BRPI0713494A2 - método para a produção de camadas fotoativas e componentes que compreendam a(s) referida(s) camadas(s) - Google Patents
método para a produção de camadas fotoativas e componentes que compreendam a(s) referida(s) camadas(s) Download PDFInfo
- Publication number
- BRPI0713494A2 BRPI0713494A2 BRPI0713494-0A BRPI0713494A BRPI0713494A2 BR PI0713494 A2 BRPI0713494 A2 BR PI0713494A2 BR PI0713494 A BRPI0713494 A BR PI0713494A BR PI0713494 A2 BRPI0713494 A2 BR PI0713494A2
- Authority
- BR
- Brazil
- Prior art keywords
- layer
- process according
- photoactive
- semiconductor
- semiconductor layer
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 34
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims abstract description 9
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 5
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 14
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 8
- YUKQRDCYNOVPGJ-UHFFFAOYSA-N thioacetamide Chemical compound CC(N)=S YUKQRDCYNOVPGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N thioacetamide Natural products CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000002879 Lewis base Substances 0.000 claims description 7
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 150000007527 lewis bases Chemical class 0.000 claims description 7
- -1 phosphides Chemical class 0.000 claims description 5
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052976 metal sulfide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 4
- QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N Carbon disulfide Chemical compound S=C=S QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000007906 compression Methods 0.000 claims description 3
- 230000006835 compression Effects 0.000 claims description 3
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 3
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 claims description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 2
- 150000003346 selenoethers Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000004772 tellurides Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000004073 vulcanization Methods 0.000 claims description 2
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 claims 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 claims 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 229940065287 selenium compound Drugs 0.000 claims 1
- 150000003343 selenium compounds Chemical class 0.000 claims 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N thiram Chemical compound CN(C)C(=S)SSC(=S)N(C)C KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229960002447 thiram Drugs 0.000 claims 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 5
- 238000007639 printing Methods 0.000 abstract description 5
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 abstract 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 9
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 8
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- GKCNVZWZCYIBPR-UHFFFAOYSA-N sulfanylideneindium Chemical compound [In]=S GKCNVZWZCYIBPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 4
- MBMLMWLHJBBADN-UHFFFAOYSA-N Ferrous sulfide Chemical compound [Fe]=S MBMLMWLHJBBADN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 2
- 229910052946 acanthite Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 238000007707 calorimetry Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 2
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000011514 reflex Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- XUARKZBEFFVFRG-UHFFFAOYSA-N silver sulfide Chemical compound [S-2].[Ag+].[Ag+] XUARKZBEFFVFRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940056910 silver sulfide Drugs 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 238000002076 thermal analysis method Methods 0.000 description 2
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910005267 GaCl3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005541 GaS2 Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000144 PEDOT:PSS Polymers 0.000 description 1
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical compound [Zn].CC(O)=O.CC(O)=O ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- OMZSGWSJDCOLKM-UHFFFAOYSA-N copper(II) sulfide Chemical compound [S-2].[Cu+2] OMZSGWSJDCOLKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 229920001746 electroactive polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- UPWPDUACHOATKO-UHFFFAOYSA-K gallium trichloride Chemical compound Cl[Ga](Cl)Cl UPWPDUACHOATKO-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004729 solvothermal method Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005118 spray pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 238000012916 structural analysis Methods 0.000 description 1
- 238000005987 sulfurization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F77/00—Constructional details of devices covered by this subclass
- H10F77/10—Semiconductor bodies
- H10F77/12—Active materials
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F77/00—Constructional details of devices covered by this subclass
- H10F77/10—Semiconductor bodies
- H10F77/12—Active materials
- H10F77/126—Active materials comprising only Group I-III-VI chalcopyrite materials, e.g. CuInSe2, CuGaSe2 or CuInGaSe2 [CIGS]
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F71/00—Manufacture or treatment of devices covered by this subclass
- H10F71/125—The active layers comprising only Group II-VI materials, e.g. CdS, ZnS or CdTe
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/541—CuInSe2 material PV cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/543—Solar cells from Group II-VI materials
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Compounds Of Iron (AREA)
Abstract
MéTODO PARA A PRODUçãO DE CAMADAS FOTOATIVAS E COMPONENTES QUE COMPREENDAM A(S) REFERIDA(S) CAMADA(S). A presente invenção refere-se a um método para a produção de camadas fotoativas e a componentes, tais como células solares, compreendendo as referidas camadas. De acordo com a invenção, as camadas fotoativas são produzidas pela formação de uma camada semicondutora a partir do material precursor compreendendo pelo menos um composto metálico e um reagente tipo sal ou orgânico em um substrato pela impressão ou revestimento com lâmina flexível, a referida camada sendo exposta a temperaturas inferiores a 300<198>C, em que uma camada semicondutora fotoativa é formada a partir da camada não-semicondutora por conversão térmica do material precursor.
