CH400373A - Lötverbindung für Halbleiterelemente - Google Patents

Lötverbindung für Halbleiterelemente

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CH400373A
CH400373A CH77663A CH77663A CH400373A CH 400373 A CH400373 A CH 400373A CH 77663 A CH77663 A CH 77663A CH 77663 A CH77663 A CH 77663A CH 400373 A CH400373 A CH 400373A
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metal
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Giger Johannes
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Bbc Brown Boveri & Cie
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Description


      Lötverbindung        für        Halbleiterelemente       Die Erfindung     betrifft    eine Lötverbindung für  Halbleiterelemente, bei welchen mindestens eine       Elektrodenplatte    grossflächig auf einem Metallkörper  liegt und mit diesem durch eine     Weichlotschicht    ver  bunden ist, wobei der thermische Ausdehnungskoeffi  zient der     Elektrodenplatte    verschieden von dem  jenigen des     Metallkörpers    ist.  



  Die hohen Leistungsdichten, die insbesondere die  Halbleitergleichrichter auf dem Starkstromgebiet auf  weisen, verlangen die Abführung der im Halbleiter  element entstehenden Verlustwärme durch geeignete  Kühlvorrichtungen. Um einen guten Wärmekontakt  des aktiven Halbleiterelementes eines Gleichrichters,  eines steuerbaren Gleichrichters, eines     Transsistors     oder     dergleichen    zu erreichen, ist das Element  mit einem massiven metallischen, meist aus Kupfer  bestehenden     Körper,    beispielsweise dem Gehäuse  boden, und mit einer Stromzuführung verlötet.

   Bei  Halbleiterelementen, die für hohe Leistungen be  stimmt sind, wird das Gehäuse ausserdem     in    einen  Kühlkörper eingeschraubt oder     eingepresst.     



       Damit    sich die infolge der     unterschiedlichen    ther  mischen     Ausdehnungskoeffizienten    des     Metallkörpers     bzw. der Stromzuführung (beispielsweise Kupfer) und  des Halbleiterkörpers     (beispielsweise        Silizium)    auf  tretenden mechanischen     Kräfte    nicht auf den Halb  leiterkörper übertragen und     ,seine    Zerstörung be  wirken können, ist der Halbleiterkörper durch ein  geeignetes Lot mit     Elektrodenplatten    verbunden,

   die  aus einem Material     mit    mindestens angenähert glei  chem thermischen Ausdehnungskoeffizienten wie der  jenige des Halbleiterkörpers bestehen. Für einen     Sili-          ziumkörper    hat sich die Verwendung     vonMolybdän     oder Wolfram als günstig erwiesen.  



  Die Verbindung der     Elektrodenplatte    mit dem  Metallkörper bzw. mit der Stromzuführung erfolgt       bekanntlich        mit        Hilfe    eines Weichlotes auf     Blei-_oder       Zinnbasis, welches die infolge der unterschiedlichen       Ausdehnungskoeffizienten    entstehenden Kräfte auf  nimmt. Derartige     Lotverbindungen    zwischen     Elek-          trodenplatte    und Metallkörper sind einwandfrei, so  lange die     Lötfläche    klein ist.

   Bei grösseren     Lötflächen     von beispielsweise mehr als 100     mm2    zeigen sich  bei wechselnder thermischer Belastung des Halbleiter  elementes in der Lötverbindung Ermüdungserschei  nungen, welche auf plastischer Verformung des  Weichlotes beruhen und nach verhältnismässig wenig  zahlreichen Lastwechseln zur     Auftrennung    der Löt  verbindung und zur Zerstörung der Halbleiteranord  nung führen.  



  Zur Beseitigung des genannten Nachteiles     und     zur Erhöhung der Festigkeit der Lötverbindung ist  es bekannt, den Metallkörper mit einer weich ange  löteten Auflage zu versehen, mit der die Elektroden  platte des Halbleiterelementes ebenfalls durch Weich  lötung verbunden wird und deren     thermischer    Aus  dehnungskoeffizient zwischen denjenigen des Metall  körpers und der     Elektrodenplatte        liegt.     



