CH424416A - Procédé pour effectuer un dépôt électrolytique préparatoire d'or sur des articles en métal moins noble, et bain pour la mise en oeuvre de ce procédé - Google Patents

Procédé pour effectuer un dépôt électrolytique préparatoire d'or sur des articles en métal moins noble, et bain pour la mise en oeuvre de ce procédé

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CH424416A
CH424416A CH735062A CH735062A CH424416A CH 424416 A CH424416 A CH 424416A CH 735062 A CH735062 A CH 735062A CH 735062 A CH735062 A CH 735062A CH 424416 A CH424416 A CH 424416A
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bath
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CH735062A
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Cornell Rinker Edwin
Martini Albert
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Sel Rex Corp
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    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/48Electroplating: Baths therefor from solutions of gold

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Description


  Procédé pour effectuer un dépôt électrolytique préparatoire d'or sur des articles  en métal moins noble, et bain pour la mise en     aeuvre    de ce procédé    La présente invention a pour objet un procédé  pour effectuer un dépôt     élctroelytique    préparatoire  d'or sur des articles en un métal moins noble, en  une opération dite de       prédorage         .    L'invention a  également     pour    objet un bain pour la mise en     oeuvre     de ce procédé.  



  Avant de plaquer de l'or sur des supports métal  liques, il est usuel de pratiquer un     préplacage    dans  un bain à faible teneur d'or contenant un cyanure  libre à haute concentration. Un bain typique contient  une     quantité    relativement faible de cyanure de potas  sium et d'or (par exemple 1 g/1 ou moins calculé  en or) et 30     g/1    de cyanure de potassium. Dans ces  conditions, la possibilité de dépôt par immersion est  réduite et un film d'or extrêmement fin est plaqué,  destiné à recevoir ensuite un placage d'or ou d'un  autre métal.  



  Dans certaines conditions, cependant, le     prépla-          cage    d'or en milieu cyanuré ne présente pas une  bonne adhérence sur les alliages difficiles à plaquer    tels que du cuivre au tellure, du cuivre au     bérium,    et  du cuivre au plomb.  



  Le but de la présente invention est de fournir un  procédé de placage d'une couche préparatoire d'or  dont l'adhérence aux métaux et alliages qui sont  d'habitude difficiles à plaquer soit bonne.  



  Le procédé suivant l'invention est caractérisé par  le fait qu'on place le produit, en tant que cathode,  dans un bain de placage comprenant  Jusqu'à 1,0 g/1 de cyanure d'or alcalin (calculé  en or), et au moins un sel conducteur,  ce bain étant à un pH de 3,0 à 8,0.  



  Le bain pour la mise en     #uvre    de ce procédé est  caractérisé par le fait qu'il comprend  Jusqu'à 1,0 g/1 de cyanure d'or alcalin (calculé  en or), et au moins un sel conducteur,  ce bain étant à un pH de 3,0 à 8,0.  



  Selon un mode général de mise en     #uvre    de       l'invention,    le bain de     préplacage    d'or a la teneur  suivante  
EMI0001.0017     
  
    Teneur <SEP> optimum <SEP> en <SEP> g/1 <SEP> Gamme, <SEP> g/1
<tb>  Alcali <SEP> Au <SEP> (CN)2 <SEP> .. <SEP> .. <SEP> 0,25 <SEP> à <SEP> 1,0 <SEP> 0,005 <SEP> à <SEP> 1,0
<tb>  Citrate <SEP> alcalin <SEP> ........_ <SEP> 400 <SEP> 50 <SEP> à <SEP> 1000
<tb>  pH <SEP> .....<B>--------------------</B> <SEP> .... <SEP> 3,0 <SEP> à <SEP> 8,0       Un tel bain constitue une solution efficace pour  couvrir initialement les alliages susmentionnés et des  alliages similaires de même que des métaux qui sont  difficiles à plaquer.

