CH112393A - Verfahren zur Trennung von Hafnium und Zirkon. - Google Patents
Verfahren zur Trennung von Hafnium und Zirkon.Info
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Description
Verfahren zur Trennung von Hafnium und Zirkon. Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Trennung von Hafnium und Zirkon, und ist dadurch gekennzeichnet, dass man ein Gemisch von Oxyhalogeniden von Hafnium und Zirkon einer fraktionierten Trennung unterwirft.
Zur Trennung des Hafniums von Zirkon kann man folgendermassen vorgehen: Haf- niumhaltiges Zirkonerz wird m eine lösliche Form übergeführt, z. B. durch Behandeln mit Schwefelsäure in das Sulfat; dann wird mit Ammoniak gefällt und das entstandene Hydroxyd in wässeriger Salzsäure gelöst.
Beim Einengen oder bei der Abkühlung der letzteren Lösung kristallisieren die Hafnium- oxychloride fast vollständig, das Zirkonoxy- chlorid zum grossen Teil und die Verunreini gungen, wie das stets vorhandene Eisen chlorid, nur in ganz geringem Masse aus. Wiederholt man die Kristallisation, so rei chert sich in den Kristallen .das Hafnium immer mehr an; gleichzeitig werden sie in immer höherem Masse vom Eisen und ähn lichen Verunreinigungen befreit.
Dies ist auch der Fall, wenn man von den .andern Oxy Halogeniden oder Mischungen von sol chen ausgeht, d. h. also, eventuell Mischun gen von Halogenwasserstoffsäuren anwendet. Beispiel: 1 Gewichtsteil hafniumh.altiges Zirkon- chlorid wird in der Wärme in 3 Gewichts teilen konzentrierter Salzsäure und 3 Ge wichtsteilen Wasser aufgelöst, worauf die Lösung der Abkühlung überlassen wird. Hierdurch kristallisieren die Oxychloride aus, die reicher an Hafnium sind als die Lösung.
Die ausgefällten Oxychloride wer den wieder in warmer Salzsäure aufgelöst, worauf die Lösung der Abkühlung überlas sen wird, wodurch sie wieder Oxychloride auskristallisiert. die verhältniggmässig mehr Hafnium enthalten als die ursprünglich aus gefällten Oxychloride.
Durch Fortsetzung dieser Arbeitsmethode kann man den gewünschten Trennungsgrad für Hafnium und Zirkon, bezw. reines Haf- nium- und Zirkonoxychlorid erreichen.
Anstatt .die Oxyhalogenide aus der Lö sung durch Abkühlung auszuscheiden, kann
EMI0002.0001
inall <SEP> :ie <SEP> auch <SEP> zur <SEP> Ausscheidung <SEP> aus <SEP> der
<tb> wasserben <SEP> oder <SEP> sehwach <SEP> sauren <SEP> Lösung
<tb> durch <SEP> Zusatz <SEP> der <SEP> entsprechenden <SEP> konzen lrierten <SEP> Halobenwa.serstoffsäure, <SEP> eines <SEP> eilt spre_lienden <SEP> löslichen <SEP> Halot"enids, <SEP> z. <SEP> B. <SEP> Cal 1*itlmlialobenids, <SEP> oder <SEP> durch <SEP> Zusatz <SEP> voll <SEP> Al kohol <SEP> oder <SEP> eines <SEP> andern <SEP> beeiblieten <SEP> Fä.lluilbs mittels <SEP> bringen.
<SEP> Der <SEP> ausgefällte <SEP> Stoff <SEP> ist
<tb> La±niumreicller <SEP> als <SEP> die <SEP> Lösung, <SEP> und <SEP> durch
<tb> Poltsetzulib <SEP> der <SEP> Arbeitsmethode <SEP> kann <SEP> der
<tb> ,.,ewiillst@hte <SEP> Trennungsgrad <SEP> für <SEP> Hafnium <SEP> und
<tb> Zirkon <SEP> erreicht <SEP> werden.
