CH675178A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- CH675178A5 CH675178A5 CH4156/87A CH415687A CH675178A5 CH 675178 A5 CH675178 A5 CH 675178A5 CH 4156/87 A CH4156/87 A CH 4156/87A CH 415687 A CH415687 A CH 415687A CH 675178 A5 CH675178 A5 CH 675178A5
- Authority
- CH
- Switzerland
- Prior art keywords
- electrodes
- radiator according
- power radiator
- radiation
- discharge space
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J65/00—Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel
- H01J65/04—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels
- H01J65/042—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field
- H01J65/046—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field the field being produced by using capacitive means around the vessel
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Discharge Lamp (AREA)
- Discharge Lamps And Accessories Thereof (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
1
CH 675 178 A5
2
Beschreibung
Technisches Gebiet
Die Erfindung bezieht sich auf einen Hochleistungsstrahler, gemäss dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Die Erfindung nimmt dabei Bezug auf einen Stand der Technik, wie er beispielsweise aus der Veröffentlichung «Vacuum-ultraviolet lamps with a barri-er discharge in inert gases» von G.A. Volkova, N.N. Kiriliova, E.N. Pavlovskaya and A.V. Yakov-leva in der SU-Zeitschrift Zhurnal Prikladnoi Spekt-roskopii 41 (1984) No. 4, 691-695, veröffentlicht in einer englischsprachigen Übersetzung der Plenum Publishing Corporation 1985, Dok. Nr. 0021-9037/84/4104-1194 $ 08.50, S 1194 ff., ergibt.
Technologischer Hintergrund und Stand der Technik für Hochleistungsstrahler, insbesondere Hochleistungs-UV-Strahler, gibt es diverse Anwendungen wie z.B. Entkeimung, Aushärten von Lacken und Kunstharzen, Rauchgasreinigung, Zerstörung und Synthese spezieller chemischer Verbindungen.
im allgemeinen wird die Wellenlänge des Strahlers sehr genau auf den beabsichtigten Prozess abgestimmt sein müssen. Der bekannteste UV-Strahler ist vermutlich der Quecksilberstrahler, der UV-Strahlung der Wellenlänge 254 nm und 185 nm mit hohem Wirkungsgrad abstrahlt. In diesen Strahlern brennt eine Niederdruck-Glimmentladung in einem Edelgas-Quecksilberdampf-Gemisch.
In der eingangs genannten Veröffentlichung «Vakuum ultraviolet lamps ... » wird eine auf dem Prinzip der stillen elektrischen Entladung basierende UV-Strahlenquelle beschrieben. Dieser Strahler besteht aus einem Rohr aus dielektrischem Material mit Rechteckquerschnitt. Zwei gegenüberliegende Rohrwände sind mit flächenhaften Elektroden in Form von Metallfolien versehen, die an einen Impulsgenerator angeschlossen sind. Das Rohr ist an beiden Enden verschlossen und mit einem Edelgas (Argon, Krypton oder Xenon) gefüllt. Derartige Füllgase bilden beim Zünden einer elektrischen Entladung unter bestimmten Bedingungen sogenannte Excimere.
Ein Excimer ist ein Molekül, das aus einem angeregten Atom und einem Atom im Grundzustand gebildet wird. z.B.
Ar + Ar*-»Ari
Es ist bekannt, dass die Umwandlung von Elektronenenergie in UV-Strahlung mit diesen Excimeren sehr effizient erfolgt. Bis zu 50% der Elektronenenergie kann in UV-Strahlung umgewandelt werden, wobei die angeregten Komplexe nur einige Nano-sekunden leben und beim Zerfall ihre Bindungsenergie in Form von UV-Strahlung abgehen. Wellenlängenbereiche:
Edelgas UV-Strahlung
Hei
600-100 nm
Nel
80-90 nm
Ari '
107-165 nm
Kr!
140-160 nm
Xel
160-190 nm
Bei dem bekannten Strahler gefangt das erzeugte UV-Licht bei einer ersten Ausführung über ein stirnseitiges Fenster im dielektrischen Rohr in den Aussenraum. Bei einer zweiten Ausführungsform sind die Breitseiten des Rohres mit Metallfolien versehen, welche die Elektroden bilden. An den Schmalseiten ist das Rohr mit Ausnehmungen versehen, über welche spezielle Fenster geklebt sind, durch welche die Strahlung austreten kann.
