CH446463A - Verfahren zur Herstellung von elektrischen Baueinheiten und nach dem Verfahren hergestellte elektrische Baueinheit - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von elektrischen Baueinheiten und nach dem Verfahren hergestellte elektrische BaueinheitInfo
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Description
Verfahren zur Herstellung von elektrischen Baueinheiten und nach dem Verfahren hergestellte elektrische Baueinheit Die Zuverlässigkeit einer Einrichtung aus elektri- schen Buuele:
menten wie Transistoren, Widerständen, Kapazitäten usw. hängt wesentlich von der Zuverlässig keit der Verbindungen zwischen .den verschiedenen Bau elementen und zur Aussenwelt ab. Die maximale Schnelligkeit von verarbeitbaren Informationen hängt wesentlich von der Kürze der Verbindungswege sowie deren definierter Impedanz ;ab.
Bekannte Verfahren zum Verbinden von diskreten Bauelementen untereinander und dem Anschluss nach aussen benützen in der Regel bereits Leferplatten nach Art der Mehrebenenschaltumgen auf .denen die Bauelemente beispielsweise durch Schweis- sen angebracht werden.
Die Herstellung von Schweiss- verbindungen zwischen Leiterzügen nach Art gedruck ter Schaltungen und den Anschlüssen miniaturisierter Bauelemente ist jedoch ein wenig befriedigender, auf wendiger und komplizierter Vorgang. Es wurde auch bereits vorgeschlagen, Leiterplatten zu benutzen, die als Anschlusstellen Bohrungen mit metallisierter Lochwand aufweisen,
.die zur Aufnahme von Metallstiften dienen sollen, welche vermittels eines Diffusionsvorganges elek trisch und mechanisch mit der Lochmetallisierung ver bunden sind und deren aus der Leiterebene heraus ragende Endabschnitte zur Ausbildung von Schweiss- verbindungen zu den Anschlüssen ,der Bauelemente be- nutzt werden.
Die Herstellung solcher, beispielsweise aus Kupfer- Indium bestehenden Metallverbindungen zwischen An- schlusstift und Lochwandmetallisierung ist jedoch ein komplizierter Vorgang,
der hohe Anforderungen an die mechanische Präzision und Überwachung des Vorganges zur Ausbildung der Legierung stellt und sich damit für Mmsenanwendungsgeblete wenig eignet.
Die vorliegende Erfindung vermeidet diese Nachteile weitgehend und ermöglicht es, auch Miniaturbauele- mente in gross;er Dichte anzubringen und untereinander sowie mit der Aussenwelt über ausserordentlich furze, zuverlässige Verbindungswege und Kontaktstellen zu der gewünschten elektrischen Schaltung zusammenzuschal ten.
Die Erfindung beftrifft ein Verfahren, zum Her- stellen von elektrischen Baueinheiten, die Schaltungs- platten mit elektrischen Lemterzügen sowie aktive oder/ und passive elektrische Bauelemente besitzen. Dieses Ver- fahren zeichnet sich <RTI
ID="0001.0102"> dadurch aus, dass ein plattenförmi- ger Träger aus Isolierstoff in vorbestimmter geometrischer Anordnung mit diesen Träger durchsetzenden An- schlusselementen versehen wird,
dass auf mindestens einer der Flächen des Isolierstoffträgers aktive oder/ und passive elektrische Bauelemente angebracht wer den,
dass diese Bauelemente in vorbestimmter AnordL- nung mit ihnen zugeordneten elektrischen Anschluss- elementen elektrisch leitend verbunden werden und dass der Isolierstoffträger als Unterlage für den Aufbau einer elektrischen Leiteranordnung benützt wird., ,
deren Lei terzüge mit ihnen zugeordneten elektrischen Bauelemen ten sowie mit Anschluseelementen verbunden wenden.
