CH661288A5 - Elektronenstrahlverdampfer mit zwei magnetischen ablenksystemen. - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft einen Elektronenstrahlverdampfer mit einem Elektronenstrahlerzeuger, einem ersten magnetischen Ablenksystem mit parallelen langgestreckten Polplatten für die lineare Strahlablenkung entlang einer ersten Koordinate und mit einem zweiten magnetischen Ablenksystem für die Strahlablenkung entlang einer zweiten Koordinate, die zur ersten Koordinate senkrecht steht, sowie mit einem langgestreckten Verdampfertiegel für die Aufnahme des zu verdampfenden Materials.

Elektronenstrahlen lassen sich praktisch trägheitslos ablenken, wobei der Auftreffpunkt oder Brennfleck des Elektronenstrahls auf einer ebenen oder gewölbten Oberfläche definiert bewegt werden kann. Man spricht auch davon, dass der Elektronenstrahl in einem X-Y-Koordinatensystem bewegt werden kann. Die Bildröhre eines Fernsehgeräts ist eines der markantesten Beispiele für eine solche Strahlablenkung.

Es ist aber auch bekannt, abgelenkte Elektronenstrahlen für technische Produktionsprozesse einzusetzen. So ist beispielsweise ein Elektronenstrahlverdampfer, der weitgehend dem gattungsgemässen Verdampfer entspricht, allerdings einen kreisrunden Verdampfertiegel aufweist, durch die DE-AS 20 47 138 bekannt. Durch die gleiche Druckschrift ist es aber auch bekannt, dass sich durch die Strahlablenkung der Fokussierungszustand und damit die Leistungsdichte an der Auftreffstelle des Elektronenstrahls in unerwünschter Weise ändern kann. Die bekannte Lösung bezweckt eine Kompensation dieses Effekts nur durch die Verweilzeit, nicht aber durch eine Korrektur des Ablenkmusters. Da sich Änderungen des Fokussierungszustandes an der Strahlauftreffstelle mit zunehmendem Abstand vom Tiegelzentrum vergrössern, ist die bekannte Lösung für langgestreckte Verdampfertiegel, d.h. für solche, bei denen die Länge mindestens 3mal grösser 5 ist als die Breite, nicht mit Erfolg anwendbar.

Durch die DE-OS 28 12 285 ist ein Elektronenstrahlverdampfer der eingangs beschriebenen Gattung bekannt, bei dem durch das Zusammenwirken zweier magnetischer Ablenksysteme Elektronenstrahlen in einem bestimmten io Linienmuster über die Oberfläche eines langgestreckten Verdampfertiegels geführt werden können. Um hierbei die gesamte Länge des Verdampfertiegels beheizen zu können, mussten zwei Elektronenstrahlerzeuger vorgesehen werden, die jeweils die Hälfte des Verdampfertiegels beheizen. Die 15 Substrate befinden sich hierbei ständig oberhalb des Verdampfertiegels, wobei sie kontinuierlich gedreht werden. Die Abtastfrequenz der Badoberfläche im Verdampfertiegel spielt hierbei nur eine verhältnismässig untergeordnete Rolle, da bei genügend langer Verweilzeit der Substrate im Dampf-20 ström und bei einer Vielzahl von Umdrehungen der Substrate eine ausreichende Gleichförmigkeit der Beschichtung erzielt werden kann.

Eine weitere Problematik ergibt sich jedoch bei der Beschichtung von Bändern bzw. Folien aus Kunststoff, die 25 heute bei einer Breite bis zu 1000 mm in einem Durchgang beschichtet werden. Um die gesamte Tiegellänge mit einem einzigen Elektronenstrahl zu überstreichen, ist ein grosser Ablenkwinkel erforderlich. Zur Vermeidung von Schichtdik-kenschwankungen in Längsrichtung des laufenden Bandes ist 30 bei vorgegebener Bandgeschwindigkeit die minimale Ablenkfrequenz des Elektronenstrahls festgelegt. Mit den bekannten Elektronenstrahlverdampfern lässt sich jedoch keine ausreichend gleichmässige Schichtdickenverteilung quer zur Laufrichtung des Bandes erreichen, weil der Fokussierungszu-35 stand des Elektronenstrahls sich bei einem grossen Ablenkwinkel unzulässig ändert. Ausserdem unterliegt das Ablenkmuster, mit dem der Elektronenstrahl über die Oberfläche des Verdampfungsgutes (Badspiegel) geführt wird, merklichen Verzerrungen, die gleichfalls einen schädlichen Einfluss auf 40 die Gleichmässigkeit der Schichtdickenverteilung quer zur Laufrichtung des Bandes hat.

Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, einen Elektronenstrahlverdampfer der eingangs beschriebenen Gattung anzugeben, bei dem der Fokussierungszustand auch bei i5 grossen Ablenkwinkeln erhalten bleibt und bei dem das Ablenkmuster in der Weise korrigiert werden kann, dass die für eine über die gesamte Tiegellänge gleichförmige Dampfentwicklung notwendige Energieverteilung im Verdampfungsgut erzielt werden kann.

so Die Lösung der gestellten Aufgabe erfolgt bei dem eingangs beschriebenen Elektronenstrahlverdampfer erfindungs-gemäss dadurch, dass a) das zweite magnetische Ablenksystem zwei parallele, nichtmetallische Spulenkerne aufweist, die parallel zu den

55 Polplatten des ersten Ablenksystems verlaufen und unter diesen angebracht sind,

b) auf jedem Spulenkern eine erste Spule mit gleicher Windungszahl pro Längeneinheit des Spulenkerns und c) eine zweite Spule mit zu den beiderseitigen Enden des so Spulenkerns zunehmender Windungszahl pro Längeneinheit des Spulenkerns angeordnet sind.

Es ist dabei besonders vorteilhaft, die zweiten Spulen als Kegelspulen auszubilden, so dass die Anzahl der Windungen pro Längeneinheit des Spulenkerns, ausgehend von dessen 65 Mitte, nach beiden Enden hin linear zunimmt.

Das erfindungsgemässe zweite magnetische Ablenksystem ist ein Korrektursystem, durch das Fokussierungszustand und das Ablenkmuster des Elektronenstrahls in folgender Weise

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beeinflusst werden kann:

1. Die lineare Auslenkung des Elektronenstrahls kann in der Tiegelebene um den Mittelpunkt der Auslenkungsbewegung gedreht werden. Dadurch lässt sich die Auslenkung parallel zur Tiegellängsachse einjustieren.

2. Die Auslenkung des Elektronenstrahls lässt sich bei kis-sen- oder tonnenförmiger Verzeichnung entzerren und linea-risieren.

3. Der Elektronenstrahl kann senkrecht zur Auslenkung verschoben werden, und es ist sogar möglich, der Auslenkung eine periodische Queroszillation zu überlagern, die als «Wobbein» bezeichnet werden kann. Durch das Wobbein lässt sich die Energiedichte des Elektronenstrahls reduzieren, die durch eine sogenannte Selbstfokussierung zu gross werden könnte. Zu grosse Energiedichten führen zu einem unerwünschten Spritzen während des Verdampfungsprozesses.

Weitere vorteilhafte Wirkungen und Variationsmöglichkeiten des Erfindungsgegenstandes werden nachfolgend im Zusammenhang mit den Figuren 7 bis 14 noch näher erläutert.

Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen des Erfindungsgegenstandes sind Gegenstand der übrigen abhängigen Ansprüche.

Ein Ausführungsbeispiel des Erfindungsgegenstandes und seine unterschiedlichen Einsatzmöglichkeiten werden nachfolgend anhand der Figuren 1 bis 14 näher erläutert. Es zeigen:

Figur 1 eine Vorderansicht des unteren Teils des Elektro-nenstrahlerzeugers mit dem ersten und zweiten magnetischen Ablenksystem in Blickrichtung «X» gemäss Figur 2,

Figur 2 eine Seitenansicht des Gegenstandes nach Figur 1 mit zusätzlich eingezeichnetem Verdampfertiegel,

Figur 3 eine Draufsicht und einen teilweisen Horizontalschnitt durch das erste magnetische Ablenksystem für die lineare Strahlablenkung mit gestrichelt eingezeichneter Ablenkbahn,

' Figur 4 einen Vertikalschnitt durch eine der beiden parallelen Polplatten in Figur 3,

Figur 5 einen Vertikalschnitt durch eine Hälfte des zweiten magnetischen Ablenksystems mit einer Linearspule und zwei Kegelspulen,

Figur 6 eine Draufsicht auf den Gegenstand nach Figur 5,

Figuren 7 bis 14 verschiedene mögliche Ablenkmuster des Elektronenstrahls auf dem Badspiegel in einem langgestreckten Verdampfertiegel.