Der mit dem bekannten Strahler erreichbare Wirkungsgrad liegt in der Grössenordnung von 1%, also weit unter dem theoretischen Wert von um 50%, weil sich das Füllgas unzulässig aufheizt. Eine weitere Unzulänglichkeit des bekannten Strahlers ist darin zu sehen, dass sein Lichtaustrittsfenster aus Stabilitätsgründen nur eine vergleichsweise kleine Fläche aufweist.
In der EP-Anmeldung 87 109 674.9 mit der Veröffentlichungsnummer 0 254 111 ist ein Hochleistungsstrahler vorgeschlagen worden, der einen wesentlich grösseren Wirkungsgrad aufweist, mit höheren elektrischen Leistungsdichten betrieben werden kann und dessen Lichtaustrittsfläche den genannten Beschränkungen nicht unterliegt. Dazu ist bei dem gattungsgemässen Hochleistungsstrahler sowohl das Dielektrikum als auch die ersten Elektroden für die besagte Strahlung durchlässig sind und zumindest die zweiten Elektroden gekühlt sind. Dieser Hochleistungsstrahler kann mit grossen elektrischen Leistungsdichten und hohem Wirkungsgrad betrieben werden. Seine Geometrie ist in weiten Grenzen dem Prozess anpassbar, in welchem er eingesetzt wird. So sind neben grossflächigen ebenen Strahlern auch zylindrische, die nach innen oder nach aussen strahlen, möglich. Die Entladungen können bei hohem Druck (0.1-10 bar) betrieben werden. Mit dieser Bauweise lassen sich elektrische Leistungsdichten von 1-50 KW/m2 realisieren. Da die Elektronenenergie in der Entladung weitgehend optimiert werden kann, liegt der Wirkungsgrad solcher Strahler sehr hoch, auch dann, wenn man Resonanzlinien geeigneter Atome anregt. Die Wellenlänge der Strahlung lässt sich durch die Art des Füllgases einstellen z.B. Quecksilber (185 nm, 254 nm), Stickstoff (337-415 nm), Selen (196, 204, 206 nm), Xenon (119,130,147 nm), Krypton (124 nm). Wie bei anderen Gasentladungen empfiehlt sich auch die Mischung verschiedener Gasarten.
Der Vorteil dieser Strahler liegt in der flächenhaften Abstrahlung grosser Strahlungsleistungen mit hohem Wirkungsgrad. Fast die gesamte Strahlung ist auf einen oder wenige Wellenlängenbereiche konzentriert. Wichtig ist in allen Fällen, dass
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
2
3
CH 675 178 A5
4
die Strahlung durch eine der Elektroden austreten kann. Dieses Problem ist lösbar mit transparenten, elektrisch leitenden Schichten oder aber auch, indem man ein feinmaschiges Drahtnetz oder aufgebrachte Leiterbahnen als Elektrode benützt, die einerseits die Stromzufuhr zum Dielektrikum gewährleisten, andererseits für die Strahlung aber weitgehend transparent sind. Auch kann ein transparenter Elektrolyt, z.B. H2O, als weitere Elektrode verwendet werden, was insbesondere für die Bestrahlung von Wasser/Abwasser vorteilhaft ist, da auf diese Weise die erzeugte Strahlung unmittelbar in die zu bestrahlende Flüssigkeit gelangt und diese Flüssigkeit gleichzeitig als Kühlmittel dient.
Derartige Strahler strahlen nur in einem Raumwinkel von 2 Da aber jedes sich im Entladungsspalt befindliche Volumenelement nach allen Richtungen, d.h. in einen Raumwinkel 4 k strahlt, geht im oben beschriebenen Strahler zunächst die eine Hälfte der Strahlung verloren. Man kann sie teilweise durch ein geschicktes Anbringen von Spiegeln zurückgewinnen, wie es a.a.O. bereits vorgeschlagen wurde. Dabei ist zweierlei zu beachten:
- jede spiegelnde Oberfläche hat im UV-Bereich einen Reflektionskoeffizienten, der merklich kleiner als 1 sein kann;
- die so reflektierte Strahlung muss dreimal durch das absorbierende Quarzglas hindurch.
