CH358866A - Verfahren zur Herstellung von p-n-p-Germanium- und n-p-n-Siliziumflächentransistoren und nach diesem Verfahren hergestellter Flächentransistor - Google Patents

Verfahren zur Herstellung von p-n-p-Germanium- und n-p-n-Siliziumflächentransistoren und nach diesem Verfahren hergestellter Flächentransistor

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CH358866A
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