In Figur 1 ist der untere Teil eines herkömmlichen Elek-tronenstrahlerzeugers 1 dargestellt, wie er beispielsweise in der DE-PS 12 48 175 beschrieben ist. Am unteren Ende eines Strahlführungsrohres 2 befindet sich eine Strahlaustrittsöffnung 3. Die geometrische Achse des Systems und damit der Strahlweg ist durch die strichpunktierte Linie 4 angedeutet. Beiderseits der Strahlaustrittsöffnung 3 befinden sich in spiegelsymmetrischer Anordnung zwei Polschuhe 5, die nicht Teil des erfindungsgemässen Ablenksystems, sondern zusätzlich angeordnet sind. Sie dienen lediglich dazu, den Elektronenstrahl um einen Winkel von etwa 25 Grad abzulenken, um beispielsweise den Elektronenstrahlerzeuger 1 seitlich versetzt über dem Verdampfertiegel 6 (Figur 2) anordnen zu können. Diese Massnahme dient dazu, einen etwaigen Dampfeintritt in das Strahlführungsrohr 2 zu verhindern. Es handelt sich hierbei um eine voreingestellte permanente Strahlablenkung, die nichts mit der dynamischen Strahlablenkung zu tun hat, um deren Beeinflussung es im vorliegenden Falle geht.

Unterhalb der Strahlaustrittsöffnung 3 ist ein erstes magnetisches Ablenksystem 7 mit zwei parallelen langgestreckten Polplatten 8 angeordnet, von denen in Figur 1 die vorderste sichtbar ist. Die beiden Polplatten verlaufen parallel zur Zeichenebene der Figur 1 und mit symmetrischem

Abstand zu dem bereits durch die Polschuhe 5 abgelenkten Elektronenstrahl. Der Ablenkwinkel et, um den der Elektronenstrahl mittels des ersten Ablenksystems 7 abgelenkt werden kann, ist durch die gestrichelten Linien 9 angedeutet.

Wiederum unterhalb des ersten Ablenksystems 7 befindet sich das zweite magnetische Ablenksystem 10, das zwei in Figur 1 nicht sichtbare Spulenkerne 11 aufweist, die parallel zu den Polplatten 8 verlaufen und symmetrisch zu einer mittleren Ebene angeordnet sind, die auch die Symmetrieebene zwischen den beiden Polplatten 8 ist. In Figur 1 ist nur das vorderste Gehäuse 12 des zweiten magnetischen Ablenksystems 10 zu sehen. Bezüglich weiterer Einzelheiten wird auf die Figuren 5 und 6 verwiesen.

In Figur 2 sind gleiche Teile wie in Figur 1 mit gleichen Bezugszeichen versehen. Es ist zu erkennen, dass die beiden Polplatten 8 parallel zueinander und senkrecht zur Zeichenebene verlaufen und beiderseits symmetrisch eines mittleren Strahlweges angeordnet sind, der hier durch die dicke strichpunktierte Linie 13 angedeutet ist. Es ist weiterhin zu erkennen, dass die Gehäuse 12 des zweiten magnetischen Ablenksystems 10 gleichfalls senkrecht zur Zeichenebene verlaufen bzw. dass ihre Längsachsen und damit die Längsachsen der Spulenkerne parallel zu einer Symmetrieebene verlaufen, die auch die Symmetrieebene der Polplatten 8 ist. In dieser Symmetrieebene liegt auch die Linie 13.

Am Ende des Strahlweges befindet sich der langgestreckte Verdampfertiegel 6, dessen längste Achse gleichfalls senkrecht zur Zeichenebene verläuft. Die durch den Verdampfer gelegte Symmetrieebene E~E ist durch eine dünne strichpunktierte Linie angedeutet.

Der Aufbau des ersten magnetischen Ablenksystems wird anhand der Figuren 3 und 4 näher erläutert:

Die Polplatten 8 besitzen je einen doppelwandigen Mantel 14, durch den mittels zweier Anschlüsse 16 eine Kühlflüssigkeit (Wasser) geleitet werden kann. Die äussere Oberfläche eines jeden Mantels entspricht einem flachen Quader; beide Mäntel 14 sind mit einem Gehäuse 15 verbunden. In den Mänteln 14 sgwie im Gehäuse 15 befinden sich drei aus Ferrit bestehende Platten 17 bzw. 18, die zu einem «U» zusammengefügt sind. Die Platte 18 bildet das Joch der Polplatten, auf dem eine zweiteilige Magnetspule 19 angeordnet ist.