Kurze Darstellung der Erfindung
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Hochleistungsstrahler zu schaffen, der mit hohen elektrischen Leistungsdichten betrieben werden kann, eine maximale Lichtaustrittsfläche aufweist und darüber hinaus eine optimale Ausnützung der Strahlung ermöglicht.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäss dadurch gelöst, dass bei einem gattungsgemässen Hochleistungsstrahler sowohl die Dielektrika als auch die ersten und die zweiten Elektroden für die erzeugte Strahlung durchlässig sind.
Das durch eine stille Entladung angeregte und abstrahlende Gas füllt den bis zu 1 cm breiten Spalt zwischen zwei dielektrischen Wänden (bestehend z.B. aus Quarz). Die UV-Strahlung kann nach beiden Seiten den Entladungsspalt verlassen, was die zur Verfügung stehende Strahlungsenergie und damit auch den Wirkungsgrad verdoppelt. Die Elektroden können als relativ weitmaschige Gitter ausgebildet werden. Alternativ können die Gitterdrähte in Quarz eingebettet sein. Dies müsste aber so geschehen, dass die UV-Durchlässigkeit des Quarzes nicht wesentlich beeinträchtigt wird. Eine weitere Variation der Ausführung wäre das Aufbringen einer für UV durchlässigen elektrisch leitenden Schichten anstelle der Gitter.
Kurze Beschreibung der Zeichnung
In der Zeichnung sind Ausführungsbeispiele der Erfindung schematisch dargestellt, und zwar zeigt
Fig. 1 ein Ausführungsbeispiel der Erfindung in Gestalt eines ebenen Flächenstrahlers,
Fig. 2 einen zylindrischen nach aussen und innen abstrahlenden Strahler, mit strahlungsdurchlässigen flächenhaften Elektroden.
Ausführliche Beschreibung von Ausführungsbeispielen der Erfindung
Der plattenförmige UV-Hochleistungsstrahler nach Fig. 1 besteht im wesentlichen aus zwei Quarzoder Saphirplatten 1, 2, die durch Distanzstücke 3 aus Isoliermaterial voneinander getrennt sind, und einen Entladungsraum 4 mit einer typischen Spaltweite zwischen 1 und 10 mm begrenzen. Die äusseren Oberflächen der Quarzplatten 1, 2 sind mit einem relativ weitmaschigen Drahtnetz 5, 6 versehen, das die erste bzw. zweite Elektrode des Strahlers bildet. Die elektrische Anspeisung des Strahlers erfolgt durch eine an diese Elektroden angeschlossene Wechselstromquelle 7.
Als Wechselstromquelle 7 können generell solche verwendet werden, wie sie im Zusammenhang mit Ozonerzeugern seit langem eingesetzt werden.
Der Entladungsraum 5 ist seitlich in üblicher Weise geschlossen, wurde vor dem Verschliessen evakuiert und mit einem inerten Gas, oder einer bei Entladungsbedingungen Excimere bildenden Substanz, z.B. Quecksilber, Edelgas, Edelgas-Metalldampf-Gemisch, Edelgas-Halogen-Gemisch, gefüllt, gegebenenfalls unter Verwendung eines zusätzlichen weiteren Edelgases (Ar, He, Ne) als Puffergas.
Je nach gewünschter spektraler Zusammensetzung der Strahlung kann dabei eine Substanz gemäss nachfolgender Tabelle Verwendung finden:
Füllgas
Strahlung
Helium
60-100 nm
Neon
80-90 nm
Argon
107-165 nm
Xenon
160-190 nm
Stickstoff
337-415 nm
Krypton
124 nm, 140-160 nm
Krypton + Ruor
240-255 nm
Quecksilber
185,254 nm
Selen
196,204,206 nm
Deuterium
150-250 nm
Xenon + Ruor
400-550 nm
Xenon + Chlor
300-320 nm
In der sich bildenden stillen Entladung (dielectric barrier discharge) kann die Elektronenenergiever-teilung durch Variation der Spaltweite des Entladungsraumes, Druck und/oder Temperatur optimal eingestellt werden.
