CH335765A - Verfahren zur Steuerung von Diffusionsprozessen in festem Material, insbesondere zur Dotierung und Reinigung von Halbleitern - Google Patents
Verfahren zur Steuerung von Diffusionsprozessen in festem Material, insbesondere zur Dotierung und Reinigung von HalbleiternInfo
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- C30B31/00—Diffusion or doping processes for single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure; Apparatus therefor
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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Publications (1)
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|---|---|
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1186950B (de) * | 1960-02-15 | 1965-02-11 | Intermetall | Verfahren zum Entfernen von unerwuenschten Metallen bzw. Stoerstellen aus einem Halbleiterkoerper |
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- 1954-02-23 CH CH335765D patent/CH335765A/de unknown
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1186950B (de) * | 1960-02-15 | 1965-02-11 | Intermetall | Verfahren zum Entfernen von unerwuenschten Metallen bzw. Stoerstellen aus einem Halbleiterkoerper |
Also Published As
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