CH487264A - Verfahren und Vorrichtung zur Überwachung der Dampfdichte eines im Hochvakuum durch einen Elektronenstrahl erhitzten Materials - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zur Überwachung der Dampfdichte eines im Hochvakuum durch einen Elektronenstrahl erhitzten Materials

Info

Publication number
CH487264A
CH487264A CH1521767A CH1521767A CH487264A CH 487264 A CH487264 A CH 487264A CH 1521767 A CH1521767 A CH 1521767A CH 1521767 A CH1521767 A CH 1521767A CH 487264 A CH487264 A CH 487264A
Authority
CH
Switzerland
Prior art keywords
monitoring
electron beam
high vacuum
material heated
vapor density
Prior art date
Application number
CH1521767A
Other languages
English (en)
Inventor
Roscoe Jr Smith Hugh
Original Assignee
Libbey Owens Ford Glass Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Libbey Owens Ford Glass Co filed Critical Libbey Owens Ford Glass Co
Publication of CH487264A publication Critical patent/CH487264A/de

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
    • C23C14/542—Controlling the film thickness or evaporation rate
    • C23C14/544—Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement in the gas phase
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/304—Controlling tubes by information coming from the objects or from the beam, e.g. correction signals
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/305—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating, or etching
    • H01J37/3053—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating, or etching for evaporating or etching
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J41/00—Discharge tubes for measuring pressure of introduced gas or for detecting presence of gas; Discharge tubes for evacuation by diffusion of ions
    • H01J41/02—Discharge tubes for measuring pressure of introduced gas or for detecting presence of gas
    • H01J41/04—Discharge tubes for measuring pressure of introduced gas or for detecting presence of gas with ionisation by means of thermionic cathodes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
CH1521767A 1966-10-31 1967-10-30 Verfahren und Vorrichtung zur Überwachung der Dampfdichte eines im Hochvakuum durch einen Elektronenstrahl erhitzten Materials CH487264A (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US59073666A 1966-10-31 1966-10-31

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CH487264A true CH487264A (de) 1970-03-15

Family

ID=24363478

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CH1521767A CH487264A (de) 1966-10-31 1967-10-30 Verfahren und Vorrichtung zur Überwachung der Dampfdichte eines im Hochvakuum durch einen Elektronenstrahl erhitzten Materials

Country Status (9)

Country Link
US (1) US3609378A (de)
AT (1) AT296657B (de)
BE (1) BE705816A (de)
CH (1) CH487264A (de)
DE (1) DE1648808C3 (de)
GB (1) GB1189680A (de)
LU (1) LU54739A1 (de)
NL (1) NL6714765A (de)
SE (1) SE348620B (de)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4988871A (en) * 1989-05-08 1991-01-29 Leybold Inficon, Inc. Gas partial pressure sensor for vacuum chamber
DE3921040C2 (de) * 1989-06-27 1994-03-10 Balzers Hochvakuum Verfahren und Anordnung zum Steuern der Verdampfung von Material von einem Zielobjekt durch einen Strahl geladener Teilchen und Verwendung, sowie Verfahren und Meßanordnung zum selektiven Messen einer verdampften Partikelmenge zur Durchführung des Verfahrens
DE3929475A1 (de) * 1989-09-05 1991-03-14 Balzers Hochvakuum Verfahren und vorrichtung zur umlenkung eines strahls
DE4304612C2 (de) * 1993-02-16 1995-03-16 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zur kontinuierlichen Messung der stofflichen Zusammensetzung des Dampfes einer Schmelze oder eines zu verdampfenden Materials im Vakuum
US6542831B1 (en) 2001-04-18 2003-04-01 Desert Research Institute Vehicle particulate sensor system
US7320733B2 (en) * 2003-05-09 2008-01-22 Sukegawa Electric Co., Ltd. Electron bombardment heating apparatus and temperature controlling apparatus and control method thereof
US7719681B2 (en) * 2007-10-12 2010-05-18 Inficon Apparatus and method for measuring vapor flux density
DE102013106788B4 (de) * 2013-06-28 2019-07-11 VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG Vakuumbehandlungsanlage mit Vakuumkammerdurchführung

Also Published As

Publication number Publication date
DE1648808C3 (de) 1974-04-04
NL6714765A (de) 1968-05-01
LU54739A1 (de) 1968-01-26
DE1648808A1 (de) 1972-04-06
BE705816A (de) 1968-03-01
SE348620B (de) 1972-09-04
AT296657B (de) 1972-02-25
US3609378A (en) 1971-09-28
DE1648808B2 (de) 1973-08-30
GB1189680A (en) 1970-04-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AT270306B (de) Verfahren und Vorrichtung zur Umwandlung von Wärmeenergie in mechanische Energie
AT310442B (de) Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines Bodens an einem Ende eines Rohres aus thermoplastischem Material
CH531365A (de) Verfahren und Vorrichtung zum Züchten eines kristallinen Materials in Form eines langgestreckten Körpers von beliebig vorbestimmter Querschnittsform
CH467429A (de) Verfahren und Vorrichtung zum Beheizen eines mit einem Isoliermaterial versehenen Isolierraumes
CH506439A (de) Verfahren zur Umwandlung von Kohlenstoffmaterial
DE1929906A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Vlieses
CH483901A (de) Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung eines Plasmas
AT289521B (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Pulverkörpern im isostatischen Druckverfahren
CH526202A (de) Vorrichtung zur elektromagnetischen Ablenkung eines Elektronenstrahls
AT295564B (de) Kühlverfahren und Vorrichtung zur Durchführung desselben
CH501887A (de) Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung von kleinteiligem, wärmeempfindlichem Material mit einem Gas
CH452731A (de) Verfahren und Vorrichtung zum Erhitzen eines Stoffes in einem Hochvakuum-Elektronenstrahlgerät
CH503810A (de) Verfahren und Vorrichtung zur Bildung eines Bandes aus Faserflor
AT296446B (de) Einrichtung in einem Hochvakuum-Elektronenstrahlofen zur elektromagnetischen Lenkung eines Elektronenstrahls über einen zu erhitzenden Werkstoff
CH439513A (de) Vorrichtung zur Bearbeitung von Materialien in einer gasförmigen Atmosphäre mit einem Strahl geladener Teilchen
AT315085B (de) Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen einer Schlitzwand im Erdboden
CH459036A (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines bandförmigen Materials unter Verwendung einer faserigen Trägersubstanz und eines Staubes, insbesondere zur Herstellung von Tabakfolien
CH469949A (de) Vorrichtung zur Regulierung der Feuchte in einer Klimakammer und Verfahren zu ihrem Betrieb
CH432320A (de) Vorrichtung zur Feststellung des Auftretens eines Bruches in Textilmaterial
CH493288A (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Verformungen in der äusseren Oberfläche eines Rohrs
AT287455B (de) Verfahren zur Herstellung eines Werkstückes aus verdichtetem pulverförmigen Material
CH492033A (de) Vorrichtung zum gleichmässigen Verdampfen und Auftragen von hochschmelzenden Materialien im Hochvakuum sowie Verfahren zum Betrieb derselben
AT296657B (de) Einrichtung zur Überwachung der Dampfdichte
AT275617B (de) Verfahren und Anordnung zur Justierung des Elektronenstrahles in einem Elektronenmikroskop
AT290498B (de) Verfahren zur Herstellung neuer Oximäther und deren Salze

Legal Events

Date Code Title Description
PL Patent ceased