Für sehr kurzwellige Strahlungen kommen auch Platten-Materialien, wie z.B. Magnesiumfluorid und Calziumfluorid in Frage. Für Strahler, welche Strahlung im sichtbaren Bereich des Lichtes liefern sollen, ist das Platten-Material Glas. Anstelle eines Drahtnetzes kann auch eine transparente elek-
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
3
5
CH 675 178 A5
6
trisch leitende Schicht vorhanden sein, wobei für sichtbares Licht die Schicht aus Indium- oder Zinnoxid, für sichtbares und UV-Licht eine 50-100 Angström dicke Goldschicht und speziell im UV auch eine dünne Schicht aus Alkalimetallen verwendet werden kann. Beim Ausführungsbeispiel nach Fig. 2 sind ein erstes Quarzrohr ein von diesem distanziertes zweites Quarzrohr 9 koaxial ineinander angeordnet und mittels ringförmiger Distanzelemente 10 aus Isoliermaterial beabstandet. Der Ringspalt 11 zwischen den Rohren 8 und 9 bildet den Entladungsraum.
Als erste Elektrode ist eine dünne UV-durchläs-sige elektrisch leitende Schicht 12, z.B. aus Indiumoder Zinnoxid oder Alkalimetall oder Gold, auf der Aussenwandung des äusseren Quarzrohrs 8 und eine ebensolche Schicht 13 als zweite Elektrode auf der Innenwandung des inneren Glasrohrs 9 vorgesehen. Der Entladungsraum ist analog zum Ausführungsbeispiel nach Fig. 1 mit einer Substanz bzw. Substanzgemisch gemäss der vorstehenden Tabelle gefüllt.
Auch hier können - je nach Wellenlänge der Strahlung andere Elektroden-Materialien und -Typen Verwendung finden, wie sie im Zusammenhang mit Fig. 1 genannt wurden.
Die beschriebenen Strahler eignen sich gut als photochemische Reaktoren hoher Ausbeute. Im Fall des flachen Strahlers wird das reagierende Medium an der Vorderfläche und der Hinterfläche des Strahlers vorbeigeführt. Im Falle des Rundstrahlers wird das Medium sowohl innen als auch aussen hindurchgeführt.
Die Flachstrahler können zum Beispiel als «UV-Paneele» in den Abgasschornstein von chemischen Reinigungen und anderen Industriebetrieben gehängt werden, um Reste von Lösungsmitteln (z.B. chlorierte Kohlenwasserstoffe) zu zerstören. Ahnlich kann eine grössere Anzahl solcher «Rundstrahler» zu grösseren Batterien zusammen-gefasst und für ähnliche Zwecke eingesetzt werden.
Auch bei der Verspiegelung der einseitig abstrahlenden UV-Strahler nach der eingangs genannten Patentanmeldung lassen sich Verbesserungen erzielen. Den oben erwähnten dreimaligen Durchgang durch die absorbierenden Quarzwände kann man vermeiden, wenn man die UV-Verspiege-lung (z.B. Aluminium) innen anbringt und dann mit einer dünnen Schicht aus Magnesiumfluorid (MgFa) abdeckt. Auf diese Weise müsste die Strahlung jeweils nur eine Quarzwand passieren.
Claims (10)
1. Hochleistungsstrahler, insbesondere für ultraviolettes Licht, mit einem mit einem Füllmedium gefüllten Entladungsraum (4), dessen Wandungen durch ein erstes (1) und ein zweites Dielektrikum (2) gebildet sind, welches auf seinen dem Entladungsraum (4) abgewandten Oberflächen mit ersten (5; 12) und zweiten Elektroden (6; 13) versehen ist, mit einer an die ersten und zweiten Elektroden angeschlossenen Wechselstromquelle (7) zur Speisung der Entladung, dadurch gekennzeichnet, dass sowohl die
Dielektrika (1, 2; 8, 9) als auch die ersten (5; 12) und die zweiten Elektroden (6; 13) für die erzeugte Strahlung durchlässig sind.
2. Hochleistungsstrahler nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Elektroden transparente elektrisch leitende Schichten (12, 13), vorzugsweise aus Indium- oder Zinnoxid oder einer dünnen Schicht aus Alkalimetall oder aus Gold, sind.
3. Hochleistungsstrahler nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Elektroden aus metallischen Drähten (5, 6) bestehen, die auf dem oder im Dielektrikum (2) angeordnet sind.
4. Hochleistungsstrahler nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Elektroden als Drahtnetze (5, 6) ausgebildet sind.
5. Hochleistungsstrahler nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das Füllmedium ein unter Entladungsbedingungen Exci-mere bildendes Edelgas oder Edelgasgemisch ist.