Description
Relatório Descritivo da Patente de Invenção para "MÉTODO PARA A PRODUÇÃO DE CAMADAS FOTOATIVAS E COMPONENTES QUE COMPREENDAM A(S) REFERIDA(S) CAMADA(S)".
A presente invenção refere-se a um processo para a produção de camadas fotoativas, assim como de componentes que compreendam es- sa(s) camada(s).
Sulfetos, selenídeos e telurídeos de metais semicondutores, par- ticularmente CuInS2, CuInSe2, CdSe, ZnS e ZnSe, são materiais importantes para a formação de camadas fotoativas, as quais são úteis, i. a., para aplica- ções fotovoltaicas. Deste modo, sulfetos de metais semicondutores são usa- dos na forma de camadas finas para células solares inorgânicas, chamadas de células ETA (Absorvedoras Extremamente Finas). Uma combinação de camadas que consiste de sulfetos de metais semicondutores com um polí- mero semicondutor conjugado ou outra camada que consista de moléculas orgânicas eletroativas resulta em um design de duas camadas, o qual é também adequado para a produção de elementos fotoativos.
Para a produção de tais camadas semicondutoras, processos conhecidos tais como crepitação reativa ou não-reativa (evaporação de ca- todo), separação por descarga luminescente, evaporação térmica conven- cional, separação química e eletroquímica, processo de pulverização (piróli- se por pulverização), a sulfurização de filmes metálicos [1"5] e processos ca- ros para a produção de camadas de epitaxial são disponíveis.
Para a maioria desses processos - exceto para a aplicação ele- troquímica 1691 "temperaturas relativamente altas, isto é, temperaturas acima de 300°C, são necessárias para a produção de camadas fotoativas. Uma produção dessas camadas semicondutoras é efetuada por decomposição térmica de um reagente na presença dos íons metálicos correspondentes. Misturas reacionais similares são usadas na pulverização-pirólise [10"29].
Casto, Bailey et al.[30] descrevem um processo para a produção de um complexo de sulfeto de cobre e índio em baixas temperaturas. Entre- tanto, de acordo com esse processo, compostos de partida relativamente caros são usados. Um processo similar baseado na deposição de vapor químico de borrifo sob condições atmosféricas Também é descrito por Harris et al. [31] Para decompor os compostos de partida que são usados, são utilizadas temperaturas de 200 a 300°C.
Cui et al. descrevem outro processo para a produção de sulfeto de cobre e índio semicondutor. [32] O último produz CulnS2 e AglnS2 na for- ma de nanobastões semicondutores que consistem de uma mistura estequi- ométrica de ln(S2CNEt2)3 e Cu(S2CNEt2)2 ou de Ag(S2CNEt2) de acordo com o princípio da síntese coloidal, por meio do que as tiocetonas que se acumu- lam como subprodutos com etilenodiamina a 195 0C tem que ser removidas em um processo solvotérmico.
O objetivo dessa invenção é, deste modo, proporcionar um pro- cesso para a produção de camadas fotoativas que seja fácil de ser efetuado e que possa ser realizado, por um lado, em baixas temperaturas, assim co- mo, por outro lado, sob o uso direto de compostos metálicos e reagentes que sejam fáceis de serem sintetizados. De acordo com a invenção, um pro- cesso do tipo acima mencionado é proposto, o qual é caracterizado pelo fato de que uma camada não-semicondutora é formada a partir de um material precursor que compreende pelo menos um composto metálico e um reagen- te tipo sal e/ou orgânico em um substrato por compressão ou revestimento com lâmina flexível (knife-coating), e a referida camada semicondutora é exposta a temperaturas menores do que 300°C, por meio do que uma ca- mada fotoativa semicondutora é formada a partir da camada não- semicondutora por conversão térmica do material precursor.
Material precursor é definido de acordo com essa invenção co- mo um material não-semicondutor que consiste de um composto metálico, tal como sais metálicos e/ou complexos metálicos, e um composto tipo sal ou orgânico que, em um passo de conversão, libere um componente adicio- nal que seja necessário para a formação do semicondutor.
Modalidades vantajosas adicionais do processo de acordo com a invenção são descritas de acordo com as sub-reivindicações.
A invenção também se refere a componentes, tais como células solares ou fotodetectores que compreendem as camadas que são produzi- das de acordo com a invenção.
A temperatura reacional da reação de decomposição pode van- tajosamente ficar abaixo de 300°C, especialmente quando a reação é catali- sada por um ácido ou base, e/ou compostos de partida ácidos ou alcalinos são usados.
