CH678522A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- CH678522A5 CH678522A5 CH1236/89A CH123689A CH678522A5 CH 678522 A5 CH678522 A5 CH 678522A5 CH 1236/89 A CH1236/89 A CH 1236/89A CH 123689 A CH123689 A CH 123689A CH 678522 A5 CH678522 A5 CH 678522A5
- Authority
- CH
- Switzerland
- Prior art keywords
- titanium
- weight
- powder
- powder according
- gas
- Prior art date
Links
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 44
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 37
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 34
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 34
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 31
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 24
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 24
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical group Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 23
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 22
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- -1 titanium halide Chemical class 0.000 claims description 17
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 16
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 12
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 10
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 4
- 206010013457 Dissociation Diseases 0.000 claims description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 claims description 3
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 claims description 3
- 208000018459 dissociative disease Diseases 0.000 claims description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000005211 surface analysis Methods 0.000 claims description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 10
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 6
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 239000002482 conductive additive Substances 0.000 description 4
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 4
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 3
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 3
- 238000001272 pressureless sintering Methods 0.000 description 3
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 1
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002830 nitrogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N trichloroborane Chemical compound ClB(Cl)Cl FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 239000002912 waste gas Substances 0.000 description 1
- DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrachloride Chemical compound Cl[Zr](Cl)(Cl)Cl DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/082—Compounds containing nitrogen and non-metals and optionally metals
- C01B21/0821—Oxynitrides of metals, boron or silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/06—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
- C01B21/076—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with titanium or zirconium or hafnium
- C01B21/0763—Preparation from titanium, zirconium or hafnium halides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0894—Processes carried out in the presence of a plasma
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/12—Surface area
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/60—Optical properties, e.g. expressed in CIELAB-values
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/80—Compositional purity
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Catalysts (AREA)
Description
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
CH 678 522 A5
Description
Cette invention concerne des composés azotés et, en particulier, des nitrures de titane.
Une variété de composés de l'azote et du titane a été décrite et, d'une manière générale, ceux-ci ont été obtenus par un ou plusieurs procédés généraux. Ces procédés font appel ou non à un processus en phase vapeur à haute température. Les procédés qui ne font pas appel à un processus en phase vapeur à haute température produisent généralement un nitrure de titane grossier, habituellement brun, et la granulométrie correspond typiquement à une surface spécifique de l'ordre de 3 mètres carrés par gramme, et cela après un broyage intense apportant des contaminants métalliques, tels que le fer ou le tungstène.
Des produits de granulométrie plus petite peuvent être obtenus par d'autres procédés de préparation en phase vapeur à haute température, mais ils contiennent invariablement de l'oxygène et/ou du chlore en une proportion dépassant 15% du poids.
Un nouveau produit ayant les propriétés souhaitées a maintenant été obtenu, qui possède une granulométrie fine et contrôlée et une quantité d'oxygène située à l'intérieur de limites clairement définies.
Selon la présente invention, une poudre noire à granulométrie fine comprend du nitrure de titane ayant une surface spécifique, déterminée par la méthode d'absorption de gaz, se situant entre 10 et 80 mètres carrés par gramme et une teneur en oxygène entre 1 et 10 pour cent en poids du poids total du produit.
D'une manière générale, les poudres noires de la présente invention contiennent des composés du titane, de l'azote et de l'oxygène en tant que composants principaux, ainsi que des composés facultatifs d'autres éléments provenant de l'addition d'halogénures appropriés, faite pendant le processus de préparation.
Parmi ces autres composés, on peut citer le silicium, le bore, le zirconium, l'aluminium et l'étain, ainsi qu'éventuellement une petite quantité d'un halogène, tel que le chlore. Chaque élément peut être présent dans la poudre noire en une proportion allant jusqu'à 15% en poids, cependant que la teneur totale en éléments autres que le titane, l'azote et l'oxygène ne doit pas dépasser 15% en poids. De préférence, le poids total des éléments autres que le titane, l'azote et l'oxygène ne doit pas dépasser 5% en poids.
Les proportions de titane et d'azote n'ont pas besoin de correspondre à un nitrure de titane d'une composition chimique précise et dans les faits, ces proportions peuvent varier à l'intérieur d'une gamme très large. Généralement, ces proportions peuvent correspondre à des nitrures de titane ayant la formule empirique TixNy, où le rapport molaire x sur y se situe dans la gamme allant de 0,85 à 1,25 et, de préférence, de 0,90 à 1,20.
La poudre noire contient de l'oxygène, comme mentionné ci-dessus, et cela dans une proportion allant de 1 à 10 pour cent en poids du poids total du produit. Dans certains échantillons de produits examinés par analyse de surface (par exemple par spectroscopie photoélectronique aux rayons X), on a trouvé que l'oxygène se trouvait surtout à la surface des particules de nitrure de titane, alors que la diffraction des rayons X n'a pas permis de mettre en évidence de phase séparée d'oxyde de titane.
La quantité d'oxygène, de titane et d'azote présents, tout comme la granulométrie, dépendent de l'utilisation finale du produit. Des informations additionnelles portant sur ces aspects sont données plus loin.
