CH113735A

CH113735A - Verfahren zur Trennung von Hafnium und Zirkonium.

Info

Publication number: CH113735A
Authority: CH
Inventors: Gloeilampenfabrieken N Philips
Original assignee: Philips Nv
Priority date: 1923-07-30
Filing date: 1924-07-14
Publication date: 1926-02-01
Also published as: AT103899B; NL27473B; GB219983A; FR583802A

Description


  Verfahren zur Trennung von     Hafnium    und     Zirkoniain.       Viele     Zirkonininerale    enthalten     Hafnium,     das sich ebenfalls in den aus     Zirkonminera-          lien    hergestellten, löslichen     Zirkonverbinduu-          gen    vorfindet.     Hafniumhaltige        Zirkonverbin-          dungen,    z.

   B.     Zirkonchlorid,        Zirkonnitrat,          Zirkonstilfat        usw.,    enthalten in Lösung in  der Regel das     Eadikal        Zr0        bezw.    das Ra  dikal     Hf   <B>0.</B>  



  Die das Radikal     Zr0    enthaltenden Verbin  dungen und die das Radikal     Hf0    enthalten  den Verbindungen haben     chemisclie        Eigen-          sehaften,    die einander in hohem Grade glei  chen, aus welchem Grunde die Trennung von       Zirhon    und     Hafnium    auf grosse     Sehwierig-          keiten    stösst.

   Einen bedeutend grösseren     Un-          fürschied    in     den        cliemischen    Eigenschaften  findet man, wenn man die mehrfach     basi-          sehen        Zirkonverbindungen    mit- den entspre  chenden     Hafiliumverbindungen    vergleicht,  wie z.

   B.     7,r.0#.ci.,        5H,0        Und        T-1f20#cl2,          äll#O;        Zr:,0#   <B>.</B>     "        (N0,):j,        5H,0        und        Hf20,;          (NO:I).,#   <B>5H.0;</B>     Zr.,0",        (SCN)2,        5M0        und          Hf.0,        (S:CN)...        5E#O        usw.     



       Das    Radikal     dieserVerbindungenistl:If##0;,          bezw.        Zr.,0".    Im allgemeinen sind mehrfach    basische Verbindungen des     Hafniums        und     des     Zirkoniums    Verbindungen, deren Radikal  mehr Sauerstoff enthält als die Radikale     FUO     und     Zr0.     



  Die vorliegende Erfindung betrifft nun  ein Verfahren     zur    Trennung des     Hafniums     vom     Zirkonium.    Das Verfahren ist dadurch  gekennzeichnet,     dass    man Lösungen mehrfach  basischer Verbindungen von     Hafnium    und       Zirkon    durch Fraktionierung trennt, zum  Beispiel einer fraktionierten F     ällung    oder  Kristallisation unterwirft, wodurch das     Zir-          kon    sich vorzugsweise im Bodensatz     bezw.     den Kristallen befindet,

   während das     Haf-          nium    vorzugsweise sich in der Mutterlauge  anreichert, da die mehrfach     basischeii        Zirkon-          verbindungen    schwerer löslich sind als die  entsprechenden     Hafniumverbindungen.    Die       Zirkonverbindungen    können wieder gelöst  und durch fraktionierte Kristallisation wei  ter behandelt werden.  



  <I>Beispiel:</I>  <B>1</B>     Gewiehtsteil        Zirlcoiiha,fniumoxyeliloricl     wird in<B>50</B> Gewichtsteilen Alkohol aufgelöst,    
EMI0002.0001     
  
    würauf <SEP> der <SEP> Lösuil-- <SEP> nach <SEP> und <SEP> nach <SEP> 125 <SEP> <B>Ge-</B>
<tb>  wichtstelle <SEP> Äther <SEP> zugesetzt <SEP> werden. <SEP> Die <SEP> ans  <B>".</B> <SEP> ällten <SEP> <B>C</B>
<tb>  <B>,Uft</B> <SEP> höheren <SEP> basischen <SEP> Verbindunuen
<tb>  dpr <SEP> Formel <SEP> 5H20 <SEP> #bezw. <SEP> <B>Hf20"cl_.,</B>
<tb>  ind <SEP> verhältnismässig <SEP> reicher <SEP> aii <SEP> Zir  kon <SEP> als <SEP> die <SEP> Lösung.