Wird die Magnetspule 19 mit Wechselstrom gespeist, so ergibt sich zwischen den Polplatten 8 ein wechselndes Magnetfeld entsprechender Frequenz. Dadurch erfährt der Elektronenstrahl eine Auslenkung parallel zu den Polplatten.

Der Strahlweg ist durch die gestrichelte Linie 20 angedeutet, die im Idealfall in der Symmetrieebene zwischen den Polplatten liegt. Die mittlere Lage des Elektronenstrahls ist durch einen Kreis 21 angedeutet. Die Zufuhr des Magnetisierungsstroms erfolgt durch eine Vielfach-Steckverbindung 22, die jedoch von herkömmlicher Beschaffenheit ist und daher hier nicht näher erläutert wird. Die beiden doppelwandigen Mäntel 14 bestehen aus amagnetischem Werkstoff (Chrom-Nickel-Stahl), um einen ungehinderten Durchtritt der Magnetfeldlinien zu ermöglichen.

In den Figuren 5 und 6 ist eine Hälfte des zweiten magnetischen Ablenksystems 10 beschrieben. Die nachstehend noch nähei beschriebenen Teile dieses zweiten Ablenksystems sind in dem bereits erwähnten hohlzylindrischen Gehäuse 12 untergebracht, das zum Zwecke der Durchleitung einer Kühlflüssigkeit gleichfalls doppelwandig ausgebildet ist. Die Anschlüsse 23 sind nur in Figur 6 gezeigt. Der doppelwandige Mantel des Gehäuses 12 ist am freien Ende durch eine Platte 24 permanent verschlossen, während ein am jenseitigen Ende angebrachter Ringflansch 25 mit einem abnehmbaren Deckel 26 verschraubt ist. Zwischen der Platte 24 und dem Deckel 26 erstreckt sich, formschlüssig gelagert, der Spulenkern 11, auf dem eine erste Spule 27 mit gleicher Windungs5

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zahl pro Längeneinheit des Spulenkerns 11 angeordnet ist. Diese Spule ist zur zeichnerischen Hervorhebung durch Diagonalkreuze gekennzeichnet. Die betreffende Spule kann auch als Linearspule oder Zylinderspule bezeichnet werden. Die Gehäuse 12 sind nach innen und aussen hermetisch geschlossen, d.h. jeder Durchtritt von Gasen, Wasser und Wasserdampf oder anderen Flüssigkeiten ist unterbunden.

Auf dieser ersten Spule 27 ist eine zweite Spule 28 angeordnet, die, ausgehend von der Mitte der ersten Spule in Richtung auf die beiderseitigen Enden des Spulenkerns 11 eine zunehmende Windungszahl pro Längeneinheit des Spu-lenk -ras aufweist. Im einfachsten Fall ist die zweite Spule 28 aus vei Spulenhälften zusammengesetzt, die als Kegelspul~n aus- bildet sind, d.h. die Hüllfläche der äussersten Windungen ieser Spule ist jeweils eine Kegelfläche.

Der Spulenkern 11 besteht aus einem Stangen- oder rohr-förnrgen Isoliermaterial mit Gewebe- oder Papiereinlagen. Ein erartiges Material ist unter der Bezeichnung «Pertinax» im Kandel erhältlich. Es ist wichtig, dass die Spulenkombination keinen Eisenkern aufweist, um so eine möglichst hohe Grenzfrequenz zu erreichen. Die erfindungsgemässe Spulenanordnung erzeugt auf ihrer gesamten Länge im Durchtrittsbereich des Elektronenstrahls je nach der Beaufschlagung mit bestimmten Erregerströmen ein ganz bestimmtes Streu-Magnetfeld parallel zur Zylinderachse, dessen Variationsmöglichkeiten und Wirkungen nachfolgend noch näher erläutert werden. Sowohl die Enden der ersten Spule 27 als auch die inneren und äusseren Enden beider Spulenhälften der zweiten Spule 28 sind zu einer Vielfachsteckverbindung 29 geführt, die jedoch Stand der Technik ist und daher nicht weiter erläutert wird.

