrocarboneto substituído opcionalmente tal como um grupo alquil, aril ou heteroaril opcionalment substituído,

(ii) um grupo imida ativa tal como - SO2-NH-CO- Rh, - SO2-NH-SO2-Rh ou - CO-NH-SO2-Rh onde Rh representa um hidrogênio ou um grupo hidrocarboneto opcionalmente substituído tal como um grupo alquil, aril ou heteroaril opcionalmente substituído, (iii) um grupo carboxil,

(iv) um grupo sulfônico, e

(v) um grupo fosfórico;

um grupo sulfonamida ou um grupo imida ativa são mais preferidos; os mais preferidos são polímeros selecionados a partir de um copolímero que compreende uma unidade monomérica N-benzil-maleimida ou uma unidade monomérica que compreende um grupo sulfonamida como descrito em EP-A 933 682, em EP 0 894 622 (linha 16 da página 3 a página 6 a linha 30), em EP-A 0 982 123 (linha 56 da página 3 a página 51 a linha 5), em EP-A 1 072 432 (linha 21 da página 4 a página 10 a linha 29) e em WO 99/63407 (linha 13 da página 4 a página 9 a linha 37) . 0 primeiro polímero possui mais preferivelmente um ou vários grupos sulfonamida como definidos acima e como definido no Pedido de Patente Européia não publicado N° 06110501.1.

Outros polímeros que possuem um grupo ácido são policondensados e polímeros que possuem grupos hidroxilas de fenol livre, como obtidos, por exemplo, por reação de fenol, resorcinol, um cresol, um xilenol ou um trimetilfenol com aldeídos, especialmente formaldeído, ou cetonas. Condensados de sulfamoil- ou carbamoil- aromáticos substituídos e aldeídos ou cetonas são igualmente adequados. Polímeros de ureas bismetilol- substituído, éteres de vinil, alcoóis de vinil, acetais de vinil ou vinilamidas e polímeros de fenilacrilatos e copolímeros de hidroxi-fenilmaleimidas são do mesmo modo adequados. Além disso, polímeros que possuem unidades de vinilaromáticos, N-aril (met) acrilamidas ou aril (met) acrilatos podem ser mencionados, este que é possível para cada um destas unidades igualmente para ter um ou vários grupos carboxil, grupos hidroxil de fenol, grupos sulfamoil ou grupos carbamoil. Os exemplos específicos incluem os polímeros que possuem unidades de 2 - hidroxifenil (met) acrilato, de N- (4 - hidroxifenil) (met) acrilamida, de N- (4- sulfamoilfenil) - (met) acrilamida, de N- (4-hidroxi-3, 5 - dimetilbenzil) - (met) acrilamida, ou 4- hidroxiestireno ou de hidroxifenilmaleimida. Os polímeros podem adicionalmente conter unidades de outros monômeros. que não possuem unidade ácida alguma. Tais unidades incluem os vinilaromáticos, metil (met) acrilato, fenil (met) acrilato, benzil (met) acrilato, metacrilamida ou acrilonitrila.

Inibidor de dissolução

Em uma modalidade preferida da presente invenção, o revestimento sensível ao calor contém um ou vários inibidores de dissolução, presente pelo menos em uma das ditas primeira e segunda camadas, mais preferivelmente presente na segunda camada. Inibidores de dissolução, que virão em seguida também refereridos como inibidor, são os compostos os quais reduzem a taxa de dissolução do polímero, preferivelmente o segundo polímero, no revelador alcalino aquoso nas áreas não expostas do revestimento e em que esta redução da taxa de dissolução é destruída pelo calor gerado durante a exposição de modo que o revestimento se dissolva rapidamente no revelador em áreas expostas. O inibidor da dissolução exibe uma latitude substancial na taxa de dissolução entre as áreas expostas e não expostas. Por preferência, o inibidor de dissolução tem uma grande latitude de taxa de dissolução quando as áreas de revestimento expostas foram dissolvidas completamente no revelador antes que as áreas não expostas sejam atacadas pelo revelador a tal ponto que a capacidade de aceitação de tinta do revestimento seja afetada. O (s) inibidor (es) de dissolução é (são) adicionado (s) preferivelmente à segunda camada que compreende o segundo polímero discutido acima. A taxa de dissolução do revestimento não exposto no revelador é reduzida preferivelmente pela interação entre o polímero e o inibidor, devido por exemplo à ligação de hidrogênio entre estes compostos. Os inibidores adequados de dissolução são preferivelmente compostos orgânicos os quais compreendem pelo menos um grupo aromático e um local de ligação de hidrogênio, por exemplo, um grupo carbonila, um grupo sulfonila, ou um átomo de nitrogênio que possa ser quaternizado e que possa ser parte de um anel heterocíclico ou que possa ser parte de um amino substituinte de dito composto orgânico. Inibidores adequados de dissolução deste tipo foram divulgados em, por exemplo, EP -A 825 927 e 823 327. IR-corante pode igualmente ter a função de inibidor de dissolução.