   <SEP> Der <SEP> Bodensatz <SEP> kann <SEP> null
<tb>  wieder <SEP> in <SEP> Alkohol <SEP> aufgelöst <SEP> und <SEP> einer <SEP> lienen
<tb>  Fällung <SEP> unterworfen <SEP> werden, <SEP> wodurch <SEP> der
<tb>  aus-,efällteStoff <SEP> siehverhältnismässig <SEP> zirkon  ruielier <SEP> zeigen <SEP> wird <SEP> als <SEP> der <SEP> erste <SEP> ausgefällte
<tb>  Stoff; <SEP> man <SEP> kann <SEP> auch <SEP> das <SEP> Hafnium <SEP> in <SEP> d-r
<tb>  ersten <SEP> Mutterlauge <SEP> durch <SEP> Eindampfung <SEP> otlvr
<tb>  durch <SEP> Zusatz <SEP> von <SEP> weiteren <SEP> Fällungsinitteln
<tb>  konzentrieren.
<tb>  



  Durch <SEP> Fortsetzung <SEP> dieser <SEP> Behandlungen
<tb>  k;inn <SEP> man <SEP> den <SEP> gewünschten <SEP> Trennungsgrad
<tb>  für <SEP> Hafnium <SEP> und <SEP> Zirkon <SEP> erreichen.
<tb>  



  Anstatt <SEP> die <SEP> Lösung <SEP> mit <SEP> Äther <SEP> zu <SEP> fällen,
<tb>  kann <SEP> man <SEP> auch <SEP> Aceton <SEP> oder <SEP> ein <SEP> anderes <SEP> <B>-e-</B>
<tb>  (-#ignetcs <SEP> Fällungsmittel <SEP> gebrauchen.
<tb>  



  Das <SEP> vorliegende <SEP> Verfahren <SEP> kann, <SEP> wenn
<tb>  es <SEP> sich <SEP> um <SEP> eine <SEP> Reinlierstellung <SEP> von <SEP> Hal  niumverbindungen <SEP> handelt, <SEP> mit <SEP> besonderem
<tb>  Vorteil <SEP> mit <SEP> dem <SEP> Verfahren <SEP> zur <SEP> Trennwilg,
<tb>  voll <SEP> 11,ifiiiiiiii <SEP> iind <SEP> Zirkon <SEP> gemäss <SEP> Paten,
<tb>  Nr. <SEP> <B>112393# <SEP> das</B> <SEP> sieh <SEP> der <SEP> verschiedenen <SEP> Lö."  lichkeit <SEP> der <SEP> Oxylialogenide <SEP> bedient, <SEP> konibl  niert <SEP> werden, <SEP> indem <SEP> man <SEP> die <SEP> gemäss <SEP> den <SEP> Vor  ,4C.Iirifteii <SEP> von <SEP> Pateilt- <SEP> <B>Nr. <SEP> 112393</B> <SEP> behandelt,#ii
<tb>  Oxylizilogenide <SEP> Llem <SEP> vorliePildeil <SEP> Verfahren
<tb>  unterwirft <SEP> oder <SEP> umgekehrt.

   <SEP> Hierdureli <SEP> wer  ib-ii <SEP> f'ol"l-elide <SEP> Vorteile <SEP> erreicht:
<tb>  <B>(7)</B> <SEP> Die <SEP> Vertinreinigungen <SEP> in <SEP> dein <SEP> liaf  niumlialtigen, <SEP> Zirkonerz, <SEP> wie <SEP> Eisen, <SEP> Alurai  iiiiim <SEP> usw., <SEP> verbleiben <SEP> 1)ei <SEP> der <SEP> Kristallisation
<tb>  <B>der</B> <SEP> Oxyhalogeilide <SEP> in <SEP> der <SEP> Mutterlauge, <SEP> und
<tb>  es <SEP> kristallisiert <SEP> aussehliesslieh <SEP> eine <SEP> <B>31</B> <SEP> ischun-,
<tb>  <B>-#I</B>
<tb>  von <SEP> Zirkon- <SEP> und <SEP> Hifiiiiimox3-Iiilf)geiiideil
<tb>  <B>aus</B>
<tb>  <B>h)</B> <SEP> Die. <SEP> aushristallisiertell <SEP> Oxyli#110')"ellide
<tb>  liafniumreielier <SEP> als <SEP> die <SEP> Lösung, <SEP> da <SEP> die
<tb>  H"ifniurnoxvh,ilogenide <SEP> schwerer <SEP> löslich <SEP> sind
<tb>  <I>-,is</I> <SEP> die <SEP> Zirl#olio-x37hiilogenide.

   <SEP> Da <SEP> die <SEP> ausge  fällten <SEP> Ox- <SEP> yhalogenide <SEP> darauf <SEP> wie <SEP> angegeben
<tb>  weiterbehandelt, <SEP> z. <SEP> B. <SEP> in <SEP> Alkohol <SEP> elöst <SEP> und
<tb>  <B>9</B>
<tb>  dann <SEP> durch <SEP> Funktionieren <SEP> weiter <SEP> getrennt
<tb>  werden, <SEP> so <SEP> ist <SEP> die <SEP> Isolierung <SEP> eine <SEP> sehr <SEP> weit  gehende.