Die Erfindfung betrifft auch eine nach diesem Ver fahren hergestellte elektrische Bauelementeneinheit. Die selbe zeichnet sich dadurch aus, dass sie einen Isolier- stoffträger .aufweist, der mit diesen durchsetzenden An schlusselementen versehen ist,
.dass weiterhin der Isolier- stoffträger als Unterlage für die aktiven oder/und passi ven elektrischen Bauelemente benutzt ist, wobei diese mit den ihnen zugeordneten Anschlusselementen elek trisch leitend verbunden sind,
und dass der Isolierstoff träger als Unterlage für den Aufbau einer elektrischen Leiteranordnung dient, die elektrisch mit den aktiven oder/und passiven Bauelementen sowie mit den An- schlusselementen verbunden ist.
Anhand der Zeichnung werden nachfolgend Aus- führungsbeispiele des Erfindungsgegenstandes erläutert. Fig. 1 ist eine Grundrissdarstellung eines erfindungs- gemässen Bauelemen es, Fig. 2 ist eine Schnittdarstellung entlang der Schnitt- Linie 2-2,
Fig.3a-3e sind vergrösserte Ausschnittsdarstellun- gen der Oberfläche des in Fig. 1 dargestellten Bauele mentes, und zwar in verschiedenen Herstellstadien.
Fig. 1 zeigt einen Träger 10 aus Isoliermaterial, beispielsweise aus Keramik, Glas oder Kunststoff, in welchem Stifte oder andere Anschlusselemente 11 aus geeignetem Material in einem gewünschten Abstand und in gewünschter Anordnung angebracht sind.
Diese Stifte können beispielsweise voneinander einen Abstand von 0,5 mm besitzen und aus Platin bestehen und sie kön nen an beiden Seiten des Trägers 10 aus dessen Ober fläche in gewünschter Weise hervorragen.
Die Anschlusselemente 11 können dazu dienen, elek trische Verbindungen zu auf dem Träger angebrachten Halbleiterbauelementen 12 herzustellen. Die Verbin dung kann beispielsweise vermittels Thermo-Kompres- sionsschweissungerfolgen. Wie in Fig. 2 dargestellt, können die Halbleiterbauelemente in üblicher Weise von einem geeigneten Behältnis umschlossen werden, das beispielsweise vakuumdicht ist.
Die nicht als Trägerfläche für die Halbleiterelemente benutzte Oberfläche :des Trägers 10 ist die Trägerfläche 10a für ein elektrisch leitendes Verbindungsnetzwerk nach Art der gedruckten Schaltungen. Die Leiterzüge dieses Verbindungsnetzwerkes können hierbei vorzugs weise in mehreren von einander isolierten Ebenen an geordnet sein, also sogenannte Mehreb:enenschaltungen bilden.
Nach einer Ausführungsform :der Erfindung wer den die Anschlusselemente 11 zweckmässiger Weise der art abgeschliffen, dass sie mit der Trägeroberfläche 10a in einer Eben-. enden.
Dieses Leitungsmuster 13 dient dazu, die gewünsch ten Verbindungen zwischen den Halbleiterelementen 12 und von ihnen zur Aussenwelt herzustellen. Für letzte ren Zweck dienen beispielsweise Anschlusselemente ge- ei9nzter Form 11a;
diese dienen beispielsweise dazu, den Anschluss zu einer sogenannten Mutterschaltung herzu stellen, wobei le@tzte@re :gegebe.ne,nàlls .eine Mehrzahl der artiger Bauelemente trägt und in der gewünschten Funk tion entsprechenden Weisse untereinander ,sowie mit an deren Elementen und insbesondere der Aussenwelt ver bindet.
Das Leitermusternetzwerk 13 kann beispielsweise aus mehreren Leltereben:en bestehen, also eine Mehr ebenenschaltung bilden, wobei die einzelnen Leiterzüge dieser Ebenen 14, 15 in gewünschter Weise mit den An- schlusselementen verbunden sind, und entsprechende Verbindungen zwischen Leiterzügen verschiedener Ebe nen an gewünschten Stellen hergestellt werden.