   Il a été découvert que ce bain est  également efficace pour     prédorer    des métaux moins       difficiles    à plaquer tels que le cuivre et les alliages    de cuivre, le fer et ses alliages, le nickel et ses allia  ges, l'argent et le manganèse. Il procure une couche  présentant une bonne adhérence non seulement pour  un placage ultérieur d'or, mais pour le placage  d'autres métaux également, tels que Pt, Rh, Ir, Os,  Pd, Ag, Cu, In, Sn, etc.      Il est à remarquer qu'un procédé pour détermi  ner les qualités d'adhérence de la couche préparatoire  est le suivant: Une plaquette est plaquée dans une  solution de     préplacage,    puis plaquée d'un métal sur  la couche préparatoire, à 20 microns ou plus.

    Ensuite, la     plaquette    est     pliée    sur elle-même. Si la  couche     électroplaquée    ne se sépare pas de la matière  du métal de     base,    l'adhérence est bonne.  



  Ce bain présente également l'avantage     d'éliminer     ou de réduire la tendance à la formation de taches,  si caractéristique des dépôts à partir de bains  cyanurés.  



  Le citrate alcalin peut être du sodium, du potas  sium, du     lithium,    de l'ammonium ou un     amino-          citrate.    Le citrate peut être un composé     tri-alcalin,          bi-alcalin    ou mono-alcalin, selon le pH choisi.  L'acide citrique ou des acides similaires doux peu  vent être ajoutés pour diminuer le pH lorsque le       K3-,        Na3-,    etc., est employé. L'acide phosphorique  ou les phosphates     alcalins    peuvent aussi être ajoutés  pour contrôler le pH. L'anion prédominant cepen  dant doit être un ion citrate.  



  Ce bain acide de     prédorage    est également effi  cace avec des additions de petites quantités de com  plexes de nickel ou de cobalt tendant à rendre les  dépôts quelque peu plus durs. L'acide     éthylène-dia-          mine        tétraacétique    et son sel de sodium et d'autres  matériaux ont été reconnus comme utiles dans la       chélation    des impuretés qui se forment dans le bain.  



  Ce bain de     prédorage    est utilisé à la température  ambiante et à environ 6 volts. Cependant ce bain  peut être utilisé à des températures variant de 20 à  1000 C et avec 2 à 12 volts ou plus. La gamme pré  férée des pH est de 5 à 7 mais le bain peut fonction  ner à un pH variant de 3 à 8 et même plus.  



  Les exemples qui suivent illustrent l'invention  <I>Exemple 1</I>  Le bain suivant a été préparé         Kau(CN)2    1,0 g/1  Citrate de tri-potassium 500 g/1    et     d.'exoellents        prédorages    ont     été        obtenus,    sur du  cuivre au tellure et du cuivre au plomb. Le citrate  de potassium a été remplacé par du citrate de sodium  sans que des changements. d'aspect ou     d'adhérence     des dépôts apparaissent. Ce bain avait un pH de 6,9.  <I>Exemple 2</I>  Un bain a été préparé contenant 37,5     mg/1    d'or  sous forme de cyanure d'or et de potassium, et       50g/1    de citrate de tri potassium.

   Un     prédorage     satisfaisant a été obtenu à un pH de 6,9. Le pH a  été abaissé à 3,0 par l'addition d'acide citrique et le       prédorage    est demeuré satisfaisant. Le citrate de  potassium a été augmenté à 750 g/1 sans effet appré  ciable.    <I>Exemple 3</I>  Un bain a été préparé contenant 0,5 g/1 d'or  sous forme de cyanure d'or et de potassium, avec  400 g/1 de citrate de sodium et des     prédorages     satisfaisants ont été effectués sur des alliages de cui  vre. Le pH était de 6,8.  



  <I>Exemple 4</I>  Un bain a été préparé contenant 37,5     mg/1    d'or  sous forme de cyanure d'or et de potassium, et  50 g/1 de phosphate de     monosodium.    Un     prédorage     satisfaisant a été obtenu avec ce bain dont le pH  était de 4,5.  



  Dans tous les exemples qui précèdent, le produit       préhminairement    plaqué peut être plaqué ensuite en  le passant directement dans un bain tel que celui  décrit dans. le brevet USA     NQ    2905601, où     après     rinçage, le produit     préplaqué    peut être ensuite pla  qué dans un bain au cyanure alcalin.  