Vantajosamente, a conversão ocorre na presença de uma base de Lewis, por exemplo, piridina. Bases de Lewis agem como agentes com- plexantes para os íons metálicos que são usados. Bases de Lewis também desempenham um papel decisivo na reação de decomposição do reagente, por exemplo, na produção de calcogenídeos com tioacetamida como fonte de enxofre. Pelo fornecimento de um par eletrônico livre da base de Lewis, reações de conversão possíveis são aceleradas.
Exemplos de bases de Lewis são: F, OH", O2", H2O, NH3 e seus derivados, Br", N3", NO2", I", S2 e SCN". Bases de Lewis que são usadas de acordo com a invenção são primeiramente bases orgânicas contendo nitro- gênio, tais como piridina e/ou derivados de piridina, várias aminas primárias, secundárias e/ou terciárias, compostos heterocíclicos contendo nitrogênio, aminoácidos desprotonados e/ou bases com um esqueleto de pirimidina.
Por essas temperaturas de produção especialmente baixas, é possível produzir camadas semicondutoras tanto em substratos inorgânicos, tais como metais ou vidro, como também em filmes poliméricos. O último representa uma vantagem bem especial em relação aos métodos de produ- ção já conhecidos. As condições reacionais podem ser selecionadas de mo- do que os semicondutores estão presentes na camada na forma nanocrista- lina ou como nanopartículas.
A mistura das substâncias de partida pode estar presente tanto em solução quanto em pasta (suspensão), como dispersão ou como pasta.
Com o processo de acordo com a invenção, os compostos metá- licos são usados como partículas semicondutoras, as quais podem reagir com um reagente tipo sal ou orgânico.
0(s) composto(s) metálico(s), o(s) qual/quais é/são usado(s) como composto(s) de partida, também pode ser um composto tipo sal.
De modo similar, o composto metálico pode ser um composto organometálico ou um complexo organometálico.
O(s) composto(s) metálico(s) usado(s) pode(m) ter propriedades tanto básicas quanto ácidas, as quais tornam possível a conversão em tem- peraturas mais baixas ou influenciam cataliticamente a conversão.
Um alto rendimento de corrente dos componentes na forma de células solares é, deste modo, alcançado, pelo fato de que materiais inorgâ- nicos são partículas cujo tamanho dos grãos está preferivelmente entre 0,5 nm e 500 nm.
Em células solares, as camadas semicondutoras de acordo com a invenção podem agir tanto como doadoras de elétrons quanto como acep- toras de elétrons.
Ao usar certos compostos de partida, a temperatura de conver- são em um semicondutor pode ser menor do que 100°C.
A conversão dos compostos de partida no semicondutor pode ser executada na presença de um ácido.
A conversão dos compostos de partida no semicondutor pode ser executada de um modo semelhantemente vantajoso na presença de uma base.
A temperatura reacional pode ser ajustada pelo tratamento tér- mico, porém também por fótons com energia maior do que 1 (um) eV.
Pelo processo de acordo com a invenção, os componentes que consistem de um substrato e de uma camada fotoativa aplicada neles po- dem ser vantajosamente produzidos.
A aplicação é efetuada por impressão através de métodos de impressão conhecidos, tais como impressão flexográfica ou impressão por gravação, ou por revestimento com lâmina flexível do semicondutor no subs- trato.
A invenção é explicada com mais detalhes abaixo, baseando-se nas modalidades, assim como nas figuras.
Exemplo 1: Processo para a produção de camadas de sulfeto de cobre e índio semicondutoras.
A produção de camadas de sulfeto de cobre e índio é efetuada pela reação de tioacetamida como um reagente contendo enxofre na pre- sença de um sal de índio e cobre, por meio do que a tioacetamida é decom- posta. Nesse processo de produção, a título de exemplo, InCh e Cul são complexados com piridina. Tiouréia é dissolvida nessa solução. Essa solu- ção reacional é gotejada em um substrato adequado, tal como oxido de es- tanho e índio em vidro, em um polímero orgânico ou em um polímero orgâni- co eletroativo, e é aquecida até 200°C sob atmosfera de gás inerte (por e- xemplo, nitrogênio, argônio e hélio).
<formula>formula see original document page 6</formula>
As camadas que são obtidas são examinadas através da análise estrutural de raio X (XRD). Nesse caso, a figura 1 mostra o difratograma de raio X de tal amostra. Os picos a 272, 45s e 55-, os quais podem ser associ- ados com CulnS2, têm um alargamento significativo devido à sua natureza nanocristalina.