Das Verfahren zum Herstellen derartiger Bauele mente b-.st-.ht dahzr z. B. darin, zumindest eine Ober fläche eines geeigneten Trägers 10, .der mit Anschlussele- menten 11 und l l a ausgestattet ist, mit einem Verbin- dungsnetzwerk nach Art der gedruckten Schaltungen auszurüsten, und zwar vorzugsweise in Form sogenann- ter Mehrebenenschaltungen,
wobei die Leiterzüge ent sprechende Verbindungen zu den Anschlusselementen 11 bzw. 11 a herstellen, bzw. Leiterzüge verschiedener Ebnen in gewünschter Weise miteinander verbunden werden und die nicht zur Ausbildung des Leitungsnetz- werkes benutzte Oberfläche des Trägers 10 als Träger für Bauelemente zu benutzen, die gleichfalls in:
ge wünschter Weise mit den Anschlusselementen 11 leitend verbunden werden. Vorzugsweise werden in einem Ver fahrensschritt zumindest diese Elemente vakuumdicht umschlossen.
Die einzelnen Leiterzüge das Leitungsnetzwerkes können vorzugsweise durch stromlose Abscheidung von Kupfer ausgebildet werden, jedoch können auch andere bekannt gewordene Methoden zur Meitallabscbeidung erfolgreich benutzt werden. Im folgenden soll beispiels- weise und anhand der Fig. 3a-3e die Ausbildung des Schaltungsnetzwerkes beschrieben werden.
Hierbei soll die Ausbildung der Leiterzüge vermittels stromloser Me- tallabscheidung aus geeigneten Bädern erfolgen. Hierzu wird zunächst dem Leitermuster entsprechende Ober flächenbezirke von 10a entweder direkt oder nach dem Aufbringen eines Substrates für die stromlose Metall abscheidung aus geeigneten Metallsulzbädern aktiviert.
Dies kann beispielsweise durch Aufdampfen von Metall geschehen; vorzugsweise jedoch wird :die Aktivierung vermittels chemischer Prozesse ausgeführt, beispielsweise die ganze Oberfläche in bekannter Weise mit einer Zinn- salzIösung und anschliessend einer Palladiumsalzlösung behandelt bzw.
eine Abmischung aus einer katalytisch wirkenden Substanz und geeigneten Füllern, Lösungs- mitteln, Kunststoffen und Harzen aufgebracht. Sodann kann die ganze Oberfläche beispielsweise einem stromlos Kupfer oder Nickel oder ein anderes gewünschtes Me tall abscheidendes Bad ausgesetzt werden und so mit einer Metallschicht versehen werden (Fig. 3b).
Im An- schlass daran wird sodann das eigentliche Leitermuster mittels eines auf die unerwünschten Biezirke begrenz ten Ätzvorganges ausgebildet.
Bei dieser AusfühTungs- fomn der Erfindung ist es nicht erforderlich, die ganze Metalla,bscheidung .stromlos vorzunehmen; nach dem Ausbilden einer genügend leitfähigen Schicht kann viel mehr der weitere Aufbau der Metallschicht vermittels eines galvanischen Vorganges erfolgen.
Als Resultat .dieses Verfahrensschrittes ergibt sich das Leitermuster einer ersten Leitermusterebene 3c. Vorzugsweise kann jedoch die katalytisch gemachte Oberfläche 10a vor dem Einbringen in ein stromlos Me tall abscheidendes Bad mit Einer Maske versehen wer den, die alle nicht denn gewünschten Lelte@rmuster ent- sprechenden Bezirke abdeckt.
Diese Schicht besteht aus einem Material, das den nachfolgenden zur Herstellung des Leitermusters erforderlichen Verfahrensschritten widersteht; sie kann aus einem sogenannten Photo- resist bestehen oder aus einer in einem geeigneten Druckverfahren aufbringbaren Druckfarbe oder Lack schicht. Anschliessend wird sodann die derart maskierte Oberfläche einem stromlos metallabscheidenden Bad ausgesetzt und so :das Leitermuster ausgebildet.
Nach einer bsvorzugtran Ausgestaltung der Erfin dung befinden sich die Leiterzüge in mehreren Ebenen. Hierzu wird zunächst, die mit dem Leitermuster der ersten Ebenen 3c versehene Oberfläche 10a mit einer Isolier- und Trennschicht versehen, wobei lediglich jene Bezirke ummaskiert bleiben,
die zum Ausbilden der Verbindungen zu Leiterzügen des Leitermusters der nächsten Ebene dienen sollen. Zu diesem Zweck kann beispielsweise die ganze Oberfläche zunächst mit einem geeigneten Photoresist versehen werden, das die er forderlichen elektrischen Isoliereigenschaften besitzt.