Es ist zu erkennen, dass die Längsachse des Spulenkerns 11 exzentrisch zur Achse A-A des Gehäuses 12 angeordnet ist. Bei der Montage der beiden zusammengehörenden Hälften des zweiten Ablenksystems 10 wird dabei so verfahren, dass die beiden Spulenkerne 11 einander beiderseits des Strahlweges möglichst nahe gegenüberliegen. Der Abstand der einander am nächsten kommenden Mantellmien der Gehäuse 12 ist durch Strahlbewegung und -durc'hmesser vorgegeben.

In den Figuren 7 bis 14 ist jeweils der langgestreckte Verdampfertiegel 6 in der Draufsicht gezeigt, in dem sich das in der Regel schmelzflüssige Verdampfungsgut befindet, welches durch den Elektronenstrahl beheizt und zur Verdampfung gebracht werden soll.

In Figur 7 ist durch den eingezeichneten Doppelpfeil ein Ablenkmuster angedeutet, wie es bei Elektronenstrahlkano-nen angestrebt wird. Um ein solches Ablenkmuster zu erhalten, wird die Magnetspule 19 (Figuren 3/4) mit einer Wechselspannung entsprechender Frequenz angesteuert. Der Auftreffpunkt (Brennfleck) des Elektronenstrahls auf dem Verdampfungsgut bewegt sich hierbei entlang einer geraden Linie in der zur Zeichenebene senkrecht verlaufenden Symmetrieebene des Verdampfers.

Figur 8 zeigt anhand des ausgezogenen mittleren Doppelpfeils das gleiche Ablenkmuster wie in Figur 1. Werden die beiden ersten Spulen 27 (Linearspulen) mit Gleichspannung versorgt, so lässt sich je nach der Stromrichtung eine Parallelverschiebung des Ablenkmusters in Richtung auf einen der gestrichelten Doppelpfeile vornehmen. Die Grösse der Parallelverschiebung hängt dabei von der Stärke des Erregerstromes ab.

Figur 9 zeigt, was mit dem Ablenkmuster nach Figur 7 geschieht, wenn die ersten Spulen 27 (Linearspulen) mit einer Wechselspannung beaufschlagt werden, deren Frequenz grösser ist als die Ablenkfrequenz für die Strahlbewegung in Längsrichtung des Verdampfertiegels 6. Das Ablenkmuster entspricht nunmehr der gestrichelten Sinuslinie. Ein solcher Ablenkvorgang kann auch als «Wobbein» bezeichnet werden.

Figur 10 zeigt, was mit dem ursprünglichen Ablenkmuster gemäss Figur 7 geschieht, wenn die paarweise nebeneinander 5 liegenden Hälften der zweiten Spulen 28 zu den paarweise nebeneinander liegenden anderen Hälften der zweiten Spulen 28 gegensinnig von Gleichstrom durchflössen werden. Das ursprünglich lineare Ablenkmuster bleibt linear, wird jedoch um den Mittelpunkt M des Verdampfertiegels 6 um 10 einen bestimmten Winkel gedreht. Eine solche Massnahme kann beispielsweise dann sinnvoll sein, wenn das Ablenkmuster ursprünglich nicht parallel zu einer Längskante des Verdampfertiegels 6 verläult, zum Zwecke einer optimalen Ver- . dampfung jedoch in Parallelrichtung einjustiert werden soll. 15 In Figur 11 wird gezeigt, was mit dem ursprünglich geradlinigen Ablenkmuster nach Figur 7 geschieht, wenn die paarweise nebeneinander liegenden Hälften der zweiten Spulen und die gleichfalls paarweise nebeneinander liegenden anderen Hälften dieser Spulen gleichsinnig von Gleichstrom m durchflössen werden. Bei einer solchen Massnahme wird das Ablenkmuster in der Mitte M des Verdampfertiegels 6 in Längsrichtung geknickt. Eine solche Massnahme kann beispielsweise dann angewendet werden, wenn das Ablenkmuster ursprünglich nicht, wie in Figur 7 gezeigt, einen linearen 25 Verlaufhat, sondern verzerrt ist. Durch entsprechende Schaltung und Versorgung der zweiten Spulen 28 lässt sich eine entsprechende Entzerrung durchführen.

