CH452312A - Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten eines Trägerkörpers unter Vakuum mit Dampfniederschlag - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten eines Trägerkörpers unter Vakuum mit Dampfniederschlag

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CH452312A
CH452312A CH771264A CH771264A CH452312A CH 452312 A CH452312 A CH 452312A CH 771264 A CH771264 A CH 771264A CH 771264 A CH771264 A CH 771264A CH 452312 A CH452312 A CH 452312A
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2335301A1 (de) * 1972-07-14 1974-01-31 Secr Defence Brit Verfahren und einrichtung zur herstellung von metallegierungen

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3467058A (en) * 1965-12-03 1969-09-16 United States Steel Corp Apparatus for vaporizing metal
US3384049A (en) * 1966-10-27 1968-05-21 Emil R. Capita Vapor deposition apparatus including centrifugal force substrate-holding means
US3659552A (en) * 1966-12-15 1972-05-02 Western Electric Co Vapor deposition apparatus
US3502499A (en) * 1967-05-22 1970-03-24 Texas Instruments Inc Cladding method and apparatus
US3552352A (en) * 1968-02-13 1971-01-05 Du Pont Electron beam vaporization coating apparatus
US3572672A (en) * 1968-11-22 1971-03-30 Rca Corp Vacuum evaporation apparatus
US3661117A (en) * 1969-12-03 1972-05-09 Stanford Research Inst Apparatus for depositing thin lines
US3613633A (en) * 1970-03-18 1971-10-19 Schjeldahl Co G T Method and apparatus for coating articles utilizing rotating crucible coating apparatus including a centrifugal-type crucible
US3776535A (en) * 1970-04-17 1973-12-04 Optical Coating Laboratory Inc Method for evaporating aluminum
US3684268A (en) * 1970-04-17 1972-08-15 Optical Coating Laboratory Inc Source for evaporating materials
US3996469A (en) * 1975-01-06 1976-12-07 Jersey Nuclear-Avco Isotopes, Inc. Floating convection barrier for evaporation source
JPS52137789U (de) * 1976-04-15 1977-10-19
US4030964A (en) * 1976-04-29 1977-06-21 The United States Of America As Represented By The United States Energy Research And Development Administration Temperature cycling vapor deposition HgI2 crystal growth
JPS6057894U (ja) * 1983-09-20 1985-04-22 大久保　敬四郎 自動火災報知器
DE3639683A1 (de) * 1986-11-20 1988-05-26 Leybold Ag Verdampferanordnung mit einem rechteckigen verdampfertiegel und mehreren elektronenkanonen
KR920003591B1 (ko) * 1988-04-11 1992-05-04 미쯔비시주우고오교오 가부시기가이샤 연속진공증착장치
KR100615302B1 (ko) * 2005-01-21 2006-08-25 삼성에스디아이 주식회사 가열용기 지지대 및 이를 구비한 증착장치
EP1947210A1 (de) * 2007-01-16 2008-07-23 ARCELOR France Verfahren zur Beschichtung eines Substrats, Anlage zur Umsetzung des Verfahrens und Vorrichtung zur Metallzuführung zu einer solchen Anlage
TWI737718B (zh) * 2016-04-25 2021-09-01 美商創新先進材料股份有限公司 含有瀉流源的沉積系統及相關方法
JP2020512486A (ja) * 2017-03-22 2020-04-23 ユニバーシティー、オブ、デラウェアＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙ Ｏｆ Ｄｅｌａｗａｒｅ 遠心蒸発源
CN112725714B (zh) * 2020-12-04 2022-02-18 中国工程物理研究院材料研究所 一种铀铌合金表层夹杂物的细化方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE882171C (de) * 1942-01-31 1953-07-06 Bosch Gmbh Robert Verfahren zur thermischen Verdampfung von Stoffen
DE970970C (de) * 1943-02-09 1958-11-20 Heraeus Gmbh W C Einrichtung zum Herstellen von Oberflaechenschichten durch Verdampfen oder Sublimieren des UEberzugsstoffes im Hochvakuum
DE862991C (de) * 1944-02-22 1953-01-15 Bosch Gmbh Robert Verfahren zur Herstellung von Legierungen durch Kondensation aus der Gasphase
DE848287C (de) * 1949-08-27 1952-09-01 Siemens Ag Verfahren zur Bedampfung, insbesondere zur Vakuum-Bedampfung von Isolierstoff-Folien
US2665223A (en) * 1949-12-31 1954-01-05 Nat Res Corp Process for depositing an aluminum film on a substrate by thermal vaporization
DE868091C (de) * 1950-03-07 1953-02-23 Bosch Gmbh Robert Vorrichtung zur Herstellung von Metallueberzuegen auf laufenden Baendern durch Bedampfen im Vakuum
CH311812A (de) * 1951-11-05 1955-12-15 Zeiss Carl Fa Aufdampfeinrichtung.
US2932588A (en) * 1955-07-06 1960-04-12 English Electric Valve Co Ltd Methods of manufacturing thin films of refractory dielectric materials
US2998376A (en) * 1956-10-29 1961-08-29 Temescal Metallurgical Corp High-vacuum evaporator
US3046936A (en) * 1958-06-04 1962-07-31 Nat Res Corp Improvement in vacuum coating apparatus comprising an ion trap for the electron gun thereof
US3029777A (en) * 1959-01-30 1962-04-17 Nat Res Corp Vapor deposition coating apparatus
US3020177A (en) * 1959-05-13 1962-02-06 Continental Can Co Art of vaporizing materials
US3019129A (en) * 1959-08-10 1962-01-30 Nat Res Corp Apparatus and process for coating
US3023727A (en) * 1959-09-10 1962-03-06 Ibm Substrate processing apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2335301A1 (de) * 1972-07-14 1974-01-31 Secr Defence Brit Verfahren und einrichtung zur herstellung von metallegierungen

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Publication number Publication date
DE1521525B1 (de) 1970-03-12
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FR1406666A (fr) 1965-07-23
SE315461B (de) 1969-09-29
DK128824B (da) 1974-07-08
JPS519687B1 (de) 1976-03-29
BE649234A (de) 1964-10-01
NL6406691A (de) 1964-12-14
GB1031963A (en) 1966-06-02
AT252683B (de) 1967-03-10

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