6. Hochleistungsstrahler nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass das Füllmedium Quecksilber, Stickstoff, Selen, Deuterium oder ein Gemisch dieser Substanzen allein oder mit einem Edelgas ist.
7. Hochleistungsstrahler nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass der Entladungsraum (4) im wesentlichen durch zwei distanzierte Platten (1, 2) aus dielektrischem Material gebildet ist, an welche sich nach aussen hin Elektroden (5, 6) anschliessen.
8. Hochleistungsstrahler nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass der Entladungsraum (4) durch den Ringraum zweier Rohre (8, 9) aus dielektrischem Material gebildet ist, wobei beide dem Entladungsraum (4) abgewandten Oberflächen der Rohre mit für die Strahlung durchlässigen Elektroden (12,13) versehen sind.
9. Hochleistungsstrahler nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass das Füllmedium ein Edelgas/Halogen-Gemisch, vorzugsweise ein Ar/ F-, Kr/F-, Xe/Cl-, Xe/J-, Xe/Br-Gemisch ist.
10. Hochleistungsstrahler nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass das Füllgas ein Puffergas in Form eines zusätzlichen Edelgases, vorzugsweise Ar, He oder Ne, enthält.
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
4
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH4156/87A CH675178A5 (de) | 1987-10-23 | 1987-10-23 | |
| EP88113593A EP0312732B1 (de) | 1987-10-23 | 1988-08-22 | Hochleistungsstrahler |
| DE8888113593T DE3870140D1 (de) | 1987-10-23 | 1988-08-22 | Hochleistungsstrahler. |
| CA000579293A CA1298345C (en) | 1987-10-23 | 1988-10-04 | High-power uv radiator with electrodes transparent to radiation |
| NO88884516A NO884516L (no) | 1987-10-23 | 1988-10-10 | Hoeyeffektstraaler. |
| US07/260,869 US4945290A (en) | 1987-10-23 | 1988-10-21 | High-power radiator |
| JP63266300A JPH0821369B2 (ja) | 1987-10-23 | 1988-10-24 | 高出力放射器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH4156/87A CH675178A5 (de) | 1987-10-23 | 1987-10-23 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CH675178A5 true CH675178A5 (de) | 1990-08-31 |
Family
ID=4270852
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CH4156/87A CH675178A5 (de) | 1987-10-23 | 1987-10-23 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4945290A (de) |
| EP (1) | EP0312732B1 (de) |
| JP (1) | JPH0821369B2 (de) |
| CA (1) | CA1298345C (de) |
| CH (1) | CH675178A5 (de) |
| DE (1) | DE3870140D1 (de) |
| NO (1) | NO884516L (de) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19920693C1 (de) * | 1999-05-05 | 2001-04-26 | Inst Oberflaechenmodifizierung | Offener UV/VUV-Excimerstrahler und Verfahren zur Oberflächenmodifizierung von Polymeren |
| DE10235036A1 (de) * | 2002-07-31 | 2004-02-26 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | UV-Lichtquelle |
| WO2008132230A2 (de) | 2007-04-30 | 2008-11-06 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zum herstellen dünner schichten und entsprechende schicht |
Families Citing this family (53)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH676168A5 (de) * | 1988-10-10 | 1990-12-14 | Asea Brown Boveri | |
| CH677557A5 (de) * | 1989-03-29 | 1991-05-31 | Asea Brown Boveri | |
| US5118989A (en) * | 1989-12-11 | 1992-06-02 | Fusion Systems Corporation | Surface discharge radiation source |
| DE4123915A1 (de) * | 1990-07-19 | 1992-01-23 | Herberts Gmbh | Verfahren zum schutz von thermisch empfindlichen aufzeichnungsmaterialien gegen aeussere einfluesse unter verwendung von radikalisch polymerisierbaren ueberzugsmitteln |