Os polímeros impermeáveis representam um outro tipo de inibidor adequado de dissolução. Tais polímeros parecem aumentar a resistência do revelador do revestimento por impermeabilizar o revelador aquoso a partir do revestimento. Os polímeros impermeáveis podem ser adicionados à segunda camada e/ou podem estar presentes em uma camada separada provida no topo da segunda camada. Na última modalidade, o polímero impermeável forma uma camada de barreira que proteja o revestimento do revelador e a solubilidade da camada de barreira no revelador ou a capacidade de penetração da camada de barreira pelo revelador possam ser aumentados por exposição ao calor ou à luz infravermelha, como descrito, por exemplo, em EP -A 864420, EP-A 950 517 e WO 99/21725. Os exemplos preferidos dos polímeros impermeáveis são polímeros que compreendem unidades de siloxano e/ou de perf luoroalquil. Em uma modalidade, o revestimento contém tal polímero impermeável em uma quantidade dentre 0,5 e 25 mg/m2, preferivelmente dentre 0,5 e 15 mg/m2 e melhor dentre 0,5 e 10 mg/m2. Quando o polímero impermeável for também impermeável a tinta, por exemplo, no caso de polissiloxanos, quantidades mais elevadas do que 25 mg/m2 podem resultar em má aceitação a tinta das áreas não expostas. Uma quantidade mais baixa do que 0,5 mg/m2 por um lado pode conduzir a uma resistência insatisfatória de revelação. 0 polissiloxano pode ser um polímero linear, cíclico ou reticulado complexo ou um copolímero. 0 termo composto polissiloxano irá incluir qualquer composto o qual contenha mais de um grupo siloxano - Si (R, R') -0 -, em que R e R1 são opcionalmente grupos alquila ou arila substituída. Os siloxanos preferidos são fenilalquilsiloxanos e dialquilsiloxanos. 0 número de grupos siloxano no (co) polímero é pelo menos 2, preferivelmente pelo menos 10, mais preferivelmente pelo menos 20. Pode ser menos do que 100, preferivelmente menos do que 60. Em uma outra modalidade, o polímero impermeável é um bloco de copolímero de bloco ou um copolímero enxertado (óxido de alquileno) e um bloco de um polímero que compreende unidades de siloxano e/ou de perfluoroalquila. Um copolímero adequado compreende aproximadamente de 15 a 25 unidades de siloxano e de 50 a 70 grupos de óxido de alquileno. Os exemplos preferidos incluem copolímeros que compreendem fenilmetilsiloxano e/ou dimetilsiloxano assim como óxido de etileno e/ou óxido de propileno, tal como o Tego Glide 410, Tego Wet 265, Tego Protect 5001 ou Silikophen P50/X, todos disponíveis no comércio do Tego Chemie, Essen, Alemanha. Tal copolímero atua enquanto um tensoativo que sob revestimento, devido a sua estrutura bifuncional, se posiciona automaticamente própria na interface entre o revestimento e o ar e através disso formam uma camada superior separada mesmo quando o revestimento inteiro é aplicado de uma única solução do revestimento. Simultaneamente, tais tensoativos atuam como um agente de espalhamento que melhore a qualidade do revestimento.

Alternativamente, o polímero impermeável pode ser aplicado em uma solução, revestida sobre a segunda camada. Nessa modalidade, pode ser vantajoso usar um solvente na solução que não é capaz de dissolver os ingredientes presentes na segunda camada de modo que uma fase impermeável altamente concentrada seja obtida na parte superior do revestimento.

