CH475574A - Verfahren und Vorrichtung zur gleichzeitigen Vielfachprojektion eines Musters auf eine Fotolackschicht auf einer Halbleiteroberfläche - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zur gleichzeitigen Vielfachprojektion eines Musters auf eine Fotolackschicht auf einer Halbleiteroberfläche

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CH475574A
CH475574A CH57468A CH57468A CH475574A CH 475574 A CH475574 A CH 475574A CH 57468 A CH57468 A CH 57468A CH 57468 A CH57468 A CH 57468A CH 475574 A CH475574 A CH 475574A
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CH
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photoresist layer
pattern onto
semiconductor surface
multiple projection
simultaneous multiple
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Application number
CH57468A
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Kornelius Dipl Ing Noss
Touchy Wolfgang Dr Dipl-Phys
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Siemens Ag
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    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70425—Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning
    • G03F7/70466—Multiple exposures, e.g. combination of fine and coarse exposures, double patterning or multiple exposures for printing a single feature
    • G—PHYSICS
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CH57468A 1967-01-17 1968-01-15 Verfahren und Vorrichtung zur gleichzeitigen Vielfachprojektion eines Musters auf eine Fotolackschicht auf einer Halbleiteroberfläche CH475574A (de)

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