CH499206A - Procédé de contrôle de la qualité des motifs unitaires d'un masque utilisé pour la fabrication de circuits intégrés et machine pour sa mise en oeuvre - Google Patents

Procédé de contrôle de la qualité des motifs unitaires d'un masque utilisé pour la fabrication de circuits intégrés et machine pour sa mise en oeuvre

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CH499206A
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CH1382668A
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Pettavel Jacques
Koulicovitch Maurice
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Genevoise Instr Physique
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    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
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    • B07C5/10—Sorting according to size measured by light-responsive means
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