  Es ist weiter bekannt, den Metallkörper mit einer  hart angelöteten Auflage zu versehen, die etwa den  gleichen thermischen Ausdehnungskoeffizienten wie       die        Elektrodenplatte        aufweist,    und dann die     Elek-          trodenplatte    mit der Auflage durch     Weichlötung    zu  verbinden.  



  Es ist auch bekannt; die an die     Lotschicht    an  grenzende Fläche des     Metallkörpers    durch Schlitze  in einer Vielzahl kleinerer Flächen zu unterteilen,  wodurch die entstehenden Kräfte durch Verformung  des unterteilten Körpers aufgenommen werden.  



       Schliesslich    ist es bekannt,     Elektrodenplatte    und  Metallkörper durch eine     Hartlotschicht    zu verbinden,  welche durch die- entstehenden inneren Spannungen  nicht dauernd verformt     wird.    Die Nachteile einer       Hartlotschicht    liegen einmal darin, dass die Dicke      der     Elektrodenplatte        wesentlich    erhöht werden muss,  damit die entstehenden Kräfte von dieser aufgenom  men und nicht auf das Halbleiterelement übertragen  werden. Dadurch verschlechtert sich aber der Wärme  übergang vom Halbleiterelement auf den der Wärme  abfuhr dienenden Metallkörper.

   Zudem muss die  Hartlotung beispielsweise mit Silberlot bei wesent  lich höheren Temperaturen vorgenommen werden,  so dass die Gefahr     besteht,    dass Kupfer aus dem       Metallkörper    in den Halbleiter diffundiert und seine  Spannungsfestigkeit herabsetzt.  



  Durch die vorliegende Erfindung wird eine Löt  verbindung für Halbleiterelemente aufgezeigt, bei  welcher     innere        Spannungen    in der die Elektroden  platte und den     Metallkörper    verbindenden Weich  lotschicht bei Temperaturwechsel stark herabgesetzt  sind.

   Die     Lötverbindung    ist dadurch gekennzeichnet,  dass in der     Weichlotschicht    zwischen dem Metall  körper und der     Elektrodenplatte    eine     einlagige     Schicht sich gegenseitig berührender Metallkugeln  eingebettet ist, deren thermischer     Ausdehnungskoeffi-          zient    zwischen denjenigen der     Elektrodenplatte    und  des Metallkörpers liegt.  



  Anhand der einzigen Zeichnung soll die Erfin  dung am Beispiel eines Halbleitergleichrichters näher  erläutert werden.  



  In der Zeichnung ist ein Halbleitergleichrichter  gezeigt, bei welchem die     Elektrodenplatten    des Halb  leiterelementes mit dem Gehäuse und     mit    der Strom  zuführung durch Lötverbindungen gemäss der Erfin  dung verbunden sind. Der Gleichrichter ist im Zu  stand vor dem endgültigen Zusammenbau dargestellt,  das heisst vor dem     Anlöten    des Halbleiterelementes  an das Gehäuse und an die Stromzuführung, und  vor dem Verschliessen des Gehäuses.     Sinngemäss    kann  die gleiche     Lötverbindung    auch bei anderen Halb  leiteranordnungen wie Leistungstransistoren verwen  det werden.  



  Mit 1 ist der     metallische,    aus Kupfer bestehende  Körper bezeichnet, der den Boden     des    Gehäuses  bildet,     zur        Gewährleistung    genügender     Wärmeabfuhr     grosse Wandstärken aufweist und zur Befestigung  des Gleichrichters in einem Kühlkörper     mit    einem       Gewindebolzen    versehen ist, welcher gleichzeitig den  einen Anschluss des Gleichrichters bildet.