<tb> I <SEP> )a. <SEP> die <SEP> Löslichkeit <SEP> der <SEP> Oxyha.lobeilide <SEP> in
<tb> Abbiin-'igkeit <SEP> voll <SEP> der <SEP> Halo;eilwasserstoff s < iurekonzentration <SEP> ein <SEP> Minimum <SEP> aufweist,
<tb> kann <SEP> man <SEP> die <SEP> Ausfällung <SEP> auch <SEP> durch <SEP> Zu s;itz <SEP> vo <SEP> 1i <SEP> Wasser <SEP> zu <SEP> einer <SEP> Lösung <SEP> von <SEP> Oxy bal@tgen@den <SEP> in <SEP> der <SEP> entsprechenden <SEP> sehr <SEP> kon zt'illi'lt-l'tell <SEP> Halogenwasserstofftäure <SEP> hervor-
Claims (1)
- EMI0002.0002 <B>PATENTANSPRUCH</B> <SEP> : <tb> Verfahren <SEP> zur <SEP> Trennung <SEP> von <SEP> Hafnitiln <tb> und <SEP> Zirkon, <SEP> dadurch <SEP> belieiiiizeichiiet, <SEP> dass <tb> <B>111111</B> <SEP> ein <SEP> Gemisch <SEP> der <SEP> Oxyhalobenide <SEP> von <tb> Hafnium <SEP> und <SEP> Zirkon <SEP> einer <SEP> fraktionierten <tb> unterwirft. <tb> UNTERANSPRüCHE <tb> 1. <SEP> Verfahren <SEP> nach <SEP> Patentanspruch. <SEP> dadurch <tb> #rpkennzeichnet, <SEP> dass <SEP> man <SEP> die <SEP> Oxyhalo @,renide. <SEP> fraktioniert <SEP> auskristalliert. <tb> '. <SEP> Verfahren <SEP> nach <SEP> Patentanspruch. <SEP> dadurch <tb> @@chennzcichnet, <SEP> dass <SEP> man <SEP> die <SEP> Oxyhalo #llide <SEP> fraktioniert <SEP> ausscheidet.EMI0002.0003 j). <SEP> Verfahren <SEP> nach <SEP> Palentalhpriteh <SEP> und <SEP> U11 terailsprtich. <SEP> 1, <SEP> dadurch <SEP> gekennzeichnet, <SEP> dass <tb> hafniumhaltibes <SEP> Zirl:onoxy <SEP> Chlorid <SEP> in <SEP> Salz säure <SEP> in <SEP> der <SEP> Wärme <SEP> aufgelöst <SEP> wird, <SEP> wo nach <SEP> die <SEP> Lösung <SEP> der <SEP> Altl-ziililun- <SEP> überlassen <tb> wird, <SEP> wodurch <SEP> Oxyeliloride <SEP> ausgeschieden <tb> werden, <SEP> die <SEP> verhältnismässig <SEP> reicher <SEP> an <tb> Hafnium <SEP> sind <SEP> als <SEP> die <SEP> Lösung. <tb> 4.<SEP> Verfahren <SEP> nach <SEP> Patentallsprueh <SEP> und <SEP> Un teranspruch <SEP> ?_ <SEP> dadurAi <SEP> gekennzeichnet, <tb> dass <SEP> das <SEP> Oxylialogenid <SEP> durch <SEP> Zusatz <SEP> von <tb> konzentrierter <SEP> Halobenwasserstoffsäure <SEP> zur <tb> v <SEP> ässeriben <SEP> Lösuiib <SEP> der <SEP> Oxyhalo-eilide <SEP> zum <tb> Ausfällen <SEP> bebraclit <SEP> wird. <tb> 5. <SEP> Verfahren <SEP> ilacli <SEP> Patentanspruch <SEP> und <SEP> Uli teranspruch <SEP> ?, <SEP> dadurch <SEP> gekennzeichnet, <tb> tlass <SEP> das <SEP> Oxylialogenid <SEP> durch <SEP> Zusatz <SEP> eines <tb> löslichen <tb> zur <SEP> wässerigen <SEP> Lö sung <SEP> der <SEP> Ozylialobenide <SEP> zum <SEP> Ausfällen <tb> bebraellt <SEP> wird. <tb> G.<SEP> Verfahren <SEP> nach <SEP> Patentansprueli <SEP> und <SEP> Un teranspruch <SEP> ?, <SEP> dadureli <SEP> behennzeicbnet. <tb> dass <SEP> das <SEP> Oxyhalo\@enid <SEP> durch <SEP> Zusatz <SEP> voll <tb> Alkohol <SEP> zur <SEP> zv@iaeri:;'en <SEP> Liistuib <SEP> der <SEP> Oxy lialo-enide <SEP> zum <SEP> Ausfiillen <SEP> gebracht <SEP> wird. <tb> 7. <SEP> Verfahren <SEP> nach <SEP> P < ttent-ans.lii'ucli <SEP> und <SEP> L <SEP> n tcrailsprtich <SEP> \?, <SEP> dadurch <SEP> gekennzeichnet. <tb> ilass <SEP> das <SEP> Oxyhalo"eliicl <SEP> durch <SEP> Zusatz <SEP> voll <tb> Wasser <SEP> zu. <SEP> einer <SEP> Mark <SEP> lialogenwasserstoff sauren <SEP> Lösung <SEP> der <SEP> Oxylialobenide <SEP> zuin <tb> Ausfüllen <SEP> gebraAit <SEP> wird.
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|---|---|---|---|
| CH112393D CH112393A (de) | 1923-07-18 | 1924-07-14 | Verfahren zur Trennung von Hafnium und Zirkon. |
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| Country | Link |
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| CH (1) | CH112393A (de) |
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1924
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