Verfahren zur Herstellung von Zeugdruckwalzen. Das für die Herstellung von Zeugdruck- walzen angewandte Molettierverfahren wird bei Mustern mit grossem Rapporte wegen der grossen Abmessungen der Molette kost spielig.
Deshalb schlug man für derartige Muster die Anfertigung der Druckwalzen mittelst Ätzverfahren vor, wobei die ver schiedensten Übertragungsverfahren für das Aufbringen der zu ätzenden gemusterten Schicht angewendet worden sind, wie zum Beispiel die unmittelbare Multiplikation photo graphischer Kopien des einzelnen Musters oder einer durch photographische Multipli kation erzeugten Mustergruppe auf die mit der lichtempfindlichen Schicht bekleidete Walze oder das unmittelbare Aufbringen mittelst eines Umdruckverfahrens (Offsetver- fahren). Mit dem Ätzverfahren lassen sich jedoch nicht so scharfe und gleichmässige Druckwalzen erzeugen,
wie mit dem Molet- tierverfahren, so dass das erstere Verfahren bei Mustern mit feinen Elementen (Linien, Punkte) keine zufriedenstellenden Ergebnisse liefert.
Die Erfindung betrifft. nun ein kombinier tes Verfahren zur Erzeugung von Zeugdruck walzen, deren Muster aus Elementen mit kleinerem Rapporte, die meistens eine feinere Ausführung erheischen, wie sie für die Her stellung des Grundmusters benutzt werden und aus Elementen mit grösserem Rapporte bestehen, bei denen es auf die feinere Aus führung und hohe Gleichmässigkeit weniger ankommt.
Gemäss der Erfindung wird nun zuerst das Muster mit kleinerem Rapporte mittelst des Molettierverfahrens und darauf das Muster mit grösserem Rapporte mittelst eines chemi- graphischen, vorteilhaft eines photomechani schen Reproduktionsverfahrens, auf der glei chen Walze erzeugt. Dadurch werden die Vorteile beider Verfahren vereinigt.
Für die Musterelemente kleineren, mit kleinen Mo letten ausgeführten Rapportes ist das Molet- tierverfahren einfacher, billiger und liefert die für diese Muster erforderliche Schärfe, während das für die Musterelemente grösseren Rapportes verwendete, chemigraphische, ins besondere photomechanische Verfahren die kostspieligen grossen Moletten vermeiden lässt.
Es können demnach auch feine Grundmuster enthaltende und ausserdem ein Muster mit grossem Rapporte aufweisende Zeugdruck walzen mit der Vollkommenheit des Molet- tierverfahrens und mit der Einfachheit des chemigraphischen, insbesondere photomecha nischen Reproduktionsverfahrens erzeugt wer den, was bisher unmöglich war.
Die Ausführungsweise des neuen Ver fahrens ist im folgenden anhand der schema tischen Zeichnungen beispielsweise erläutert.
Fig. 1 zeigt das herzustellende Muster, welches einen Grund aus feinen Punkten a mit kleinem Rapport aufweist, in dem vom Grundmuster freie Stellen b und mit einer fremden Farbe gedruckte Musterelemente d liegen, wobei innerhalb der Stellen b noch mit der Farbe des Grundes gedruckte Muster elemente c vorhanden sein können. Die Muster elemente<I>b,</I> e, <I>d</I> besitzen einen wesentlich grösseren Rapport, als das Grundmuster a.
Fig. 2 zeigt einen dem Muster grösseren Rapportes b, d entsprechend gemusterten Ätzgrund; Fig. 3 ist ein schematischer Längsschnitt der Walze nach dem Molettieren gemäss der Linie 3-3 der Fig. 1;
Fig. 4-6 zeigen den gleichen Längs schnitt der molettierten Walze in den wei teren Arbeitsstadien, und zwar in Fig. 4 mit bereits aufgetragenem, gemustertem Ätzgrun d, in Fig. "5 nach der Herstellung des gal- vanostegischen Niederschlages, in Fig. 6 nach Abschleifen desselben, in Fig. 7 nach Auftragen eines Ätzgrun- des zum Tiefätzen eines Elementes grösseren Rapportes,
und in Fig. 8 nach demj Tiefätzen dieses Ele mentes.
Für das Muster a kleineren Rapporten wird eine Molette hergestellt und mittelst dieser das Muster nach dem Molettierv er fahren in die kupferne Druckwalze e einge drückt. Die Druckwalze weist nun, wie aus Fig. 3 ersichtlich, die durch die Molette er zeugten Vertiefungen a auf, die das Grund muster ergeben. Es wird dann ein dem Muster grösseren Rapportes b, d entsprechend gemusterten Ätzgrund (Fig. 2) auf die Walze e aufgetragen.
Der Ätzgrund f bedeckt die Walze an allen Stellen mit einer bloss elek trisch nichtleitenden oder auch einem an zuwendenden Ätzmittel widerstandsfähigen Schicht, mit Ausnahme der Stellen b und d, an denen das Muster grösseren Rapportes ent stehen soll. Der gemusterte Ätzgrund f' kann mittelst irgend eines der bekannten Über tragungsverfahren auf die Walze aufgebracht werden.