       Mit    2 ist  der den zweiten Anschluss bildende     Bolzen    bezeich  net, der zweckmässig ebenfalls aus Kupfer besteht  und in dessen zentraler     Bohrung    ein Rohr 3 als       Pumpstengel    angebracht ist. In der Verlängerung des       Anschlussbolzens        befindet    sich die     Kupferlitze    4, de  ren freies Ende durch die Kupferkappe 5 gefasst ist.       Anschlussbolzen    und Gehäuseboden sind durch eine        Kovar -Hartglasverschmelzung    6     miteinander    me  chanisch verbunden.

   Mit 7 ist das aus einer legierten       Siliziumscheibe    bestehende aktive Halbleiterelement  bezeichnet, an welches beidseitig     Molybdänscheiben     8 und 9     als        Elektrodenplatten    angelötet sind. Die Ab  messungen des Halbleiterelementes und der     Elektro-          denplatten    sind hierbei     nicht        massstäblich    eingezeich  net.

      Die an die     Elektrodenplatte    angrenzende Fläche  des Gehäusebodens 1 ist mit einer     einlagigen        Schicht     10 sich gegenseitig berührender Metallkugeln be  deckt, deren thermischer     Ausdehnungskoeffizient    zwi  schen     denjenigen    der     Elektrodenplatte    8 aus     Molyb-          dän    und des Gehäusebodens 1 aus Kupfer liegt.  Diese Kugelschicht ist mit dem Gehäuseboden und  der     Elektrodenplatte    weich verlötet.  



  In gleicher Weise ist auch die an die Elektroden  platte 9 angrenzende Fläche der Kupferkappe 5 der  flexiblen Stromzuführung 4 mit einer     einlagigen     Schicht 11 sich berührender     Metallkugeln    bedeckt,  wobei diese Kugelschicht 11 mit der Kupferkappe 5  ebenfalls weich verlötet ist.

   Zum Zusammenbau wer  den der     Anschlussbolzen    2 und der Gehäuseboden 1  zusammengesteckt und auf etwa 200  C erwärmt,  wodurch auch die Kugelschicht 11 mit der     Elektro-          denplatte    9 durch eine     Weichlotschicht    verbunden       wird.    Anschliessend wird das Gehäuse gasdicht hart  verlötet und durch den     Pumpenstengel    3 evakuiert  bzw. mit Schutzgas gefüllt.  



  Durch die Bedeckung der Metallkörper, im vor  liegenden Beispiel des Gehäusebodens und der Strom  zuführung, mit einer     einlagigen    Schicht sich berüh  render     Metallkugeln,    die mit den Metallkörpern und  den     Elektrodenplatten    durch Weichlot verbunden  sind, wird erreicht, dass in den     Lotschichten    an den       Bauteilgrenzen    bei Temperaturwechseln keine grossen  mechanischen Spannungen infolge Ausdehnungsdif  ferenzen auftreten können.

   Bei der direkten     Ver-          lötung    des     Gehäusebodens    mit der     Elektrodenplatte     entsteht eine dünne und     flache        Lotschicht,    in welcher  Schubspannungen sich nur in der Ebene der Lot  fläche auswirken, was bei grossen Unterschieden der  thermischen     Ausdehnungskoeffizienten    der zu ver  lötenden Teile zum Bruch der Lötverbindung führt.  In der beschriebenen Anordnung werden die me  chanischen Spannungen verteilt und aufgefangen.

    Beim Zusammenlöten des Gehäusebodens, der Ku  gelschicht und der     Elektrodenplatte    füllen sich die  Räume     zwischen    den Kugeln dank den     Kapillar-          kräften    mit dem     flüssigen    Weichlot.     Im    Raum zwi  schen drei oder vier sich berührenden Kugeln liegen  deshalb zwei mit den Spitzen     gegeneinanderliegende     Pyramiden aus Weichlot mit drei oder vier konkaven  Seitenflächen.