Acelerador de revelação

Preferivelmente, um ou vários aceleradores de revelação também são incluídos no revestimento sensível ao calor, isto é, os compostos que atuam como promotores de dissolução porque são capazes de aumentar a taxa de dissolução do revestimento não exposto no revelador. A aplicação simultânea de inibidores e de aceleradores de dissolução permite uma adaptação delicada precisa do comportamento de dissolução do revestimento. Os aceleradores adequados de dissolução são ácidos cíclicos anidridos, fenóis ou ácidos orgânicos. Os exemplos do ácido cíclico anidrido incluem anidrido ftálico, anidrido tetrahidroftálico, anidrido hexahidroftálico, anidrido tetracloroftálico, anidrido maléico, anidrido cloromaléico, alfa - anidrido fenilmaléico, anidrido sucínico, e anidrido piromelítico, como descrito em Patente U.S. N° 4.115.128. Os exemplos dos fenóis incluem bisfenol A, p-nitrofenol, p- etoxifenol, 2, 4, 4' - trihidroxibenzofenona, 2, 3, 4 trihidroxi-benzofenona, 4 hidroxibenzofenona, 4, 4', 4" - trihidroxi-trifenilmetano, e 4, 4', 3", 4" tetrahidroxi- 3, 5, 3', 5' - tetrametiltrifenil- metano, e semelhante. Os exemplos dos ácidos orgânicos incluem ácidos sulfônicos, ácidos sulfínicos, ácidos alquilsulfúricos, ácidos fosfônicos, fosfatos, e ácidos carboxilicos, como descritos em, por exemplo, JP-A N° 60- 88.942 e 2 - 96.755. Os exemplos específicos destes ácidos orgânicos incluem ácido p- toluenossulfônico, ácido dodecilbenzenossulfônico, ácido p-toluenossulfinico, ácido etilsulfúrico, ácido fenilfosfônico, ácido fenilphosphinic, fenil fosfato, difenil fosfato, ácido benzóico, ácido isoftálico, ácido adípico, ácido p- toluico, 3, 4 - ácido dimetoxibenzóico, ácido ftálico, ácido tereftálico, 4- ciclohexeno-1, 2 - ácido dicarboxilico, ácido erucico, ácido láurico, ácido n- undecanóico, e ácido ascórbico. A quantidade do ácido cíclico anidrido, fenol, ou ácido orgânico contido no revestimento está preferivelmente na faixa de 0,05 a 20% em peso, relativo ao revestimento como um todo. Em uma modalidade preferida, a segunda camada compreende um acelerador de dissolução, preferivelmente um ácido cíclico anidrido, fenol, ou ácido orgânico em uma quantidade de 0,05 a 20% em peso, relativo à segunda camada.

Exposição

O material pode ser image-wise exposta diretamente ao calor, por exemplo, por meio de uma cabeça térmica, ou indiretamente por luz infravermelha, a qual é convertida em calor por um composto absorvente de luz infravermelha, o qual pode ser um corante ou um pigmento que possui um máximo de absorção na faixa de comprimento de onda infravermelho. O corante ou o pigmento absorvente de luz infravermelha está presente no revestimento sensível ao calor e tipicamente em uma concentração que varia dentre 0,25 e 10,0 em % em peso, mais preferivelmente dentre 0,5 e 7, 5 % em peso relativo ao revestimento como um todo. Os compostos de absorção preferidos são corantes tais como cianina ou corantes ou pigmentos do merocianina tais como negro de fumo. Um composto adequado é o seguinte corante infravermelho IR- 1: (D IR)

<formula>formula see original document page 34</formula>

onde x" é um ion indicador apropriado tal como o tosilato.

O revestimento sensível ao calor pode conter um corante orgânico adicional que absorva a luz visível de modo que uma imagem perceptível seja obtida sob image-wise de exposição e revelação subseqüente. Tal corante é chamado freqüentemente de corante de contraste ou corante indicador. Preferivelmente, o corante possui uma cor azul e um máximo de absorção na faixa de comprimento de onda dentre 600nm e 750 nm. Embora o corante absorva a luz visível, isto preferivelmente não sensibiliza o precursor de placa de impressão, isto é, o revestimento não se torna mais solúvel no revelador sob a exposição à luz visível. Os exemplos adequados de tal corante de contraste são os corantes quaternizados de triarilmetano.