Exemplo 2: Produção de uma célula solar híbrida inorgâni- ca/orgânica:
O design primário dessa célula solar híbrida é demonstrado na figura 2. Como um carreador 1, um substrato de vidro ou um filme polimérico transparente é usado.
Para a produção de células solares, uma porção da camada ITO (camada de óxido de índio/estanho) 2 é removida por gravação química ou física. Para compensar a aspereza da camada, uma camada 3 de poli- etilenodioxitiôfeno (PEDOT:PSS) pode ser opcionalmente aplicada. Esse passo pode, entretanto, ser omitido. No próximo passo, uma camada 4 que consiste de um polímero eletroativo orgânico ou uma substância eletroativa orgânica de baixo peso molecular é aplicada. Soluções poliméricas são pre- ferivelmente aplicadas a partir de suspensões ou soluções homogêneas por revestimento com rotação (spin-coating), revestimento por mergulho (dip- coating), revestimento com lâmina flexível, compressão ou pulverização. Substâncias de baixo peso molecular também podem ser aplicadas por re- vestimento por evaporação.
Uma camada de CuInS2, conforme produzida de acordo com o Exemplo 1 (camada 5) é então aplicada nessa camada.
Os eletrodos 6, por exemplo, alumínio, ouro, prata ou uma com- binação de cálcio/ouro/alumínio, magnésio/ouro são, a seguir, aplicados nessa camada por revestimento por evaporação ou crepitação.
Na figura 3, as características de corrente/voltagem da célula solar híbrida são demonstradas de acordo com a figura 2.
A última mostra uma Voc (voltagem terminal aberta) de 625 mV e uma Isc (corrente de circuito curto) de 5.855 mA/cm2 numa iluminação de 60 mW/cm2. O fator de enchimento é de 29%, e foi conseguido um grau de efi- ciência de 1,7%.
Exemplo 3: Processo para a produção de camadas de sulfeto de zinco semicondutoras.
A produção de camadas de sulfeto de zinco é efetuada pela de- composição de tioacetamida na presença de acetato de zinco. A decomposi- ção foi efetuada nesse caso a 150°C. O difratograma de raio X na figura 4 mostra a fase de ZnS nanocristalina formada. Como uma fase cristalográfi- ca, esfalerita pôde ser identificada. A amplitude dos reflexos confirma a pre- sença de cristalitas primárias na faixa nanométrica.
Como uma aplicação para tal camada, uma célula solar de hete- rojunção de bicamada foi produzida, cujo grau de eficiência foi caracterizado através de uma característica U/l (ver figura 5). A célula solar que foi produ- zida deste modo mostra uma voltagem fotoelétrica especialmente alta de 920 mV.
Exemplo 4. Processo para a produção de uma camada de Cu-GaS2.
Para a produção de uma camada de CuGaS2, 31,5 mg de Cul, 37,9 mg de GaCb e 64,5 mg de tioacetamida são dissolvidos em piridina e aplicados em um substrato de vidro. Essa camada é aquecida sob uma at- mosfera de gás inerte por 30 minutos a 200°C, por meio do que a conversão é efetuada em uma camada CuGaS2. A figura 6 mostra um difratograma da camada semicondutora nanocristalina que é formada, por meio do que os picos que são característicos de CuGaS2 ficam a 29° 48° 49° e 57°. Os pi- cos pontudos a 24°, 25,5°, 27,5°, 42°, 46,5° e 509 se originam de pequenas quantidades do Cul extraído, o qual não reagiu completamente. Pelo aumen- to dos componentes de gálio, esses picos extraídos podem ser eliminados.
Exemplo 5: Processo para a produção de uma camada de sulfe- to de cobre e ferro.
De modo análogo ao Exemplo 4, uma camada de sulfeto de co- bre e ferro foi produzida. Até esse ponto, 31,5 mg de Cul, 71,4 mg de Fe- CI3.6H20 e 79,3 mg de tioacetamida dissolvidos em piridina foram usados. Na análise de XRD do material formado, os picos que foram característicos de sulfetos de cobre e ferro foram encontrados em 29°, 34°, 53,5° e 57,5°. A largura dos picos, por sua vez, indica a formação de sulfeto de cobre e ferro nanocristalino.
Exemplo 6. Processo para a produção de uma camada de sulfe- to de prata e gálio.
Aqui, é demonstrado que também é possível nos sulfetos terná- rios trocar os átomos de cobre por outros átomos divalentes. Nesse teste, 28,1 mg de AgNO3, 37,8 mg de GaCI3 e 64,4 mg de tiouréia foram dissolvi- dos em piridina, e uma camada de sulfeto de prata e gálio foi produzida de maneira análoga ao Exemplo 4. O difratograma demonstrado na figura 7 confirma a formação da fase de sulfeto de prata e gálio rica em prata Ag9GaS6, a qual apresenta os picos característicos a 19,1°, 23,3°, 27,3° (pi- co duplo), 28,7° (pico duplo), 33,2° e os 7 reflexos entre 36,0° e 37,5°.