       Hierbei    sind die mit dem Gehäuse  boden und der     Elektrodenplatte    in Berührung ste  henden Flächen, nämlich die Gesamtzahl aller     Pyra-          midengrundflächen,    nur in geringem durch die Kugel  auflagepunkte     vermindert.    Da die gesamthaft     belötete     Oberfläche aber um ein     Vielfaches    grösser als bei  der direkten     Verlötung    ist,

   sind die infolge unter  schiedlicher Ausdehnung     des    Gehäusebodens und der       Elektrodenplatte    auftretenden     Spannungskräfte    nicht  mehr nur in der zu den Flächen des Gehäusebodens  und der     Elektrodenplatte    parallelen Ebene wirksam,  sondern auch in der Richtung senkrecht zu der ge  nannten Ebene, das heisst in axialer Richtung. In  dieser     Richtung    wirken sich aber     bekanntlich    die  Spannungskräfte weit weniger     gefährlich    aus.

        Dazu kommt, dass sich bei der gegebenen geome  trischen Form der     Kugeln    die fast geschlossene Be  rührungsebene des     Kugelmaterials,    dessen Ausdeh  nungskoeffizient zwischen     denjenigen    des Gehäuse  bodens und der     Elektrodenplatte    liegt, in jedem Fall  genau zwischen die     Grenzflächen    des Gehäuseboden  materials und des     Elektrodenplattenmaterials,    also  beispielsweise zwischen Kupfer und     Molybdän    ein  stellt.

       Vorteilhaft    bezüglich der Spannungsverteilung  ist hierbei auch, dass das Volumen des     Kugelmaterials     in axialer Richtung von der Mitte des Lötspaltes aus  beidseitig gleichmässig abnimmt.  



  Schliesslich besteht ein weiterer Vorteil der viel  fachen Unterteilung des     Lotspaltes    durch die Kugel  schicht     darin,    dass keine scharfen Kanten und Spitzen  vorhanden sind, die Ursache von Ansätzen zu Rissen  bilden könnten, sondern dass die     Lotunterteilungs-          fläcl:en    optimal günstig und gleichmässig sind.  



  Als Material für die Metallkugeln mit einem  thermischen     Ausdehnungskoeffizienten    zwischen den  jenigen der zu verlötenden     Elektrodenplatte    und des  Metallkörpers eignen sich beispielsweise Platin und  Palladium sowie Legierungen dieser Metalle, ferner  Chrom und Gold. Es können aber auch die gleichen  Metalle wie diejenigen der     Elektrodenplatte    oder des  Metallkörpers verwendet werden,     also    beispielsweise       Molybdän    oder Wolfram bzw. Kupfer. Es hat sich  als zweckmässig erwiesen, Metallkugeln mit einem  zwischen 0,5 und 2 mm liegenden Durchmesser zu  verwenden.  



  Das Bedecken der Metallkörper mit einer     ein-          lagigen    Schicht sich berührender     Metallkugeln    kann  auf verschiedene Arten geschehen. In jedem Fall  ist es vorteilhaft, die     Metallkugeln    in der Form eines       einlagigen    Gitters mechanisch festzuhalten und mit  dem Metallkörper und der     Elektrodenplatte    weich  zu verlöten.  



  Ein Verfahren besteht darin, den Metallkörper,  also im Beispiel des beschriebenen Halbleitergleich  richters den Gehäuseboden 1 bzw. die Kupferkappe  5 derart einzudrehen, dass eine     bestimmte        Anzahl     Kugeln eng     aneinanderliegend        spielfrei    gefasst sind  und     anschliessend    unter sich, mit dem     Metallkörper     und mit der     Elektrodenplatte    weich verlötet wer  den, beispielsweise durch Einbringen einer dünnen  Scheibe eines Weichlotes auf Blei- oder     Zinnbasis     und Erwärmen.  



  In einem anderen Verfahren werden die Metall  kugeln in einer Lehre gefasst und unter sich zu  einem     einlagigen    gerichteten Kugelgitter von be  stimmter Form und Flächengrösse mechanisch fest  verbunden. Das Gitter wird hierauf auf den Metall  körper gebracht und     mit    diesem und der     Elektroden-          platte    weich verlötet.  