| US5404076A (en) * | 1990-10-25 | 1995-04-04 | Fusion Systems Corporation | Lamp including sulfur |
| CA2133344A1 (en) * | 1990-10-25 | 1993-10-28 | James T. Dolan | Lamp having controllable characteristics |
| US5798611A (en) * | 1990-10-25 | 1998-08-25 | Fusion Lighting, Inc. | Lamp having controllable spectrum |
| JP2931819B2 (ja) * | 1990-10-25 | 1999-08-09 | フュージョン ライティング, インコーポレイテッド | 硫黄又はセレンを有するランプ |
| US5834895A (en) * | 1990-10-25 | 1998-11-10 | Fusion Lighting, Inc. | Visible lamp including selenium |
| EP0515711A1 (de) * | 1991-05-27 | 1992-12-02 | Heraeus Noblelight GmbH | Hochleistungsstrahler |
| EP0521553B1 (de) * | 1991-07-01 | 1996-04-24 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Hochdrucksglimmentladungslampe |
| JP2733155B2 (ja) * | 1991-10-24 | 1998-03-30 | 松下電工株式会社 | 面状発光体 |
| US5504391A (en) * | 1992-01-29 | 1996-04-02 | Fusion Systems Corporation | Excimer lamp with high pressure fill |
| JP2893158B2 (ja) * | 1992-04-23 | 1999-05-17 | 株式会社荏原製作所 | 放電反応装置 |
| US5549874A (en) * | 1992-04-23 | 1996-08-27 | Ebara Corporation | Discharge reactor |
| EP0607960B2 (de) * | 1993-01-20 | 2001-05-16 | Ushiodenki Kabushiki Kaisha | Entladungslampe mit dielektrischer Sperrschicht |
| CN1056466C (zh) * | 1993-10-15 | 2000-09-13 | 熔化照明股份有限公司 | 无电极灯及提供光的方法 |
| US5914564A (en) * | 1994-04-07 | 1999-06-22 | The Regents Of The University Of California | RF driven sulfur lamp having driving electrodes which face each other |
| JP2775699B2 (ja) * | 1994-09-20 | 1998-07-16 | ウシオ電機株式会社 | 誘電体バリア放電ランプ |
| JP3025414B2 (ja) | 1994-09-20 | 2000-03-27 | ウシオ電機株式会社 | 誘電体バリア放電ランプ装置 |
| US5585641A (en) * | 1995-05-23 | 1996-12-17 | The Regents Of The University Of California | Large area, surface discharge pumped, vacuum ultraviolet light source |
| JP3082638B2 (ja) * | 1995-10-02 | 2000-08-28 | ウシオ電機株式会社 | 誘電体バリア放電ランプ |
| US5818167A (en) * | 1996-02-01 | 1998-10-06 | Osram Sylvania Inc. | Electrodeless high intensity discharge lamp having a phosphorus fill |
| DE19613502C2 (de) * | 1996-04-04 | 1998-07-09 | Heraeus Noblelight Gmbh | Langlebiger Excimerstrahler und Verfahren zu seiner Herstellung |
| CN1106680C (zh) * | 1996-04-30 | 2003-04-23 | 优志旺电机株式会社 | 外部电极型荧光灯及照射单元 |
| DE19636965B4 (de) * | 1996-09-11 | 2004-07-01 | Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH | Elektrische Strahlungsquelle und Bestrahlungssystem mit dieser Strahlungsquelle |
| RU2129319C1 (ru) * | 1997-05-19 | 1999-04-20 | Виталий Львович Будович | Уф-лампа для фотоионизационного детектора |
| US5945790A (en) * | 1997-11-17 | 1999-08-31 | Schaefer; Raymond B. | Surface discharge lamp |
| US6015759A (en) * | 1997-12-08 | 2000-01-18 | Quester Technology, Inc. | Surface modification of semiconductors using electromagnetic radiation |
| US6049086A (en) * | 1998-02-12 | 2000-04-11 | Quester Technology, Inc. | Large area silent discharge excitation radiator |
| US5993278A (en) * | 1998-02-27 | 1999-11-30 | The Regents Of The University Of California | Passivation of quartz for halogen-containing light sources |
| JP2000173554A (ja) * | 1998-12-01 | 2000-06-23 | Md Komu:Kk | 誘電体バリア放電ランプ |
| JP3458757B2 (ja) | 1999-03-30 | 2003-10-20 | ウシオ電機株式会社 | 誘電体バリア放電ランプ装置 |
| DE19919169A1 (de) | 1999-04-28 | 2000-11-02 | Philips Corp Intellectual Pty | Vorrichtung zur Desinfektion von Wasser mit einer UV-C-Gasentladungslampe |
| US6614181B1 (en) * | 2000-08-23 | 2003-09-02 | Applied Materials, Inc. | UV radiation source for densification of CVD carbon-doped silicon oxide films |