Anschliessend wird die Photoresistschicht im Photo druck und Entwicklung von jenen Stellen entfernt, an denen Verbindungen hergestellt werden sollen (3e). Hierauf wird auf der so vorbehandelten Oberfläche das nächste Leiterzugmuster ausgebildet.
Hierzu kann bei spielsweise .die ganze Oberfläche katalytisch wirksam gemacht werden und sodann,die nicht dem Leitermuster entsprechenden Oberflächenbezirke können im Photo- oder einem anderen Druckverfahren abgedeckt werden, oder es kann ein dem auszubildenden Leitermuster ent sprechendes Muster als Druckbild hergestellt werden, wobei die Druckfarbe eine katalytisch wirksame Sub stanz enthält und für gute Haftung sorgt.
Anschliessend wird das eigentliche Leitermuster durch stromlose Metallabscheidung hergestellt. Diese Verfahrensschritte werden entsprechend der Zahl der erwünschten Leiterzugebenen wiederholt.
In Ader vorliegenden Beschreibung sind die wesent lichen Vorteile ider Erfindung nach dem derzeitigen Stande beschrieben. Dennoch wird ,der Fachmann ohne Schwierigkeit erkennen, dass zahlreiche weitere Ausge- staltungsformen der Erfindung möglich sind.
Claims (1)
- PATENTANSPRüCHE I. Verfahren zum Herstellen von elektrischen Bau- einheiten, die Schaltungsplatten mit elektrischen Leiter zügen sowie aktive oder/und passive elektrische Bau elemente besitzen, dadurch ;gekennzeichnet, dass ein plattenförmiger Träger (10) aus Isolierstoff in vorbe- stimmter geomchücheT Anordnung mit diesen Träger durchsetzenden Anschlusselementen (11, 11a) versehen wird, dass auf mindestens .einer der Flächen des Isolier stoffträgers (10) :aktive oder/und passive elektrische Bau elemente angebracht werden, dass diese B,auetemente (12) in vorbestimmter Anordnung mit ihnen zugeord netenelektrischen Anschlusselementen (11) elektrisch leitend verbunden werden und dass der Isolierstoffträger (10) als Unterlage (10a) für den Aufbau einer elektri schen Leiteranordnung (13) benützt wird, deren Leiter- züge <I>(14,</I> 15)mit ihnen zugeordneten elektrischen Bau elementen sowie mit Anschlusselementen (11.a) ver bunden werden. 1I. Elektrische Baueinheit, hergestellt nach ,dem Ver fahren gemäss Patentanspruch I, dadurch gekennzeich net, dass sie einen Isolierstoffträger (10) .aufweist, der mit diesen :durchsetzenden Anschlusselementen (11,11a) versehen ist, dass weiterhin der Isolerstoffträger (10) als Unterlage für die aktiven oder/und passiven elektri schen Bauelemente (12) benutzt ist, wobei diese mit den ihnen zugeordneten Anschlusselementen (11) elek trisch leitend verbunden sind, und dass,der Isolierstoff- träger (10) als Unterlage (10a)für den Aufbau einer elektrischen Lemtewanordmung (13) dient, die elektrische mit ;den aktiven oder/und passiven Bauelementen (12) sowie mit den Anschlusselementen (11a) verbunden ist. UNTERANSPRÜCHE 1.Verfahren nach Patentanspruch I, dadurch ge- kennzeichnet, dass die .aktiven o@der/und passiven elek trischen Bauelemente (12), beispielsweise unter Ein- schluss ,der entsprechenden Oberflächen des Isolierstoff- trägers (10) vakuumdicht umschlossen werden.2. Verfahren nach Patentanspruch I, dadurch ge kennzeichnet, dass die Leiteranordnung (13) als Mehr ebenenschaltung ausgebildet wird. 3. Verfahren nach Patentanspruch I, dadurch ge kennzeichnet dass die Leiteranordnung (13) direkt auf dem Isolierstoffträger (10) vermittels entsprechender aufeinanderfolgender Verfahrensschritte ausgebildet bzw. aufgebaut wird.4. Verfahren nach Unteranspruch 3, dadurch ge kennzeichnet, dass :die Isolierstoffoberfläche (10) in Be- zirken von Leiterzügen einer ersten Leiterebene (14) mit