CH403334A - Polarisationseinrichtung - Google Patents

Polarisationseinrichtung

Info

Publication number
CH403334A
CH403334A CH647263A CH647263A CH403334A CH 403334 A CH403334 A CH 403334A CH 647263 A CH647263 A CH 647263A CH 647263 A CH647263 A CH 647263A CH 403334 A CH403334 A CH 403334A
Authority
CH
Switzerland
Prior art keywords
reflex
plate
increasing
polarization
increasing layer
Prior art date
Application number
CH647263A
Other languages
English (en)
Inventor
Klaus Dr Weber
Kornder Franz
Original Assignee
Leitz Ernst Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Leitz Ernst Gmbh filed Critical Leitz Ernst Gmbh
Publication of CH403334A publication Critical patent/CH403334A/de

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/28Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for polarising
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • G02B5/3083Birefringent or phase retarding elements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)

Description


      Polarisationseinrichtung       Die     Erfindung    betrifft eine Polarisationseinrich  tung, die eine Vorrichtung zur Unterdrückung der  durch ungleiche     Reflexionen    und/oder Brechungen  der     Vertikal-    bzw. Horizontalkomponente bewirkten  Drehungen der Schwingungsebene hervorgerufenen  unerwünschten Aufhellung aufweist.  



  Es ist bekannt,     dass    man bei Polarisationseinrich  tungen diese unerwünschte Aufhellung wenigstens teil  weise dadurch aufheben kann, dass man an einer geeig  neten Stelle im Strahlengang eine     A/2-Platte    anordnet,  um durch eine Drehung der Polarisationsebene zu einer  angenäherten Kompensation der durch die vor der       R/2-Platte    angeordneten optischen Glieder hervorge  rufenen Drehungen der Schwingungsebene durch die  hinter der     2/2-Platte    angeordneten optischen Glieder  zu kommen.

       Allerdings    ist auf diese Weise nur in  begrenztem Umfang eine Unterdrückung der Auf  hellung möglich, da man gezwungen ist, die     A/2    Platte  an einer Stelle anzuordnen, die keine volle Kompen  sation gestattet.  



  Es ist daher schon vorgeschlagen worden, zu  sätzliche optische Mittel, die im übrigen aber den  Strahlengang optisch nicht beeinflussen, in einer  derartigen Polarisationseinrichtung zusammen mit  einer     d/2-Platte    vorzusehen. Wenn man jedoch auf  diese Art eine völlige Kompensation erreichen will,  erfordert das einen     erheblichen    Aufwand an optischen  Mitteln, oder diese Mittel selbst     sind    ausserordent  lich schwer mit der gewünschten Genauigkeit her  zustellen.  



  Nach der     Erfindung    erreicht     man    jedoch auf ein  fachste Weise eine Kompensation bei     Polarisations-          einrichtungen,    die mit einer     2/2-Platte    zwischen den  zwischen     Polarisator    und Analysator angeordneten  Gliedern, beispielsweise den Linsen, Filtern, Objekt  trägern, ausgerüstet     ist,    dadurch,

   dass     zur        Symmetrie-          sierung    der die Schwingungsebene drehenden Eigen-    schalten der beiderseits der     A/2-Platte    angeordneten  optischen Glieder mindestens eine reflexerhöhende       dielektrische        Schicht    auf mindestens einer der vor  handenen optischen Flächen vorgesehen ist.  



  In der beigefügten     Zeichnung    sind schematisch  vier beispielsweise Ausführungsformen     dargestellt,     denen jeweils der Strahlengang in einem Mikroskop  zugrunde gelegt worden ist.  



  In der     Fig.    1 werden die von einer Lichtquelle  ausgehenden Strahlen von einem     Polarisator    2 pola  risiert und durch einen     Kondensor    3 durch eine       A/2-Platte    4 auf das Objekt 5     gelenkt.    Das Objekt 5  wird     mittels    eines Objektivs 6 durch einen     Analy-          sator    7 abgebildet und durch ein     Okular    8 betrachtet.

    Auf einer der     gekrümmten        Linienflächen    des     Kon-          densors    3 ist eine reflexerhöhende     dielektrische     Schicht 9- vorgesehen. Bei dieser Darstellung sind der  Einfachheit halber der     Kondensor    durch     zwei,    das  Objektiv durch drei Linsen und das Okular durch  eine Linse symbolisiert.

