CH441243A - Verfahren zum Herstellen von Schichten - Google Patents
Verfahren zum Herstellen von SchichtenInfo
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Description
Verfahren zum Herstellen von Schichten Es ist bereits bekannt, Suspensionen, die für die Glimmerelektrophorese verwendet werden, eine wäss- rige Harzemulsion hinzuzufügen. Besonders günstig erwies sich die Zugabe einer Siliconemulsion. Die hie raus nach der Warmhärtung erhaltenen Schichten wei sen eine erhöhte mechanische Festigkeit auf.
Nachteile der Anwendung von Siliconen - besonders dann, wenn die elektrophoretisch aufgebrachte Glimmerschicht nicht die mit Siliconen erzielbare hohe Temperaturbe ständigkeit aufzuweisen braucht - sind die zur Härtung erforderlichen langen Härtezeiten und hohen Härte temperaturen. Ferner ist bekannt, dass manche organi schen Harze, besonders die Epoxyharze, gegenüber Siliconharzen erheblich besser mechanische und elek trische Eigenschaften aufweisen.
Epoxyharze benötigen zu ihrer Härtung Härter, z. B. auf Amin-, Amid- oder Carbonsäureanhydridba- sis. Es genügt deshalb nicht, beispielsweise der Glim- merdispersion eine mit dieser verträgliche Epoxyharze- mulsion zuzufügen, vielmehr muss in irgendeiner geeig neten Form auch die Härterkomponente zugefügt wer den.
Wasserlösliche Härter scheiden für ein Elektro- phoreseverfahren aus, weil dadurch die Ionenleitfähig- keit der Suspension sehr stark erhöht wird, so dass die elektrophoretische Abscheidung einer Deckschicht nicht mehr möglich ist.
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Schichten durch elektrophoreti- sche Abscheidung von anorganischen Stoffen in Ge genwart einer wässrigen Harzemulsion und Härtung der Schichten, das dadurch gekennzeichnet ist, dass die Elektrophorese in einem Gemisch, enthaltend eine Suspension von anorganischen feinverteilten Stoffen und eine wässrige Epoxyharzemulsion, ausgeführt wird, deren emulgierte Tröpfchen gleiche Wanderungsrich tung aufweisen wie die suspendierten anorganischen Teilchen, die erhaltene Schicht so lange bei Raumtem peratur getrocknet wird, bis sie wasserfrei ist und bei Raumtemperatur oder in der Hitze gehärtet wird.
Als geeignete Epoxyharze seien beispielsweise Ep- oxyharze auf Bisphenol-A- und auf Glyzerin-Basis und auch Modifikationen solcher Epoxyharze und Epoxy- novolake genannt.
Von den für Epoxyharze bekannten Härtern sind beispielsweise besonders geeignet: niedrigviskose Polyamine und Polyamide, wie Triäthylentetramin, oder cycloaliphatische Polyamine.
Geeignete anorganische feinverteilte Stoffe bzw. Suspensionen sind z. B.: feindisperse wässrige stabile Suspensionen von Glimmer, Asbest, Kaolin, den Metalloxyden u. a. anorganischen Grundstoffen.
Geeignete, in Wasser nicht lösliche aber emulgier- bare Härter sind z. B. tertiäre Amine oder auch Phe- nolharze.
Die gemäss der Erfindung erhaltenen Isolierschich ten sind thermisch sehr beständig. Sie haben hervorra gende elektrische Eigenschaften und weisen insbeson dere auch eine gute mechanische Festigkeit auf.
Die verbesserte mechanische Abriebfestigkeit und elektrische Durchschlagsfestigkeit elektrophoretisch auf Kupferstäbe aufgebrachter Glimmerschichten von 0,5 mm Schichtdicke ist aus der folgenden Tabelle er sichtlich.
EMI0001.0052
Bindemittel <SEP> Abriebfestigkeit <SEP> Durchschlags Anzahl <SEP> der <SEP> Umdrehungen <SEP> einer <SEP> festigkeit <SEP> bezo Stahlwalze <SEP> von <SEP> 45 <SEP> mm <SEP> 0 <SEP> und <SEP> gen <SEP> auf <SEP> 1 <SEP> mm
<tb> einem <SEP> Auflagedruck <SEP> von <SEP> 600 <SEP> g <SEP> Schichtdicke
<tb> ohne <SEP> 100 <SEP> 4 <SEP> kV
<tb> Siliconharz <SEP> 10 <SEP> 000 <SEP> 7 <SEP> kV
<tb> Epoxydharz- <SEP> über <SEP> 80 <SEP> 000 <SEP> (Versuch <SEP> wurde <SEP> 12 <SEP> kV
<tb> Novolak <SEP> dann <SEP> abgebrochen) Die Erfindung wird an den folgenden Beispielen erläutert.
<I>Beispiel 1</I> Kalzinierter Glimmer wird in stark entionisiertem Wasser mit einer Leitfähigkeit von etwa 10.10-s 2-'cm-1 bis zu einer Feinheit von etwa 1,u Teilchendurchmesser und 6 m,u Teilchendicke disper- giert und auf eine Konzentration von 250-300 g/1 ein gestellt.
Einem Liter dieser Suspension werden 350 g einer 70-prozentigen wässrigen Epoxyharzemulsion auf Glyzerinbasis mit einem Epoxydäquivalent von 0,60 bis 0,64 und einer Leitfähigkeit von 45.10-oQ-1cm-1 zu- gefügt und gut miteinander vermischt. Aus dieser Mischung erhält man auf einem Kupferstab bei 24 Volt innerhalb von 10 sec eine elektrophoretisch abgeschie dene Schicht von 0,2 mm Stärke.