einer katalytisch wirksamen Schicht versehen wird, welche die Metallabscheidung aus stromlos arbeitenden Metallsalzbädern bewirkt, dann, das Leitermuster der ersten Ebene (14)durch Einwirken eines solchen Me- tallsalzbades ausgebildet wird und anschliessend diese Verfahrensschritte zum Aufbau des Leitermusters der nächsten Ebene (15) sowie weiterer Ebenen, entspre chend der Zahl der .gewünschten Ebenen, wiederholt wird, wobei jeweils zuvor die ausgebildete Leiteranord nung bzw.Ebene mit einer Isolierstoffschicht versehen wird, die lediglich. jene Bezirke unbedeckt lässt, n de nen Verbindung zwischen Leiterzügen verschiedener Leiterebenen erfolgen soll. 5. Verfahren nach Unteranspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, dass die katalytisch wirksame Schicht durch Metallaufdampfen hergestellt wird.6. Verfahren nach Unteranspruch 3, dadurch ge- kennzeichnet, dass zunächst die ganze, als Träger des Leitermusters dienende Oberfläche des Trägers (10) mit einer katalytisch wirksamen Schicht versehen wird, die so vorbereitete Oberfläche in einem stromlos Metall ab scheidenden Bad mit einer Metallschicht versehen wird, hierauf diese Metallschicht, beispielsweise durch Ätzen, aus jenen Bezirken entfernt wird,die nicht gewünschten Leiterzügen (14) entsprechen und dass d lese Verfahrens schritte, entsprechend der Zahl .der gewünschten Ebenen mit Leiterzügen, ,gegebenenfalls mehrmals wiederholt werden, wobei jeweils zuvor jede ausgebildete Leiter ebene mit einer Schicht versehen wird, die die elektrische Isolierung zur nächsten Leiterebene bewirkt und ledig- lich jene Bezirke frei lässt,die zur Verbindung zwi schen Leiterzügen (14, 15) verschiedener Ebenen dienen. 7. Verfahren nach Unteranspruch 6, dadurch ge- kennzeichnet, dass die stromlos hergestellte Metall schicht galvanisch verstärkt wird. B.Verfahren nach Unteranspruch 3, dadurch ge kennzeichnet, dass die mit dem Leiternetzwerk (13) zu versehende Isolierstoffträger-Oberfläche (10a) zunächst, beispielsweise im Siebdruckverfahren, mit einer Schicht versehen wird, die dein herzustellenden Leitermuster (14) der ersten Ebene entspricht und aus einem Material 'besiteht oder ein Material fein verteilt enthält,das kataly tisch auf die Metallabschcidung stromlos arbeitender Metallisierungersbäder wirkt, anschliessend @die derart vor bereitete Oberfläche einem solchen Metallisierungsbud ausgesetzt wird, um derart die gewünschten Leiterzüge (14) herzustellen, und schliesslich diese Verfahrens schritte entsprechend der Anzahl der gewünschten Lei terebenen wiederholt werden, wobei jedoch jeweils jede fertiggestellte Leiterebene zuvor mit einer Isolierstoff abdeckschicht versehen wird,die jene Bezirke unbedeckt lässt, die zur Verbindung zwischen Leiterzügen ver schiedener Ebenen dienen und im übrigen die Leiter züge benachbarter Ebenen voneinander isoliert.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US41521164A | 1964-12-01 | 1964-12-01 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CH446463A true CH446463A (de) | 1967-11-15 |
Family
ID=23644811
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CH1649365A CH446463A (de) | 1964-12-01 | 1965-11-30 | Verfahren zur Herstellung von elektrischen Baueinheiten und nach dem Verfahren hergestellte elektrische Baueinheit |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CH (1) | CH446463A (de) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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1965
- 1965-11-30 CH CH1649365A patent/CH446463A/de unknown
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