  Les exemples qui suivent montrent comment des  placages plus épais peuvent être obtenus  <I>Exemple 5</I>  Le produit     préplaqué    de l'exemple 1 a été pla  qué à température ambiante de la façon suivante  Cyanure d'or et de potas  sium     KAu(CN)2   <B>........</B> 1,2 1,2 g/1 (calculé en or)  Citrate de potassium     K3          (CGH507)   <B>- ........ .............</B> 50     g/1     Citrate de Cobalt Co       (C6,-,507)   <B>....... .........</B> 1     g/1     (calculé en     cobalt)     Acide     citrique   <B>........ .........

   ----</B> Jusqu'à un pH de 5,0  Une couche d'or de 5 microns a été obtenue sous  forme d'un dépôt d'or jaune brillant-miroir.  



  <I>Exemple 6</I>  Le produit, tel que     préplaqué    dans l'exemple 2,  a été rincé et ensuite plaqué dans le bain suivant au  cyanure  K Au     (CN)2   <B>............</B> 12 g/1 (calculé en or)  K     CN   <B>... ........... ....... ...</B> 90 g/1  K Ag     (CN)2    ..<B>--------</B> .. 0,05 g/1 (calculé en argent)  Des dépôts de 15 microns d'épaisseur qui  étaient parfaitement brillants et jaunes ont été obte  nus à 0,4     amp/dm2    et à     25o    C.  



  <I>Exemple 7</I>  Une pièce en béryllium a été nettoyée et décapée  puis     préplaquée    dans une solution au cyanure d'or  contenant  Or     [K2Au        (CN)2]        ..........        ...   <B>---- ----------</B>     ...        ......    1     g!1          Cyanure    de potassium     ...._.----------------   <B>---------- ----</B> - 30     g/1     Le métal de base a foncé et la couche     préplaquée     n'était pas très adhérente.

        Le même échantillon a été     prédoré    dans le bain  préparé suivant la formule donnée dans l'exemple 1.  



  Le dépôt de     préplacage    était adhérent et par  conséquent plus satisfaisant que le     préplacage    au  cyanure. De l'or, du platine, ou un autre métal peut  être déposé sur la couche     préplaquée    d'or.

Claims (1)

  1. REVENDICATIONS I. Procédé pour effectuer un dépôt électrolytique préparatoire d'or sur des articles en un métal moins noble, caractérisé par le fait qu'on place le produit, en tant que cathode, dans un bain de placage com prenant Jusqu'à 1,0 g/1 de cyanure d'or alcalin, calculé en or, et au moins un sel conducteur, ce bain étant à un pH de 3,0 à 8.0. II. Bain pour la mise en couvre du procédé sui vant la revendication I, caractérisé par le fait qu'il comprend Jusqu'à 1,0 g/1 de cyanure d'or alcalin, calculé en or, et au moins un sel conducteur, ce bain étant à un pH de 3,0 à 8,0. SOUS-REVENDICATIONS 1. Procédé suivant la revendication I, caractérisé par le fait qu'on utilise un bain dans lequel le sel conducteur est un sel métallique alcalin et qui com prend une certaine quantité d'ions citrate.
    2. Procédé suivant la revendication I, caractérisé par le fait qu'on utilise un bain comprenant, comme sel conducteur, de 50 à 1000 g/1 d'un citrate alcalin. 3. Procédé suivant la revendication I, caractérisé par le fait qu'on utilise un bain comprenant, comme sel conducteur, un phosphate alcalin. 4. Bain suivant la revendication 11, caractérisé par le fait que son sel conducteur est constitué par un sel métallique alcalin, et par le fait qu'il comprend une certaine quantité d'ions citrate. 5. Bain suivant la revendication II, caractérisé par le fait qu'il comprend, comme sel conducteur, de 50 à 1000 g/1 d'un citrate alcalin. 6. Bain suivant la revendication II, caractérisé par le fait qu'il comprend, comme sel conducteur, un phosphate alcalin.
CH735062A 1961-06-27 1962-06-20 Procédé pour effectuer un dépôt électrolytique préparatoire d'or sur des articles en métal moins noble, et bain pour la mise en oeuvre de ce procédé CH424416A (fr)

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