   Die     A/2-Platte    4 wird je nach  ihrer optischen Beschaffenheit entweder an einer  Stelle im beleuchtenden     Strahlengang    angeordnet, die  senkrecht durch mindestens nahezu     parallele    Licht  strahlen     durchsetzt    wird, oder aber im divergenten  oder konvergenten Strahlengang. Als gekrümmte  Flächen bieten sich ebenfalls Kittflächen an.  



  In der Anordnung nach     Fig.    2 ist     zusätzlich    bei  sonst gleichem     Aufbau    und gleicher     Bezifferung    ein  Filter 10 vorgesehen. Dabei ist die reflexerhöhende       Schicht    9a auf dem Filter, d. h. auf einer ebenen  Fläche, an Stelle einer der     Kondensotlinsen    ange  ordnet.  



  Die Anordnung nach     Fig.    3 unterscheidet sich  von der nach der     Fig.    2 lediglich dadurch, dass die  reflexerhöhende Schicht 9b auf der ebenen Innen  fläche des     Polarisators    anstatt auf     einer    der     Konden-          sorflächen    angeordnet ist.      In der     Fig.    4 ist     ein        Polarisationsmikroskop    dar  gestellt, bei dem sowohl auf der Beleuchtungsseite  als auch auf der Abbildungsseite je einer     2/2-Platte     4a bzw. 4b vorgesehen ist.

   Durch die Anordnung  einer reflexerhöhenden Schicht 9c auf der     2/2-Platte     selbst im     Beleuchtungsstrahlengang    ist eine Kom  pensation der die     Polarisationsebene    drehenden Ei  genschaften zwischen     Polarisator    und Objekt er  reicht. Durch Anordnung einer weiteren reflexer  höhenden     Schicht    9b auf einer der Flächen des  Objektivs ist ausserdem eine     Kompensation    der Dre  hungen zwischen Objekt und Analysator durch  geführt.

   Es ist dann ohne weiteres     möglich,    ver  schiedene     Kondensoren    und verschiedene Objek  tive am     Mikroskop    unabhängig voneinander zu       wechseln.     



       Verwendet    man     2/2-Platten    aus     optisch    ein  achsigem Material, ist es     zweckmässig,        die    reflex  erhöhende     dielektrische    Schicht an einer Stelle vor  zusehen, die schräg von den Strahlenbündeln durch  setzt wird, während die     A/2-Platte    von möglichst  parallelen Bündeln senkrecht durchsetzt werden soll.  Bei der Verwendung von     2/2-Platten    aus optisch  zweiachsigem Material werden erfindungsgemäss so  wohl die     reflexerhöhenden    Schichten als auch die       2/2-Platten    schräg durchsetzt.

Claims (1)

  1. PATENTANSPRÜCHE I. Polarisationseinrichtung, die eine Vorrichtung zur Unterdrückung der durch ungleiche Reflexionen und/oder Brechungen der Vertikal- bzw. Horizon talkomponente bewirkten Drehungen der Schwin gungsebene hervorgerufenen unerwünschten Auf hellung aufweist und die mit einer A/2-Platte zwischen den zwischen Polarisator und Analysator angeordne ten optischen Gliedern ausgerüstet ist, dadurch ge kennzeichnet,
    dass zur Symmetrisierung der die Schwingungsebene drehenden Eigenschaften der bei derseits der 2/2-Platte angeordneten optischen Glie der mindestens eine reflexerhöhende dielektrische Schicht auf mindestens einer der vorhandenen opti schen Flächen vorgesehen ist.
    II. Verwendung der Polarisationseinrichtung nach Patentanspruch<B>1</B> in einem Polarisationsmikroskop, dadurch gekennzeichnet, dass je eine A/2-Platte im beleuchtenden und im abbildenden Strahlengang vor gesehen ist und dass sowohl die zwischen Polarisator und Objekt einerseits als auch die zwischen Objekt und Analysator anderseit angeordneten optischen Mittel mittels der beiden A/2-Platten und reflex erhöhenden Schichten je für sich hinsichtlich ihrer die Polarisationsebene drehenden Eigenschaften sym- metrisiert sind.
    UNTERANSPRüCHE 1. Einrichtung nach Patentanspruch I, dadurch gekennzeichnet, dass die reflexerhöhende Schicht auf gekrümmten Flächen angeordnet ist. 2. Einrichtung nach Patentanspruch I und Unter anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die reflex erhöhende Schicht auf ebenen Flächen angeordnet ist. 3. Einrichtung nach Patentanspruch I und Unter ansprüchen 1 und 2. 4. Einrichtung nach Patentanspruch I, dadurch gekennzeichnet, dass die reflexerhöhende Schicht auf Linsenflächen angeordnet ist. 5.
    Einrichtung nach Patentanspruch I, dadurch gekennzeichnet, dass die reflexerhöhende Schicht auf Filterflächen angeordnet ist. 6, Einrichtung nach Patentanspruch I, dadurch gekennzeichnet, dass die reflexerhöhende Schicht auf den Innenseiten des Polarisators oder Analysators angeordnet ist. 7. Einrichtung nach Patentanspruch I, dadurch gekennzeichnet, dass die reflexerhöhende Schicht auf einer Fläche der 2/2-Platte angeordnet ist. B. Einrichtung nach Patentanspruch 1 und Unter ansprüchen 4-7. 9.
    Einrichtung nach Patentanspruch I, dadurch gekennzeichnet, dass bei Verwendung einer A/2-Platte aus optisch einachsigem Material diese im mindestens nahezu parallelen Strahlengang angeordnet ist. 10. Einrichtung nach Patentanspruch I, dadurch gekennzeichnet, dass bei Verwendung einer A/2-Platte aus optisch zweiachsigem Material diese im konver genten oder divergenten Strahlengang angeordnet ist.
CH647263A 1962-06-29 1963-05-24 Polarisationseinrichtung CH403334A (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEL42361A DE1157808B (de) 1962-06-29 1962-06-29 Polarisationseinrichtung