Nach Lufttrocknung wird diese Schicht in eine 10-prozentige Lösung eines flüssigen organischen Diamins mit einem Äquivalentge- wicht von 60 in Toluol für etwa 10 sec getaucht. Die Schicht härtet dann innerhalb 24 Stunden bei Raum temperatur zu einer harten Isolierschicht hoher Ab riebfestigkeit und guter elektrischer Eigenschaften aus.
<I>Beispiel 2</I> Es wird wie in Beispiel 1 verfahren, aber der Mischung aus der Glimmersuspension und der Emul sion eines flüssigen Epoxyharzes auf Bisphenol-A-Ba- sis (Epoxydäquivalent 190) wird bereits jetzt eine Emulsion von Michlers Keton zugefügt, so dass etwa 5 bis 15 Teile Härter auf 95 bis 85 Teile Harz kommen.
Aus dieser jetzt aus drei Komponenten bestehenden Mischung werden, analog dem in Beispiel 1 beschrie benen Verfahren, elektrophoretisch Isolierschichten hergestellt und sofort nach der Lufttrocknung bei 140 innerhalb von 2 Stunden gehärtet.
<I>Beispiel 3</I> Aluminiumoxyd von 1-10 ,u Teilchendurchmesser wird in Wasser mit einer Leitfähigkeit von 10.10-oS2-'cm-1 dispergiert, so dass eine wässrige Di spersion mit 300-350 g/1 Festkörpergehalt entsteht. In diese Dispersion werden 300 g/1 einer 50-prozentigen Emulsion eines Epoxyharzes auf Bisphenol-A-Basis eingerührt.
Aus dieser Mischung erhält man auf einem als Anode geschalteten Kupferstab nach 5 sec bei 60 Volt Gleichspannung eine elektrophoretisch abgeschie dene Schicht von 0,3 mm Stärke. Nach Trocknung wird diese Schicht in eine 15-prozentige Lösung eines Triäthylentetramin in Azeton für etwa 5-10 sec ge taucht. Daraufhin erfolgt die Härtung der Schicht in nerhalb 24 Std. bei 20 oder 2 Std. bei 160 .
<I>Beispiel 4</I> Analog dem in Beispiel 1 angegebenen Verfahren wird kalzinierter Glimmer in entionisiertem Wasser dispergiert und mit einer wässrigen Epoxyharzemulsion versetzt und vermischt.
Hierzu gibt man - bezogen auf die Epoxyharzmenge - ca. 20 Gew.-% Novolack (Mol- Gew. 700, OH-Äquivalent 104) in wässriger Emul sion. Aus dieser Suspension bei 42 V auf Kupferspulen von einer Gesamtoberfläche von 1600 cm2 in 50 sec abgeschiedene Schichten sind 0,2 mm stark und erhär ten nach der Lufttrocknung bei 155 in 24 Std.
Die erhaltene Isolierschicht zeichnet sich durch hohe mechanische Festigkeit aus.
Claims (1)
- PATENTANSPRÜCHE I. Verfahren zur Herstellung von Schichten durch elektrophoretische Abscheidung von anorganischen Stoffen in Gegenwart einer wässrigen Harzemulsion und Härtung der Schichten, dadurch gekennzeichnet, dass die Elektrophorese in einem Gemisch, enthaltend eine Suspension von anorganischen feinverteilten Stof fen und eine wässrige Epoxyharzemulsion, ausgeführt wird, deren emulgierte Tröpfchen gleiche Wanderungs richtung aufweisen wie die suspendierten anorgani schen Teilchen, die erhaltene Schicht so lange bei Raumtemperatur getrocknet wird, bis sie wasserfrei ist und bei Raumtemperatur oder in der Hitze gehärtet wird.II. Anwendung des Verfahrens nach Patentan spruch I zur Herstellung von elektrisch isolierenden Schichten. UNTERANSPRÜCHE 1. Verfahren nach Patentanspruch I, dadurch ge kennzeichnet, dass das Gemisch ausserdem einen in Wasser unlöslichen, aber emulgierbaren Härter enthält. 2. Verfahren nach Patentanspruch I und Unteran spruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass als anorgani scher Stoff kalzinierter Glimmer verwendet wird. 3. Verfahren nach Patentanspruch I und den Un- teranspTüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, dass als Härter ein Amin verwendet wird. 4.Verfahren nach Patentanspruch I und den Un teransprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass als Härter Phenolharze verwendet werden. 5. Verfahren nach Patentanspruch I und den Un teransprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass als Härter Novolacke verwendet werden.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DES0076480 | 1961-10-26 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CH441243A true CH441243A (de) | 1967-08-15 |
Family
ID=7506154
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CH940062A CH441243A (de) | 1961-10-26 | 1962-08-07 | Verfahren zum Herstellen von Schichten |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| AT (1) | AT242261B (de) |
| CH (1) | CH441243A (de) |
| NL (1) | NL282114A (de) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2529914A1 (de) * | 1982-07-08 | 1984-01-13 | T & N Materials Res Ltd |
-
0
- NL NL282114D patent/NL282114A/xx unknown
-
1962
- 1962-08-07 CH CH940062A patent/CH441243A/de unknown
- 1962-08-07 AT AT638662A patent/AT242261B/de active
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2529914A1 (de) * | 1982-07-08 | 1984-01-13 | T & N Materials Res Ltd |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NL282114A (de) | |
| AT242261B (de) | 1965-09-10 |
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