Além desses experimentos precisamente descritos, uma varie- dade de outros estudos foram efetuados, nos quais pôde ser observado que
1) Além dos elementos Cu, In, Zn e S, os elementos Ag, Cd, Ga, Al, Pb, Hg, Se, e Te também podem ser usados;
2) exceto pela tioacetamida, os seguintes S-compostos também podem ser usados:
enxofre elementar, enxofre elementar e um acelerador de vulca- nização, tiouréia, tiouram, sulfeto de hidrogênio, sulfetos metálicos, sulfetos de hidrogênio, CS2, P2S5;
3) Além dos sais metálicos, compostos organometálicos tais co- mo acetatos, compostos de tiocarbamida metálicos também podem ser usados.
Em resumo, pode ser estabelecido que com o processo de acor- do com a invenção, camadas semicondutoras, particularmente na forma na- nocristalina, que exibem graus satisfatórios de eficiência em células solares híbridas e em camadas semicondutoras inorgânicas puras, podem ser pro- duzidas de um modo eficiente sob um ponto de vista energético.
V. Alberts, J. Titus, R. W. Birkmire, Thin Solid Films 2004, 451, 207.
A. Antony, A. S. Asha, R. Yoosuf, R. Manoj, Μ. K. Jayaraj, Solar Energy Materials and Solar Cells 2004, 81, 407.
Β. M. Basol, Thin SoIidFiIms 2000, 361-362, 514.
C. Dzionk, H. Metzner, S. Hessler, H.-E. Mahnke, Thin Solid Films 1997, 299, 38.
M. Nanu, L. Reijnen, B. Meester, J. Schoonman, A. Goossens, Chemical Vapor Deposition 2004, 10, 45.
S. Bereznev, I. Konovalov, A. Opik, J. Kois, E. Mellikov, Solar Energy Materials and Solar Cells 2005, 87, 197.
S. Bereznev, I. Konovalov, J. Kois, E. Mellikov, A. Opik, Macro- molecular Symposia 2004, 212, 287. S. Bereznev, I. Konovalov, A. Opik, J. Kois, Synthetic Metals 2005, 152, 81.
S. Nakamura, A. Yamamoto, Solar Energy Materials and Solar Cells 2003, 75, 81.
M. C. Zouaghi, T. Ben Nasrallah1 S. Marsillac, J. C. Bernede1 S. Belgacem1 Thin Solid Films 2001, 382, 39.
H. Bihri1 M. Abd-Lefdil1 Thin Solid Films 1999, 354, 5.
H. Bouzouita, N. Bouguila1 A. Dhouib1 Renewable Energy 1998, 00, 1.
Τ. T. John1 M. Mathew1 C. S. Kartha1 Κ. P. Vijayakumar1 T. Abe1 Y. Kashiwaba1 Solar Energy Materials and Solar Cells 2005, 89, 27.
Τ. T. John1 K. C. Wilson, Ρ. M. R. Kumar, C. S. Kartha1 Κ. P. Vi- jayakumar, Y. Kashiwaba, T. Abe1 Y. Yasuhiro1 Physica Status Solidi a- Applied Research 2005, 202, 79.
M. Krunks, O. Bijakina, E. Mellikov, T. Varema1 Ternary and Mul- tinary Compounds 1998, 152, 325.
M. Krunks, O. Bijakina, V. Mikli, H. Rebane, T. Varema1 M. Alto- saar, E. Mellikov1 Solar Energy Materials and Solar Cells 2001, 69, 93.
M. Krunks, O. Bijakina, T. Varema1 V. Mikli1 E. Mellikov1 Thin So- lid Films 1999, 338, 125.
M. Krunks, O. Kijatkina, A. Mere, T. Varema, I. Oja, V. Mikli, So- lar Energy Materials and Solar Cells 2005, 87, 207.
M. Krunks, O. Kijatkina, H. Rebane1 I. Oja1 V. Mikli1 A. Mere1 Thin Solid Films 2002, 403, 71.
M. Krunks, T. Leskela, R. Mannonen, L. Niinisto, Journal of Thermal Analysis and Calorimetry 1998, 53, 355.
M. Krunks1 T. Leskela1 I. Mutikainen1 L. Niinisto1 Journal of Thermal Analysis and Calorimetry 1999, 56, 479.
M. Krunks, E. Mellikov1 O. Bijakina, Physica Scripta 1997, T69, 189.
M. Krunks1 V. Mikli1 O. Bijakina, E. Mellikov, Applied Surface Science 1999, 142, 356.
Μ. Krunks, V. Mikli1 Ο. Bijakina1 Η. Rebane, Α. Mere, Τ. Varema, Ε. Mellikov, Thin SoIidFiIms 2000, 361, 61.