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CH403334A true CH403334A (de) 1965-11-30

Family

ID=7269845

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CH647263A CH403334A (de) 1962-06-29 1963-05-24 Polarisationseinrichtung

Country Status (3)

Country Link
AT (1) AT240071B (de)
CH (1) CH403334A (de)
DE (1) DE1157808B (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3822926A (en) * 1971-08-19 1974-07-09 Anvar Method to correct lack of extinction in polarizing microscope

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5300756A (en) * 1991-10-22 1994-04-05 General Scanning, Inc. Method for severing integrated-circuit connection paths by a phase-plate-adjusted laser beam

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1121834B (de) * 1957-11-05 1962-01-11 American Optical Corp Optisches Polarisationssystem

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3822926A (en) * 1971-08-19 1974-07-09 Anvar Method to correct lack of extinction in polarizing microscope

Also Published As

Publication number Publication date
DE1157808B (de) 1963-11-21
AT240071B (de) 1965-05-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2804103C2 (de)
DE2354141C2 (de) Optisches Meßverfahren zum Untersuchen von Oberflächen und Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE1197234B (de) Zielsuchgeraet
DE2722796A1 (de) Vorrichtung zum ausrichten der optischen achsen mehrerer optischer geraete parallel zueinander
CH403334A (de) Polarisationseinrichtung
DE3122538A1 (de) Vorrichtung zum wechseln der beleuchtungsoptik eines mikroskops
DE2928887C2 (de) Optische Meßvorrichtung
DE2823458A1 (de) Optische vorrichtung zur richtungsveraenderung eines lichtstrahlenbuendels
DE2704359A1 (de) Optisches system
DE3751148T2 (de) Vorrichtung zur relativen erhöhung der tiefenschärfe und verbesserung des auflösungsvermögens bei vergrössernden systemen, insbesondere für mikroskope.
DE825755C (de) Interferometer zur Pruefung optischer Systeme
DD143183B1 (de) Zwischenabbildungssystem zur durchfuehrung von kontrastverfahren bei mikroskopen
DE975217C (de) Interferenz-Mikroskop
DE1447159B1 (de) Interferometer Okular
DE462579C (de) Kerrzelle fuer Lichtsteuerung, insbesondere fuer Bildtelegraphie
DE937311C (de) Optisches System mit ringfoermigen Zonen verschiedener Brechkraft
DE966734C (de) Zusatzeinrichtung fuer photographische Apparate
AT243074B (de) Steuervorrichtung für eine Entfernungseinstellvorrichtung
DE1121834B (de) Optisches Polarisationssystem
DE360709C (de) Zielfernrohr
DE454135C (de) Polarimeter
CH518561A (de) Optisches Bauelement zur Strahlenaufspaltung bzw. -vereinigung polarisierter Lichtstrahlen sowie Verwendung desselben in einem Mikroskop
DE620309C (de) Einrichtung zum optischen Kopieren von Linsenrasterfilmen
AT202792B (de) Mikroskopbeleuchtungsanordnung
DE926106C (de) Kinogeraet mit stetig bewegtem Film und optischem Ausgleich der Bildwanderung