De acordo com uma modalidade preferida, o corante de contraste está presente no revestimento sensível ao calor.

De acordo com uma modalidade altamente preferida, o composto absorvente de luz infravermelha é concentrada na segunda camada do revestimento sensível ao calor.

O precursor de placa de impressão da presente invenção pode ser exposto à luz infravermelha com LEDs ou um laser. Preferivelmente, um laser que emite próximo da luz infravermelha que possui um comprimento de onda na faixa de aproximadamente 750 a aproximadamente 1500 nm é usado, tal como um diodo a laser semicondutor, um Nd: YAG ou um laser Nd:YLF. A potência de laser exigida depende da sensibilidade da camada de gravação de imagem, o tempo de contato do pixel do feixe de laser, que é determinado pelo diâmetro de ponto (valor típico de tipografias de placa modernas em 1/e2 de intensidade máxima: 10-25 um) , a velocidade da varredura e a definição do instrumento de exposição (isto é, o número de pixels endereçáveis por unidade de distância linear, expressa freqüentemente por linha pontilhada por polegada ou dpi; valor típico: dpi 1000-4000).

Dois tipos de instrumentos de exposição a laser são comumente usados: tipografias de placa internas (ITD) e externas de tambor (XTD). Tipografias de placa ITD para placas térmicas são caracterizadas tipicamente por uma varredura muito elevada aceleram a 500 m / segundos e podem exigir uma potência de laser de vários watts. Tipografias de placa de XTD para placas térmicas que possuem uma potência típica de laser de aproximadamente 200 mW a aproximadamente 1 W operam em uma velocidade mais baixa de varredura, por exemplo 0,1 a 10 m / segundos.

As tipografias de placa conhecidas podem ser usadas como instrumento de exposição em off-press (separata), que oferece o benefício de tempo ocioso da máquina de impressão reduzida. Configurações de tipografia de placa de XTD podem igualmente ser usadas para exposição on-press, oferecendo o benefício de registo imediato em uma impressora multicolorida. Mais detalhes técnicos de instrumentos de exposição on-press são descritos, por exemplo, em U.S. 5.174.205 e em U.S. 5.163.368. Na etapa de revelação, as áreas não imagem do revestimento são removidas por imersão em um revelador alcalino aquoso, que possa ser combinado com a fricção mecânica, por exemplo, por uma escova giratória. 0 revelador possui preferivelmente um pH acima de 10, mais preferivelmente acima de 12.

A etapa de revelação pode ser seguida por uma etapa de enxagüe e/ou por uma etapa de gomagem. A etapa de gomagem envolve pós-tratamento da placa de impressão litográfica com uma solução de goma. Uma solução de goma é tipicamente um liquido aquoso o qual compreende um ou vários compostos protetores de superfície que são capazes de proteger a imagem litográfica de uma placa de impressão contra a contaminação ou o dano. Os exemplos adequados de tais compostos são polímeros ou tensoativos hidrófilos de formação de película.

O precursor de placa pode, caso requerido, ser pós- tratado com um agente ou um conservante de correção adequada como conhecido na técnica. Para aumentar a resistência da placa de impressão terminada e daqui estender a duração de funcionamento, a camada pode momentaneamente ser aquecida a altas temperaturas ("cozedura") . A placa pode ser seca antes da cozedura ou é seco durante o próprio processo de cozedura. Durante a etapa de cozedura, a placa pode ser aquecida a uma temperatura que seja mais elevada do que a temperatura de transição de vidro do revestimento sensível ao calor, por exemplo, dentre 1OO°C e 230°C por um período de 40 segundos a 5 minutos. Cozedura pode ser feita em fornos convencionais de ar quente ou por irradiação com lâmpadas de emissão no espectro infravermelho ou ultravioleta. Em conseqüência desta etapa de cozedura, a resistência da placa de impressão a limpadores de placa, os agentes de correção e as tintas de impressão curáveis por UV aumentam. Tal pós-tratamento térmico é descrito, entre outros, em DE 1.447.963 e em GB 1.154.749.

A placa de impressão obtida assim pode ser usada por convenção, assim chamada a impressão offset úmida, em que a tinta e um liquido de umedecimento aquoso são fornecidos à placa. Um outro método adequado de impressão utiliza tinta assim chamada de único fluido sem um liquido de umedecimento. As tintas adequadas de único fluido foram descritas em U.S. 4.045.232; U.S. 4.981.517 e U.S. 6.140.392. Em uma modalidade mais preferida, a tinta de único fluido compreende uma fase de tinta, igualmente chamada de fase hidrofóbica ou oleofilica, e uma fase de poliol como descrita em WO 00/32705.