Die Verhältnisse lassen sich noch durch ein entsprechendes Wickelmuster der zweiten Spulen 28 beeinflussen. 30 Figur 12 zeigt einen Fall, bei dem das ursprüngliche Ablenkmuster einen gekrümmten Verlauf hat (ausgezogener Doppelpfeil). Durch eine entsprechende Versorgung der zweiten Spulen analog Figur 11 in Verbindung mit einer entsprechenden Verteilung der Wicklungsdichte pro Längeneinheit der 35 Spulenkerne lässt sich eine Linearisierung des Ablenkmusters erreichen, wie dies in Figur 12 durch die gestrichelte Linie dargestellt ist. Auf diese Weise ist eine vollkommene Entzerrung möglich.

Die vorstehend beschriebenen Beeinflussungsmöglichkei-40 ten des Ablenkmusters lassen sich sowohl einzeln als auch in Kombination anwenden, d.h., durch Überlagerung der verschiedenen Ablenkmuster lässt sich nahezu jedes Ablenkmuster auf der Oberfläche des Verdampfungsgutes erzeugen.

In Verbindung mit einer Ansteuerung der Magnetspule 19 45 durch einen Mikroprozessor lässt sich auch eine Aneinanderreihung punktförmiger Auftreffstellen des Elektronenstrahls gemäss Figur 13 erzeugen, wobei bis zu 32 oder sogar 64 unterschiedliche Auftreffpunkte auf der Oberfläche des Verdampfungsguts herbeigeführt werden können. Durch entspre-50 chende Überlagerung von Magnetfeldern durch die ersten Spulen 27 und die zweiten Spulen 28 lassen sich hinsichtlich der Lage der einzelnen Punkte wiederum verschiedene Beeinflussungen bzw. Korrekturen vornehmen. Sowohl die Positionen als auch die Verweilzeiten des Elektronenstrahls in den 55 einzelnen Positionen sind praktisch frei programmierbar. Dadurch ist eine definierte Energieverteilung, mit der die Schichtdickengleichmässigkeit beeinflusst wird, gleichfalls programmierbar.

Figur 14 zeigt eine derartige Möglichkeit, hier können die 60 Magnetspulen 19 des ersten Ablenksystems 7 und die erste Spule 27 des zweiten Ablenksystems 10 synchron angesteuert werden. Dadurch ist eine zweidimensionale Positionsvorgabe des Auftreffpunkts des Elektronenstrahls möglich. Jede mögliche Positionskonfiguration ist auf diese Weise erreichbar, 65 und ein punktweises Entzerren einer gemäss Figur 14 ursprünglich verzeichneten Strahlposition ist ohne weiteres möglich.

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3 Blatt Zeichnungen

Claims (5)

661288 PATENTANSPRÜCHE

1. Elektronenstrahlverdampfer mit einem Elektronen-Strahlerzeuger, einem ersten magnetischen Ablenksystem mit parallelen langgestreckten Polplatten für die lineare Strahlablenkung entlang einer ersten Koordinate und mit einem zweiten magnetischen Ablenksystem für die Strahlablenkung entlang einer zweiten Koordinate, die zur ersten Koordinate senkrecht steht, sowie mit einem langgestreckten Verdampfertiegel für die Aufnahme des zu verdampfenden Materials, dadurch gekennzeichnet, dass a) das zweite magnetische Ablenksystem (10) zwei parallele, nichtmetallische Spulenkerne (11) aufweist, die parallel zu den Polplatten (8) des ersten Ablenksystems (7) verlaufen und unter diesem angebracht sind,

b) auf jedem Spulenkern (11) eine erste Spule (27) mit gleicher Windungszahl pro Längeneinheit des Spulenkerns und c) eine zweite Spule (28) mit zu den beiderseitigen Enden des Spulenkerns (11) zunehmender Windungszahl pro Längeneinheit des Spulenkerns angeordnet sind.

2. Elektronenstrahlverdampfer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die zweiten Spulen (28) als Kegelspulen ausgebildet sind.

3. Elektronenstrahlverdampfer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Spulen (27,28) des zweiten Ablenksystems (10) in doppelwandigen, geschlossenen Gehäusen (12) untergebracht sind, die beiderseits des Strahlweges verlaufen.

4. Elektronenstrahlverdampfer nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Gehäuse (12) zylindrisch ausgebildet sind und dass ihre Achsen (A-A) parallel zu den Polplatten (8) des ersten Ablenksystems (7) verlaufen.

5. Elektronenstrahlverdampfer nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Spulenkerne (11) exzentrisch in den Gehäusen (12) befestigt sind.