       
EMI0002.0002     
  
    Es <SEP> sind <SEP> iii(-Iii <SEP> allein <SEP> die <SEP> inehrfaeli
<tb>  ,zischen <SEP> Ox.-%-li#ilogeiiide, <SEP> sondern <SEP> auch <SEP> viele <SEP> an  dere <SEP> Zirl#onli,-i'Iniiiiiiverl)iiidiino#eii. <SEP> wie <SEP> tl;t,
<tb>  <B>C <SEP> ,</B>
<tb>  niehrfaeh <SEP> -Nitrat, <SEP> das <SEP> mehrfach <SEP> ba  sische, <SEP> Rhodaiiid <SEP> ii.,-#v., <SEP> die <SEP> siph <SEP> vorzüo,Iieb
<tb>  als <SEP> für <SEP> das
<tb>  <B>z <SEP> l#</B> <SEP> Verfahren
<tb>  eitglieli.

Claims

EMI0002.0003 PATENTANSPRUCH: EMI0002.0004 Verfahren <SEP> zur <SEP> Treiniun-- <SEP> von <SEP> Hafnium <tb> mid <SEP> Zirkoniuni, <SEP> daihirell. <SEP> 'g(#keiiiizeielinet. <SEP> dass <tb> inan <SEP> Lösungen <SEP> von <SEP> mehrfach <SEP> basischen <SEP> Ver bindungen <SEP> voll <SEP> Hafnium <SEP> und <SEP> Zirkon <SEP> (hireii <tb> Friktionieren <SEP> trennt.

EMI0002.0005 UNTERANSPRüCHE: EMI0002.0006 1. <SEP> Verfahren <SEP> wich <SEP> Patentanspruch, <SEP> dadtireli <tb> #"ulzeiiii7 <SEP> ,c-iehiiet#. <SEP> dass <SEP> eine <SEP> Mischung <SEP> mehr Geh <SEP> basi,-;elier <SEP> Vurbinduingen <SEP> von <SEP> Hafniiiiii <tb> iiii(1 <SEP> Zirhon <SEP> in <SEP> Alkohol <SEP> gelöst <SEP> wird. <SEP> worauf <tb> die <SEP> Lösung <SEP> durch <SEP> Zusa <SEP> tz <SEP> von <SEP> Äther <SEP> einer <tb> frtilztioiiierten <SEP> Fällung <SEP> unterworfen <SEP> wird.

EMI0002.0007 Verfahren <SEP> iiaeli <SEP> Patentanspruch, <SEP> dadurch <tb> 'rehplinzeiehn(#I, <SEP> 1 <SEP> dass <SEP> man <SEP> die <SEP> Lösung-ii <SEP> T <tb> friktiolliertull <SEP> Kristallisation <SEP> unter #virft <SEP> und <SEP> dit- <SEP> Fällun-en. <SEP> die <SEP> reicher <SEP> in <tb> Zirkon <SEP> sind.

<SEP> naeli <SEP> der <SEP> Lösull,- <SEP> fortvesetzt <tb> umkristallisiert. <tb> Verfahren <SEP> i-i#iuli <SEP> Patelitanspruch <SEP> und <SEP> U-ii feransprueli <SEP> 1, <tb> dass <SEP> als <SEP> Fälliiii--.#zmittel <SEP> Aceton <SEP> verwendet <tb> en <tb> wird. <tb> Verfahren <SEP> iii(-li <SEP> _P.itentaiiI"priieli <SEP> und <SEP> Un teranspriieben <SEP> 1 <SEP> bis <SEP> 3, <SEP> gekennmichnet <tb> durch <SEP> die <SEP> Kombination <SEP> -nit <SEP> dc-m <SEP> Verfall ren <SEP> zür <SEP> Trennun.- <SEP> voll <SEP> H#iflii.uiii <SEP> und <SEP> Zir konium <SEP> "emäii <SEP> Potent <SEP> -Nr. <SEP> 11239.3. <SEP> die <SEP> sieh <tb> der <SEP> verschied(-iien <SEP> d(-r <SEP> Oxylin logc-iiide <SEP> bedient-, <SEP> indem <SEP> man <SEP> die <SEP> 1.einäss <tb> dell <SEP> -\"or.z:

ebriftcii <SEP> voll <SEP> Patellt <SEP> Nr. <SEP> 11-9392) <tb> behandeltf#n <SEP> Oxvhalo-,eiiide <SEP> d#4-.-n <SEP> vorliec##ii den <SEP> VerfiAiren <SEP> linterwirfi. <SEP> c