J. Madarasz, Ρ. Bombicz, Μ. Okuya, S. Kaneko, Solid State Io- nics 2001, 141, 439.
Α. Mere, Ο. Kijatkina, Η. Rebane, J. Krustok, Α. Krunks, Journal of Physics and Chemistry of Solids 2003, 64, 2025.
Μ. Nanu, J. Schoonman, A. Goossens, Nano Letters 2005, 5, 1716.
M. Nanu, J. Schoonman, A. Goossens, Advanced Functional Ma- terials 2005, 15, 95.
M. Nanu, J. Schoonman, A. Goossens, Advanced Materials 2004, 16, 453.
S. L. Castro, S. G. Bailey, R. P. Raffaelle, Κ. K. Banger, A. F. Hepp, Chemistry of Materials 2003, 15, 3142.
J. D. Harris, Κ. K. Banger, D. A. Scheiman, M. A. Smith, Μ. H. C. Jin, A. F. Hepp, Materials Science and Engineering B-Solid State Materials for Advanced Technology 2003, 98, 150.
Y. Cui, J. Ren, G. Chen, Y. Qian, Y. Xie, Chemistry Letters 2001, 30,236.
Claims (11)
1. Processo para a produção de camadas fotoativas, caracteri- zado pelo fato de que uma camada não-semicondutora é formada a partir do material precursor que compreende pelo menos um composto metálico e um reagente tipo sal ou orgânico em um substrato por compressão ou revesti- mento com lâmina flexível, e a referida camada não-semicondutora é expos- ta a temperaturas menores do que 300 °C, por meio do que uma camada semicondutora fotoativa é formada a partir da camada não-semicondutora por conversão térmica do material precursor.
2. Processo de acordo com a reivindicação 1, em que o compos- to metálico é um sal metálico.
3. Processo de acordo com a reivindicação 1, em que o compos- to metálico é um complexo metálico.
4. Processo de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 3, em que o composto metálico é selecionado do grupo de sulfetos, selení- deos e telurídeos.
5. Processo de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 3, em que o composto metálico é selecionado do grupo de carbonetos, fosfí- deos, nitridas, antimonidas e arsenídeos.
6. Processo de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 5, em que um reagente Iiberador de enxofre que é selecionado do grupo de enxofre elementar, enxofre elementar com um acelerador de vulcanização, tioacetamida, tiouréia, tiuram, sulfeto de hidrogênio, sulfetos metálicos e sul- fetos de hidrogênio, CS2, P2S2, ou o composto de telúrio e/ou selênio corres- pondente é usado.
7. Processo de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 6, em que a conversão térmica é efetuada na presença de uma base de Lewis.
8. Processo de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 7, em que o substrato que é usado é um polímero e/ou oligômero semicon- dutor ou um composto orgânico monomolecular semicondutor.
9. Processo de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a -8, em que a camada fotoativa semicondutora que é formada está presente na forma de nanopartículas.
10. Componente em que o último compreende uma camada se- micondutora fotoativa que é produzida de acordo com um processo como definido em uma das reivindicações 1 a 9.