| US6566278B1 (en) | 2000-08-24 | 2003-05-20 | Applied Materials Inc. | Method for densification of CVD carbon-doped silicon oxide films through UV irradiation |
| US20020067130A1 (en) * | 2000-12-05 | 2002-06-06 | Zoran Falkenstein | Flat-panel, large-area, dielectric barrier discharge-driven V(UV) light source |
| DE10133949C1 (de) * | 2001-07-17 | 2003-03-20 | Inst Niedertemperatur Plasmaph | Vorrichtung zur Erzeugung von Gasentladungen, die nach dem Prinzip der dielektrisch behinderten Entladung aufgebaut ist, für Lichtquellen und Sichtanzeigeeinrichtungen |
| US6559607B1 (en) | 2002-01-14 | 2003-05-06 | Fusion Uv Systems, Inc. | Microwave-powered ultraviolet rotating lamp, and process of use thereof |
| FR2843483B1 (fr) * | 2002-08-06 | 2005-07-08 | Saint Gobain | Lampe plane, procede de fabrication et application |
| US7226677B2 (en) * | 2003-05-01 | 2007-06-05 | Ernest Gladstone | Arrangement for supplying ozone to a fuel cell for a passenger car |
| JP2005005258A (ja) * | 2003-05-19 | 2005-01-06 | Ushio Inc | エキシマランプ発光装置 |
| WO2006006129A2 (en) * | 2004-07-09 | 2006-01-19 | Philips Intellectual Property & Standards Gmbh | Uvc/vuv dielectric barrier discharge lamp with reflector |
| US7166963B2 (en) * | 2004-09-10 | 2007-01-23 | Axcelis Technologies, Inc. | Electrodeless lamp for emitting ultraviolet and/or vacuum ultraviolet radiation |
| DE102004055328B3 (de) * | 2004-11-16 | 2006-04-13 | Institut für Niedertemperatur-Plasmaphysik e.V. | Vorrichtung nach dem Prinzip einer dielektrisch behinderten Entladung zur Strahlungserzeugung |
| JP4720154B2 (ja) * | 2004-11-19 | 2011-07-13 | ウシオ電機株式会社 | フラッシュランプ発光装置 |
| JP4691004B2 (ja) * | 2006-12-07 | 2011-06-01 | 株式会社東芝 | 紫外線光による不活化処理方法 |
| CN101946301B (zh) * | 2008-02-21 | 2012-08-22 | 欧司朗股份有限公司 | 带有保持片的介电阻挡放电灯 |
| JP4748208B2 (ja) * | 2008-11-18 | 2011-08-17 | ウシオ電機株式会社 | エキシマ放電ランプおよびエキシマ放電ランプの製造方法 |
| DE102010003352A1 (de) * | 2010-03-26 | 2011-09-29 | Osram Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Dielektrische Barriere-Entladungslampe mit Haltescheibe |
| TWI569301B (zh) | 2010-06-04 | 2017-02-01 | 通路實業集團國際公司 | 感應耦合介電質屏障放電燈 |
| JP2011009238A (ja) * | 2010-09-22 | 2011-01-13 | Gs Yuasa Corp | 無声放電ランプおよび照射装置 |
| ITUB20159319A1 (it) * | 2015-12-29 | 2017-06-29 | Carlo Rupnik | Concentratore tubolare per irraggiamento concentrico di onde elettromagnetiche |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE739064A (de) * | 1968-09-19 | 1970-03-18 | ||
| US4266167A (en) * | 1979-11-09 | 1981-05-05 | Gte Laboratories Incorporated | Compact fluorescent light source and method of excitation thereof |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4266166A (en) * | 1979-11-09 | 1981-05-05 | Gte Laboratories Incorporated | Compact fluorescent light source having metallized electrodes |
| JPS5732564A (en) * | 1980-08-04 | 1982-02-22 | Toshiba Corp | High-frequency flat electric-discharge lamp |
| US4427921A (en) * | 1981-10-01 | 1984-01-24 | Gte Laboratories Inc. | Electrodeless ultraviolet light source |
| JPS614152A (ja) * | 1984-06-18 | 1986-01-10 | Okuno Denki Sangyo Kk | 面状放電発光体 |
| CH670171A5 (de) * | 1986-07-22 | 1989-05-12 | Bbc Brown Boveri & Cie |
-
1987
- 1987-10-23 CH CH4156/87A patent/CH675178A5/de not_active IP Right Cessation
-
1988
- 1988-08-22 EP EP88113593A patent/EP0312732B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-08-22 DE DE8888113593T patent/DE3870140D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-10-04 CA CA000579293A patent/CA1298345C/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-10-10 NO NO88884516A patent/NO884516L/no unknown