EXEMPLOS

Preparação de Aglutinante-Ol.

Em um reator de 250 ml, 162 mmol de Monômero-01, 21,3 g (132 mmol) de benzil acrilamida, 0,43 g (6 mmol) de ácidos acrílicos e 103 g e gama butirolactona foram adicionados e a mistura foi aquecida a 140°C, enquanto se agitava a 200 rpm. Um fluxo constante de nitrogênio foi posto sobre o reator. Após a dissolução de todos os componentes, o reator foi arrefecido a 100°C. 0,35 ml de Trigonox DC50, disponível no comércio por AKZO NOBEL, foi adicionado a seguir pela adição de 1,39 ml de Trigonox 141, disponível no comércio por AKZO NOBEL, em 3,43 ml de butirolactona. A polimerização foi iniciada e o reator foi aquecido a 140°C durante 2 horas enquanto se dosava 1,75 ml de Trigonox DC50. A mistura foi agitada a 400 rpm e a polimerização foi permitida continuar por 2 horas a 140°C. A mistura de reação foi arrefecida a 120°C e a velocidade de agitador foi aumentada a 500 RPM. 85,7 ml 1 - metoxi-2- propanol foi adicionado e a mistura de reação foi permitida arrefecer para baixo à temperatura ambiente.

Aglutinante- 01 foi analisado com 1H-NMR- espectroscopia e cromatografia de exclusão por tamanho, por uso de dimetil acetamida/ 0,21% de LiCl como eluente em uma coluna 3x misturada-B e relativo a padrões de poliestireno.

<table>table see original document page 38</column></row><table>

A mistura de reação foi refrigerada a 40°C e o resultante foi de 25 % em peso da solução de polímero que foi coletada em um tambor.

Monômero 01:

<formula>formula see original document page 38</formula>

Preparação do suporte litográfica.

Uma folha de alumínio espessa de 0,30 milímetros foi desengordurada por imersão da folha em uma solução aquosa que contém 34 g/1 de hidróxido de sódio a 70°C por 6 segundos e enxaguada com água desmineralizada por 3,6 segundos. A folha foi em seguida eletroquimicamente granulada durante 8 segundos por uso de uma corrente alternada em uma solução aquosa contendo 15 g/1 de HCl, 15 g/1 de SO4 2- íons e 5 g/1 de Al a uma temperatura de 37°C e uma densidade corrente de 100 A/dm2. A folha de alumínio foi limpa por corrosão com uma solução aquosa que contém 145 g/l de ácido sulfúrico a 80°C por 5 segundos e foi enxaguada em seguida com água desmineralizada por 4 segundos. A folha foi subseqüentemente sujeitada à oxidação anódica durante 10 segundos em uma solução aquosa que contém 145 g/l de ácido sulfúrico a uma temperatura de 57°C e uma densidade corrente de 25 A/dm2, lavada em seguida com água desmineralizada por 7 segundos e pós-tratada por 4 segundos com uma solução que contém 2,2 g/l de ácido polivinilfosfônico a 70°C, enxaguada com água desmineralizada por 3,5 segundos e secos a 120°C por 7 segundos.

O suporte obtido assim foi caracterizado por um Ra de aspereza de superfície de 0, 35 - 0, 40 μm (medidos com interferômetro NT1100) e um peso anódico de 3,0 g/m.

Preparação do precursor de placa de impressão PPP-01

O PPP-01 foi produzido primeiramente por aplicação de uma primeira camada de revestimento definida na tabela 1 no suporte litográfico acima descrito. O peso de revestimento seco total atinge 0,71 g/m2.

Tabela 1: Composição da primeira camada de revestimento

<table>table see original document page 39</column></row><table>

(1) Aglutinante-01, vide preparação acima,

(2) Violeta de genciana, disponível no comércio de CIBA-GEIGY, (3) TEGOGLIDE 410 é um copolímero de polisiloxano e poli (óxido de alquileno), disponível no comércio de TEGO CHEMIE SERVICE GmbH.