11. Componente de acordo com a Reivindicação 10, em que o componente é uma célula solar.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| ATA1058/2006 | 2006-06-22 | ||
| AT0105806A AT503837B1 (de) | 2006-06-22 | 2006-06-22 | Verfahren zum herstellen von photoaktiven schichten sowie bauelemente umfassend diese schicht(en) |
| PCT/AT2007/000296 WO2007147184A2 (de) | 2006-06-22 | 2007-06-18 | Verfahren zum herstellen von photoaktiven schichten sowie bauelemente umfassend diese schicht(en) |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| BRPI0713494A2 true BRPI0713494A2 (pt) | 2012-01-24 |
Family
ID=38833780
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| BRPI0713494-0A BRPI0713494A2 (pt) | 2006-06-22 | 2007-06-18 | método para a produção de camadas fotoativas e componentes que compreendam a(s) referida(s) camadas(s) |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20090235978A1 (pt) |
| EP (1) | EP2030245A2 (pt) |
| JP (1) | JP2009541976A (pt) |
| KR (1) | KR20090039708A (pt) |
| CN (1) | CN101479853B (pt) |
| AT (1) | AT503837B1 (pt) |
| BR (1) | BRPI0713494A2 (pt) |
| CA (1) | CA2654588A1 (pt) |
| MX (1) | MX2008016100A (pt) |
| WO (1) | WO2007147184A2 (pt) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010087205A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Kaneka Corp | 多接合型薄膜光電変換装置 |
| JP5137795B2 (ja) * | 2008-11-26 | 2013-02-06 | 京セラ株式会社 | 化合物半導体薄膜の製法および薄膜太陽電池の製法 |
| JP5137796B2 (ja) * | 2008-11-26 | 2013-02-06 | 京セラ株式会社 | 化合物半導体薄膜の製法および薄膜太陽電池の製法 |
| JP5213777B2 (ja) * | 2009-03-26 | 2013-06-19 | 京セラ株式会社 | 薄膜太陽電池の製法 |
| JP5464984B2 (ja) * | 2009-11-26 | 2014-04-09 | 京セラ株式会社 | 半導体層の製造方法および光電変換装置の製造方法 |
| JP5495849B2 (ja) * | 2010-02-25 | 2014-05-21 | 京セラ株式会社 | 半導体層の製造方法および光電変換装置の製造方法 |
| KR20130034662A (ko) * | 2010-06-29 | 2013-04-05 | 메르크 파텐트 게엠베하 | 반도체막의 제조 |
| WO2014196311A1 (ja) * | 2013-06-03 | 2014-12-11 | 東京応化工業株式会社 | 錯体およびその溶液の製造方法、太陽電池用光吸収層の製造方法および太陽電池の製造方法 |
| JP6259685B2 (ja) * | 2013-10-03 | 2018-01-10 | 積水化学工業株式会社 | 半導体形成用塗布液、半導体薄膜、薄膜太陽電池及び薄膜太陽電池の製造方法 |
| CN109545981A (zh) * | 2018-11-27 | 2019-03-29 | 江苏拓正茂源新能源有限公司 | 一种有机太阳能电池及其制备方法 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE621339A (pt) * | 1961-08-30 | 1900-01-01 | ||
| US4095006A (en) * | 1976-03-26 | 1978-06-13 | Photon Power, Inc. | Cadmium sulfide film |
| GB9123684D0 (en) * | 1991-11-07 | 1992-01-02 | Bp Solar Ltd | Ohmic contacts |
| US5920798A (en) * | 1996-05-28 | 1999-07-06 | Matsushita Battery Industrial Co., Ltd. | Method of preparing a semiconductor layer for an optical transforming device |
| DE69734183T8 (de) * | 1996-10-15 | 2007-03-29 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kadoma | Sonnenzelle und Herstellungsverfahren |
| US6537845B1 (en) * | 2001-08-30 | 2003-03-25 | Mccandless Brian E. | Chemical surface deposition of ultra-thin semiconductors |
| US7468146B2 (en) * | 2002-09-12 | 2008-12-23 | Agfa-Gevaert | Metal chalcogenide composite nano-particles and layers therewith |
| US20060057766A1 (en) * | 2003-07-08 | 2006-03-16 | Quanxi Jia | Method for preparation of semiconductive films |
| US7163835B2 (en) * | 2003-09-26 | 2007-01-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for producing thin semiconductor films by deposition from solution |
| CH697007A5 (fr) * | 2004-05-03 | 2008-03-14 | Solaronix Sa | Procédé pour produire un composé chalcopyrite en couche mince. |
| US20050271827A1 (en) * | 2004-06-07 | 2005-12-08 | Malle Krunks | Solar cell based on CulnS2 absorber layer prepared by chemical spray pyrolysis |
-
2006
- 2006-06-22 AT AT0105806A patent/AT503837B1/de not_active IP Right Cessation
-
2007
- 2007-06-18 CN CN2007800234746A patent/CN101479853B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2007-06-18 WO PCT/AT2007/000296 patent/WO2007147184A2/de not_active Ceased
- 2007-06-18 EP EP07718505A patent/EP2030245A2/de not_active Withdrawn
- 2007-06-18 MX MX2008016100A patent/MX2008016100A/es active IP Right Grant
- 2007-06-18 BR BRPI0713494-0A patent/BRPI0713494A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2007-06-18 KR KR1020097000311A patent/KR20090039708A/ko not_active Withdrawn
- 2007-06-18 JP JP2009515669A patent/JP2009541976A/ja active Pending
- 2007-06-18 CA CA002654588A patent/CA2654588A1/en not_active Abandoned