So zum Beispiel kann man die Musterelemente<I>b, d</I> mittelst irgend eines der in der Druckereikunst bekannten Multipli kationsverfahren dem Rapport des Musters <I>b, d</I> entsprechend auf die ganze Länge der zu erzeugenden Zeugdruckwalze und ge gebenenfalls auch in der Umfangsricbtung der Zeugdruckwalze multiplizieren und mit- telst des Offsetverfahrens auf die Mantel fläche der Walze aufdrucken.
Man kann aber auch in der Weise verfahren, dass man die Walze mit einer lichtemfindlichen Schicht; beispielsweise Chromgelatine, bekleidet und das Muster grösseren Rapportes photographisch aufkopiert. Das Aufkopieren kann entweder derart erfolgen, dass man ein einzelnes Muster im Rapport so oft auf die Walze kopiert, bis die Walze bedeckt ist, oder aber man multipliziert das Muster mittelst irgend eines bekannten photographischen Verfahrens auf einen Film;
etwa der ganzen Länge der Walze oder auch einem Bruchteil des Wal zenumfanges erstreckend, so dass man mit diesem Film eine Mustergruppe gleichzeitig auf die Walze kopieren kann, oder aber man multipliziert das Muster auf einen Film, der die ganze Walze bedeckt und mit dem das Aufkopieren des Musters in einem Arbeits gang auf die ganze Oberfläche der Walze erfolgen kann. Nach Belichtung werden die unbelichteten Stellen durch Entwickeln, bei- spielsweise durch Waschen mit warmem Wasser, entfernt. Der gemusterte Ätzgrund muss je nach den für die weitere Herstellung der Walze zu verwendenden Verfahren ent weder bloss elektrisch isolierend sein oder aber muss er auch dem Einfluss eines Ätz mittels widerstehen können.
Der Ätzgrund wird hierzu in irgend einer beim photomecha nischen Druck bekannten Weise vorbereitet.
Wird zum Auftragen des Ätzgrundes ein photomechanisches Verfahren angewendet, so kann man die lichtempfindliche Schicht, ins besondere wenn die durch die Molette er zeugten Vertiefungen gröberer Art und von grösserer Tiefe sind, nicht in der erforder lichen Gleichmässigkeit ohne weiteres auf die molettierte Walze auftragen. Vielmehr muss man hierzu die Vertiefungen der Walze mit irgend einer Masse, z. B. Wachs, ausfüllen, die man nach Entwicklung des Musters auf dein Ätzgrund von den durch den Ätzgrund unbedeckten Stellen mittelst eines Lösungs mittels entfernen kann, ohne dass der Ätz- grund beschädigt würde.
Ist das molettierte Muster sehr fein und von sehr geringer Tiefe, so kann man nach Aufbringen des gemuster ten Ätzgrundes unter Umständen die Walze wohl auch unmittelbar in ein galvanostegi- sches Bad bringen und Metall, insbesondere Kupfer; auf die durch den Ätzgrund unbe deckten Stellen der Walze niederschlagen. Der an den Musterstellen <I>b</I> und<I>d</I> erzeugte Kupferniederschlag g (Fig. 5) muss so stark sein, dass die tiefsten Stellen desselben aus der Mantelfläche der Walze herausragen.
Meistens aber -- insbesondere wenn das molettierte Muster von gröberer Art und grösserer Tiefe ist - muss man das an den mit dem Niederschlag auszufüllenden Stellen vorhandene Relief durch Ätzen oder durch mechanische Mittel entweder in seiner vollen Höhe, oder bis zu einem Teil seiner Höhe beseitigen, so dass die in Fig. 4 punktiert angedeuteten Vertiefungen y mit ebenem Boden entstehen.
Würde man dies unter lassen, so lässt sich meistens keine genügende Homogenität an der Oberfläche der mit dem galvanischen Niederschlag ausgefüllten Stellen und eine zuverlässige Verbindung zwischen dem Grundmetall und dem Kupfernieder schlag erreichen, so dass Nachätzungen oder Gravierungen an den galvanisch niederge schlagenen Stellen unzufriedenstellende Er gebnisse liefern und auch der von diesen Stellen erzielte Abdruck ungleichmässig wer den kann.
Es wird nun der Ätzgrund f beseitigt, und es werden die aus der Oberfläche der Walze herausragenden Stellen des galvani schen Niederschlages g durch Abdrehen oder Schleifen entfernt, so dass die Druckwalze nunmehr den aus Fig.6 ersichtlichen Zu stand aufweist. Diesem Zustande entspre chend ist an denjenigen Stellen der Ober fläche, die von den Musterelementen<I>b</I> und<I>d</I> des Musters grösseren Rapportes bedeckt werden sollen, das Grundmuster a entfernt worden.
Sind einzelne Elemente des Musters grösseren Rapportes mit der Farbe des Grund musters a zu bedrucken, wie beispielsweise das Musterelement e, so muss die Walze wieder mit einem Ätzgrund bedeckt werden, der bloss die dem Element c entsprechenden Stellen freilässt (Fig. 7). Das Aufbringen dieses gemusterten Ätzgrundes erfolgt in irgend einer der bereits oben beschriebenen Weisen.
Hierauf wird das Muster c durch Gravieren oder mittelst eines elektrochemi schen oder rein chemischen Ätzverfahrens tiefgeätzt, so dass die Walze nach Entfernen des Ätzgrundes den aus Fig. 8 ersichtlichen Zustand aufweist.
Zum Drucken der Musterelemente d mit einer von der Grundfarbe abweichenden Farbe muss man in an und für sich bekannter Weise eine zweite Walze verwenden.