Na primeira camada revestida, uma segunda camada como definida na tabela 2 foi revestida em um peso de revestimento seco de 0,52 g/m2.

Tabela 2: Composição da solução da segunda camada de revestimento

<table>table see original document page 40</column></row><table>

(1) Alnovol SPN402 é uma solução de novolac, 44,3 % em peso em Dowanol PM, disponível no comércio de CLARIANT,

(2) TMCA é ácido 3, 4, 5 -trimetóxi cinâmico,

(3) S0094 é um corante de cianina absorvente IR, disponível no comércio de FEW CHEMICALS; a estrutura química de S0094 é igual a IR-I

(4) Violeta de genciana: vide a tabela 1,

(5) FLUORAD FC4432 é uma solução de um flúor- copolímero 1% em peso em Dowanol PM, disponível no comércio de 3M,

(6) Tegoglide 410: vide a tabela 1.

Formação de imagens latente e processamento do precursor de placa de impressão PPP-O1.

Um número de precursores de placa de impressão PPP-O1, possuindo uma área total de 5 m2, foi exposto inteiramente com um Creo Trendsetter 2344T de Creo (40 W, VI .7 cabeça), uma tipografia de placa, marca registrada de Creo, Burnaby, Canadá, operando a 170 RPM e em 2400 dpi e usando uma densidade de energia de 130 mJ/cm2.

Após a exposição das placas de 5 m2 foram processados em um o processador pequeno de parte superior de tabela que contém 0.5 1 de uma solução reveladora como definido nas tabela 4 e tabela 5, a uma temperatura de 350C e em uma velocidade de processamento de 0,55 cm/s.

Tabela 4: Composição das soluções de revelação

DEV-01 a DEV-04

<table>table see original document page 41</column></row><table> (1) Na-metassilicato é pentahidrato de metassilicato de sódio, disponível no comércio de SILMACO nanovolt

(2) Crafol AP261 é sal de sódio de alquiléter, disponível no comércio de COGNIS

(3) Surfinol 104H é um tensoativo, disponível no comércio de KEYSER & MACKAY

(4) Sinperonic T304 é um bloco-co-polímero de óxido de polietileno (=PEO) e de óxido do polipropileno (=PPO) anexado a etilenodiamina (=EDA) em uma relação EDA/PEO/PPO de 1/15/14 e possuindo um peso molecular médio de 1600, disponível no comércio de UNIQEMA

(5) Gluconato de sódio é sal de sódio de mono ácido glucônico

(6) Dowfax 2A1 é um tensoativo aniônico, disponível no comércio de Dow Chemical.

Tabela 5: Composição das soluções de revelação

DEV-05 a DEV-10

<table>table see original document page 42</column></row><table> <table>table see original document page 43</column></row><table>

Após o processamento, a solução de revelação foi aquecida a 30°C durante 4 horas no processador table-top pequeno ao continuamente rodar os pares de rolos de saida na solução reveladora.

O nivel de formação de produtos de flutuação depositados nos rolos foi avaliado qualitativamente como indicado na tabela 6. A avaliação 1 representa o "nenhum depósito" , avaliação 2 representa a "formação de película limitada (películas da área pequena)"; , avaliação 3 representa a "formação de película exposta (películas de áre extensa)"; , e avaliação 4 representa o "formação de película muito exposta por todo o rolo (películas de área muito extensa)". O número mais elevado desta avaliação, a alta quantidade de produtos de flutuação depositados nos rolos sob estas circunstâncias de simulação. Estas avaliações são uma medida para a tendência à formação de produtos de flutuação no revelador. Somente avaliação 1 é aceitável a fim inibir ou reduzir a formação de produtos de flutuação e estender a vida útil da solução de revelação para placas de impressão de processamento sem danificar a imagem.

Tabela 6 resume a quantidade de produtos de flutuação depositados nos rolos para cada tipo de solução de revelação DEV-0l a DEV-10.