- 2007-06-18 US US12/306,136 patent/US20090235978A1/en not_active Abandoned
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| MX2008016100A (es) | 2009-01-15 |
| AT503837A1 (de) | 2008-01-15 |
| WO2007147184A2 (de) | 2007-12-27 |
| WO2007147184A3 (de) | 2008-04-24 |
| AT503837B1 (de) | 2009-01-15 |
| KR20090039708A (ko) | 2009-04-22 |
| CN101479853A (zh) | 2009-07-08 |
| US20090235978A1 (en) | 2009-09-24 |
| CA2654588A1 (en) | 2007-12-27 |
| JP2009541976A (ja) | 2009-11-26 |
| CN101479853B (zh) | 2013-01-02 |
| EP2030245A2 (de) | 2009-03-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| BRPI0713494A2 (pt) | método para a produção de camadas fotoativas e componentes que compreendam a(s) referida(s) camadas(s) | |
| Ke et al. | “Unleaded” perovskites: status quo and future prospects of tin‐based perovskite solar cells | |
| Fan et al. | Energetic I–III–VI 2 and I 2–II–IV–VI 4 nanocrystals: synthesis, photovoltaic and thermoelectric applications | |
| Ganguly et al. | Mn-doped CdS quantum dots as sensitizers in solar cells | |
| Chatterjee et al. | Formation of all-oxide solar cells in atmospheric condition based on Cu2O thin-films grown through SILAR technique | |
| Wang et al. | Sb 2 S 3 solar cells: functional layer preparation and device performance | |
| Banu et al. | Tin monosulfide (SnS) thin films grown by liquid-phase deposition | |
| US20140220728A1 (en) | Methods of forming semiconductor films including i2-ii-iv-vi4 and i2-(ii,iv)-iv-vi4 semiconductor films and electronic devices including the semiconductor films | |
| WO2010138636A2 (en) | Synthesis of multinary chalcogenide nanoparticles comprising cu, zn, sn, s, and se | |
| TWI502103B (zh) | 用以在cis、cigs或czts的基礎上形成半導體薄膜之前驅體溶液 | |
| MX2011012882A (es) | Material compuesto que comprende nanoparticulas y produccion de capas fotoactivas que contienen nanoparticulas semiconductoras compuestas cuaternarias, pentanarias y de orden superior. | |
| Sawant et al. | Chemical bath deposition of CuInS2 thin films and synthesis of CuInS2 nanocrystals: a review | |
| Gao et al. | Cu2ZnSn (S, Se) 4 solar cells based on chemical bath deposited precursors | |
| CN108807145B (zh) | 一种制备高效铜铟硒和铜铟镓硒薄膜太阳能电池的方法 | |
| Anil Kumar et al. | The Prospects and Challenges for Ambi‐polar Vacancy‐Ordered Double‐Perovskite Cs2SnI6 Toward Realization of High‐Efficiency Air‐Stable Solar‐Cells | |
| Heo et al. | Clean thermal decomposition of tertiary-alkyl metal thiolates to metal sulfides: environmentally-benign, non-polar inks for solution-processed chalcopyrite solar cells | |
| Khavar et al. | Low-temperature solution-based processing to 7.24% efficient superstrate CuInS2 solar cells | |
| Lee et al. | Synthesis of CZTSe nanoink via a facile one-pot heating route based on polyetheramine chelation | |
| CN111384244B (zh) | 量子点发光二极管及其制备方法 | |
| Kwon et al. | High performance solid-state PbS/CuS hetero-nanostructured quantum dots-sensitized solar cells | |
| Zhang et al. | Phase-selective synthesis of CIGS nanoparticles with metastable phases through tuning solvent composition | |
| Madhusudanan et al. | Alloyed Cu2Fe1-xBaxSnS4 for photoelectrochemical applications: band gap tailoring and structural transition | |
| BRPI0713723A2 (pt) | processo de produção de uma camada contendo partìculas semicon-dutoras inorgánicas assim como componentes que constituem essa camada | |
| HK1135508A (en) | Method for producing photoactive layers and components comprising said layer(s) | |
| Anand | Growth of the Electrodeposited NiX2 (X= Te, Se) Thin Films |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| B25A | Requested transfer of rights approved |
Owner name: ISOVOLTAIC GMBH (AT) Free format text: TRANSFERIDO DE: ISOVOLTA AG |
|
| B25D | Requested change of name of applicant approved |
Owner name: ISOVOLTAIC AG (AT) Free format text: NOME ALTERADO DE: ISOVOLTAIC GMBH |
|
| B08F | Application dismissed because of non-payment of annual fees [chapter 8.6 patent gazette] |
Free format text: REFERENTE A 7A ANUIDADE. |
|
| B08K | Patent lapsed as no evidence of payment of the annual fee has been furnished to inpi [chapter 8.11 patent gazette] |
Free format text: REFERENTE AO DESPACHO 8.6 PUBLICADO NA RPI 2260 DE 29/04/2014. |