- 1988-10-21 US US07/260,869 patent/US4945290A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-10-24 JP JP63266300A patent/JPH0821369B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE739064A (de) * | 1968-09-19 | 1970-03-18 | ||
| US4266167A (en) * | 1979-11-09 | 1981-05-05 | Gte Laboratories Incorporated | Compact fluorescent light source and method of excitation thereof |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Journal of Applied Spectroscopy, vol. 41, no. 4, October 1984, Plenum Publishing Corp. (New York, US) G.A. Volkova et al.: "Vacuum-ultra-violet lamps with a barrier discharge in inert gases, pages 1194-1197 (cited in the application) * |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19920693C1 (de) * | 1999-05-05 | 2001-04-26 | Inst Oberflaechenmodifizierung | Offener UV/VUV-Excimerstrahler und Verfahren zur Oberflächenmodifizierung von Polymeren |
| DE10235036A1 (de) * | 2002-07-31 | 2004-02-26 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | UV-Lichtquelle |
| WO2008132230A2 (de) | 2007-04-30 | 2008-11-06 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zum herstellen dünner schichten und entsprechende schicht |
| DE102007020655A1 (de) | 2007-04-30 | 2008-11-06 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zum Herstellen dünner Schichten und entsprechende Schicht |
| EP2527048A2 (de) | 2007-04-30 | 2012-11-28 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zum Herstellen dünner Schichten und entsprechende Schicht |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0312732A1 (de) | 1989-04-26 |
| DE3870140D1 (de) | 1992-05-21 |
| JPH0821369B2 (ja) | 1996-03-04 |
| JPH01144560A (ja) | 1989-06-06 |
| NO884516D0 (no) | 1988-10-10 |
| US4945290A (en) | 1990-07-31 |
| CA1298345C (en) | 1992-03-31 |
| EP0312732B1 (de) | 1992-04-15 |
| NO884516L (no) | 1989-04-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0312732B1 (de) | Hochleistungsstrahler | |
| EP0254111B1 (de) | UV-Strahler | |
| EP0324953B1 (de) | Hochleistungsstrahler | |
| EP0371304B1 (de) | Hochleistungsstrahler | |
| EP0578953B1 (de) | Hochleistungsstrahler | |
| EP0458140B1 (de) | Hochleistungsstrahler | |
| DE69409677T3 (de) | Entladungslampe mit dielektrischer Sperrschicht | |
| DE3851406T2 (de) | Bogenentladungslampe mit ultraviolettstrahlender Entzündungsquelle. | |
| CH677557A5 (de) | ||
| DE10209191A1 (de) | Vorrichtung zur Erzeugung von UV-Strahlung | |
| CH676168A5 (de) | ||
| EP0782871A2 (de) | Verfahren und Strahlungsanordnung zur Erzeugung von UV-Strahlen zur Körperbestrahlung sowie Verwendung | |
| CH677292A5 (de) | ||
| EP0517929B1 (de) | Bestrahlungseinrichtung mit einem Hochleistungsstrahler | |
| EP1447615B1 (de) | Gepulster Sonnensimulator mit verbesserter Homogenität | |
| EP1984936A1 (de) | Hochdruckentladungslampe | |
| DE4302465C1 (de) | Vorrichtung zum Erzeugen einer dielektrisch behinderten Entladung | |
| DE4010809A1 (de) | Hochleistungsstrahler | |
| DE69527107T2 (de) | Verfahren zum Betreiben einer Neonentladungslampe | |
| DE4036122A1 (de) | Koronaentladungs-lichtquellenzelle | |
| DE4203345A1 (de) | Hochleistungsstrahler | |
| DE4208376A1 (de) | Hochleistungsstrahler | |
| DE3240757C2 (de) | ||
| DE2953233T1 (de) | Pre-ionising arrangement for electrical discharge apparatus such as a gas laser | |
| EP0334355B1 (de) | Wandstabilisierte Hochdruck-Entladungslampe |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PUE | Assignment |
Owner name: HERAEUS NOBLELIGHT GMBH |
|
| PL | Patent ceased |