  In der Lehre können die     Metallkugeln    beispiels  weise mechanisch fest verbunden werden, indem sie  in ihren gegenseitigen     Berührungspunkten    mit einem  Lot verlötet werden; dessen Schmelzpunkt höher als  derjenige des Lotes zur     Verlötung    des Kugelgitters       mit    dem     Metallkörper    und der     Elektrodenplatte    ist,    so dass sich beim     anschliessenden    Verlöten des Kugel  gitters mit dem Metallkörper und der Elektroden  platte der Kugelverband nicht löst.

   Statt dessen kön  nen die in einer Lehre gefassten     -Kugeln    auch durch  Punktschweissen oder Sintern in den gegenseitigen  Berührungspunkten mechanisch fest verbunden wer  den. Ferner können die in einer Lehre gefassten  Kugeln durch Bedampfen oder auf     galvanischem     Wege mit     einer    dünnen     Metallhaut    überzogen und  anschliessend     im    Ofen in einer     Schutzgasatmosphäre     oder im Vakuum zu einem festen Gitter verbunden  werden.  



  Die     Erfindung    wurde am Beispiel eines     Halb-          leitergleichrichters    erläutert. Sie ist jedoch auch bei  Halbleiteranordnungen anderer     Art,        wie    Leistungs  transistoren und mehrschichtigen Dioden anwendbar.

Claims (1)

  1. PATENTANSPRÜCHE I. Lötverbindung für Halbleiterelemente, bei wel chen mindestens eine Elektrodenplatte grossflächig auf einem Metallkörper liegt und mit diesem durch eine Weichlotschicht -verbunden ist;
    wobei der ther- mische Ausdehnungskoeffizient der Elektrodenplatte verschieden von demjenigen des Metallkörpers ist, dadurch gekennzeichnet, dass in der Weichlotschicht zwischen dem Metallkörper und der Elektrodenplatte eine einlagige Schicht sich gegenseitig berührender Metallkugeln eingebettet ist, deren thermischer Aus dehnungskoeffizient zwischen denjenigen der Elektro- denplatte und des Metallkörpers liegt.
    1I. Verfahren zur Herstellung einer Lötverbin dung für Halbleiterelemente nach Patentanspruch I, dadurch gekennzeichnet, dass Metallkugeln in der Form eines einlagigen Gitters mechanisch festgehal ten und mit dem Metallkörper und der Elektroden platte weich verlötet: werden. UNTERANSPRÜCHE 1. Lötverbindung nach Patentanspruch I, dadurch gekennzeichnet, dass der Durchmesser der Metall- kugeln zwischen 0,5 und 2 mm liegt. 2.
    Verfahren nach Patentanspruch II, dadurch gekennzeichnet, dass die Metallkugeln im Metallkör per spielfrei gefasst und anschliessend unter sich, mit dem Metallkörper und mit der Elektrodenplatte weich verlötet werden. 3.
    Verfahren nach Patentanspruch II, dadurch gekennzeichnet, dass die Metallkugeln in einer Lehre gefasst und unter sich zu einem festen Gitter ver bunden werden, und dass das Kugelgitter- anschliessend mit dem Metallkörper und der Elektrodenplatte weich verlötet wird. 4.
    Verfahren nach Unteranspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Metallkugeln unter sich mit einem Lot zu einem Gitter verbunden werden, dessen Schmelzpunkt höher als derjenige des Lotes zur Ver- Tötung des Kugelgitters mit dem Metallkörper und der Elektrodenplatte ist. 5. Verfahren nach Unteranspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Metallkugeln durch Punkt- schweissen unter sich zu einem Gitter verbunden wer den. 6. Verfahren nach Unteranspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Metallkugeln durch Sintern unter sich zu einem Gitter verbunden werden.
    ?. Verfahren nach Unteranspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Metallkugeln mit einer dün nen Metallschicht überzogen werden und unter Wärmeeinwirkung unter sich zu einem Gitter ver bunden werden.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2188307A1 (de) * 1972-06-13 1974-01-18 Licentia Gmbh

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