Tabela 6: Resultados

<table>table see original document page 44</column></row><table> (a) ácido carboxílico alifático não é dissolvido na solução de revelação

Os resultados nas tabelas 4 e 5 demonstram que os exemplos 1 a 3 da invenção, compreendem um ácido carboxílico alifático da presente invenção, produtos de flutuação depositados nos rolos da máquina de revelação que não estão formados. Exemplos comparativos 5 a 7 demonstram que para o ácido hexanóico e o ácido heptanóico a cadeia de comprimento alifática é muito curta a fim de impedir completamente a formação de produtos de flutuação na solução de revelação e de que para o ácido dodecanóico o número de átomos de carbono muito elevado para ser suficientemente solúveis na solução de revelação. Os exemplos comparativos 1 a 4 demonstram que sem um ácido carboxílico alifático ou com ácidos carboxílicos aromáticos produtos de flutuação depositados nos rolos da máquina de revelação são formados.

Claims (10)

1. Método para fabricar uma placa de impressão litográfica caracterizado pelo fato de que compreende as etapas de: (1) fornecer um precursor de placa de impressão litográfica sensível ao calor sobre um suporte que possui uma superfície hidrófila ou que é provida com uma camada hidrófila, um revestimento sensível ao calor, dito revestimento compreendendo uma primeira camada que compreende um primeiro polímero que é insolúvel em água e solúvel em álcali, e sobre a primeira camada, uma segunda camada que compreende um segundo polímero que é insolúvel em água e solúvel em álcali, e um corante absorvente infravermelho, presente em pelo menos uma das ditas primeira e segunda camadas, (2) realizar esposição image-wise do dito precursor com radiação infravermelha ou calor de modo que a segunda camada exiba uma solubilidade aumentada em uma solução de revelação alcalina aquosa, e (3) revelar o precursor image-wise exposto com uma solução de revelação alcalina aquosa, dita solução compreendendo: - um silicato ou metassilicato alcalino em uma concentração na faixa de 1 a 14 % em peso, - um metal mono alcalino ou sal de amônio de um ácido carboxílico orgânico, possuindo 4 a 12 átomos de carbono e substituído com 3 a 11 grupos hidroxila, - um metal alcalino ou sal de amônio de um ácido carboxílico alifático, selecionado a partir de ácido octanóico, ácido nonanóico, ácido decanóico ou ácido undecanóico, em uma concentração na faixa de 0,01 a 2,0 mol/1, e - um bloco de copolímero que compreende um segmento de cadeia de etilenóxido e de propilenóxido, substituído em uma etilenodiamina ou em um grupo dietilenotriamina, em uma concentração na faixa de 0,05 a -5% em peso, em que a relação da concentração (% em peso) de sal do dito ácido carboxílico alifático à concentração (% em peso) de bloco de copolímero está entre 1 e 20.

2. Método de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que a relação de concentração (% em peso) do sal do ácido carboxílico alifático à concentração (no peso %) do bloco copolímero está entre 2 e -15.

3. Método de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que a relação da concentração (% em peso) do sal do ácido carboxílico alifático à concentração (% em peso) do bloco de copolímero está entre -3 e 10.

4. Método de acordo com quaisquer das reivindicações precedentes, caracterizado pelo fato de que o sal de ácido alifático está presente na solução de revelação alcalina em uma concentração que varia dentre -0,03 e 1,0 mol/1, preferivelmente dentre 0,06 e 0,5 mol/1.

5. Método de acordo com quaisquer das reivindicações precedentes, caracterizado pelo fato de que o sal de ácido carboxílico alifático é ácido octanóico ou ácido nonanóico.

6. Método de acordo com quaisquer das reivindicações precedentes, caracterizado pelo fato de que um mono metal alcalino ou sal de amônio de um ácido carboxílico orgânico, possuindo 4 a 12 átomos de carbono e substituído com 3 a 11 grupos hidroxila, é um açúcar que compreende um grupo de ácido carboxílico.

7. Método de acordo com a reivindicação 6, caracterizado pelo fato de que o açúcar que compreende um grupo ácido carboxilico é ácido glucónico.

8. Método de acordo com quaisquer das reivindicações precedentes, caracterizado pelo fato de que o primeiro polímero compreende grupos sulfonamida na cadeia lateral da cadeia principal do polímero.

9. Método de acordo com quaisquer das reivindicações precedentes, caracterizado pelo fato de que o segundo polímero é uma resina fenólica.

10. Método de acordo com quaisquer das reivindicações precedentes, caracterizado pelo fato de que o precursor compreende adicionalmente, sobre a segunda camada, uma camada superior compreendendo um polímero ou tensoativo que compreende unidades de siloxano ou de perfluoroalquila.