La présente invention porte également sur un procédé de préparation de nitrure de titane noir, consistant à chauffer de l'ammoniac et un halogénure de titane à une température de réaction choisie au moyen d'un plasma électrique formé dans un flux de gaz non oxydant et produit par la décharge d'un courant continu entre une paire d'électrodes, à introduire le gaz chauffé par une buse d'entrée dans un réacteur, lequel réacteur est conçu et fonctionne pour induire une circulation du produit gazeux à l'intérieur de celui-ci de manière à ce que le rapport de recirculation (RR) soit supérieur à 2,5 et à recueillir la poudre noire de nitrure de titane, le rapport de recirculation étant défini dans ce procédé par la formule:
RR =
û,425Mn.R M.Rn
D D
1/2
- 0,425
nJ
où
RR = rapport de recirculation
Mn = débit pondéral du gaz passant par la buse d'entrée
R=rayon interne du réacteur dans lequel débouche la buse
M = débit pondéral du gaz à une distance 4R en aval de la buse d'entrée
Rn = rayon de la buse d'entrée
Dn = densité du flux de gaz passant par la buse d'entrée
D = densité des gaz dans le réacteur à une distance 4R en aval de la buse d'entrée.
Lorsque le réacteur n'a pas un rayon interne constant, la formule peut encore être utilisée pour avoir une approximation, en prenant pour R la valeur moyenne du rayon.
2
CH678 522A5
Une autre approximation consiste à négliger les réactions et les dissociations dans le calcul des densités.
Habituellement, la concentration en halogénure de titane, calculée sans tenir compte des réactions ou des dissociations, est dans la gamme de 5 à 30% et, de préférence, de 7 à 25% en moles du flux total du 5 gaz.
Le réacteur est représenté d'une manière schématique sur la fig. 1 des dessins en annexe. Sur le dessin, le réacteur 1 a une forme cylindrique et il a un rayon interne (R) constant sur sa longueur. Le flux de gaz chauffé est introduit par l'intermédiaire de l'entrée 13 vers la buse 2 de rayon interne Rn. Un certain nombre d'entrées 4 sont prévues pour les réactifs. Le dessin montre le point X à une distance corres-10 pondant à 4 fois le rayon du réacteur dans le sens du réacteur depuis la buse d'entrée et un moyen 10 pour séparer le produit qui a été évacué au point 14.
Les réactifs sont chauffés à une température appropriée par le flux de gaz non oxydant et inerte, tel que l'argon, l'azote ou l'hydrogène. Le gaz est chauffé en passant entre une paire d'électrodes alimentées par un courant électrique continu d'une puissance suffisante pour amener le plasma gazeux ainsi 15 produit dans le réacteur avec une énergie thermique suffisante pour chauffer les réactifs à la température de réaction requise. La puissance apportée par le plasma gazeux introduit par la buse d'entrée dépend de divers paramètres et il est souhaitable que le plasma apporte une énergie nette de 200 à 2000 kJ par mole d'halogénure de titane.
On peut travailler dans une large gamme de tensions et d'intensités. Cependant, on utilise normale-20 ment des courants continus avec une tension située dans la gamme allant de 25 à 50 V dans le cas de l'argon et de 90 à 250 V et, de préférence, de 90 à 220 V dans le cas de l'azote ou de l'hydrogène. L'intensité est de 200 à 600 amp dans le cas de l'argon et de 80 à 250 amp dans le cas de l'azote et de l'hydrogène.
Les réactifs sont un halogénure de titane et l'ammoniac. On utilise typiquement des fluorures et des chlorures de titane en guise d'halogénure, la préférence allant au tétrachlorure de titane. Les réactifs 25 sont introduits séparément dans le réacteur dans la région du plasma gazeux par une ou plusieurs entrées. Les débits dépendent de l'énergie apportée au plasma gazeux, mais les valeurs typiques se situent entre 0,1 à 5,0 moles par minute pour l'halogénure de titane et entre 0,2 et 50,0 moles par minute pour l'ammoniac.
Le réacteur est réalisé et fonctionne de manière à ce que le rapport de recirculation, tel qu'il est défini 30 ci-dessus, ait une valeur d'au moins 2,5. Ce rapport ne dépasse pas normalement 10, la préférence allant à des valeurs dans la gamme de 3 à 9.
Comme cela a été indiqué ci-dessus, la composition précise souhaitée pour le produit de l'invention dépend quelque peu de son utilisation finale, et le produit peut comporter d'autres éléments que le titane, l'azote et l'oxygène. Les réactifs peuvent comporter à volonté d'autres halogénures métalliques ou non 35 métalliques, tels que le chlorure de silicium, le chlorure de bore, le chlorure de zirconium, le chlorure d'aluminium ou le chlorure d'étain. Ceux-ci peuvent être ajoutés directement au réacteur ou prémélangés avec un ou plusieurs des réactifs.
Après la réaction, le produit de l'invention peut être enlevé du flux de gaz par une technique de filtra-tion appropriée, soit avant, soit après le refroidissement. Un filtre de tissu ayant la forme d'un sac peut 40 être utilisé, de même qu'un filtre céramique, qui est préchauffé si nécessaire. Un épurateur alimenté avec un fluide peut être utilisé, lorsque cela est souhaité, et il a été trouvé que l'épuration du flux de gaz avec de l'acide chlorhydrique contenant jusqu'à 20% de HCl constituait une technique satisfaisante.
Un appareil particulier pour mettre en œuvre le procédé de l'invention sera décrit maintenant, mais uniquement à titre d'exemple, en se reportant aux dessins en annexe, où la fig. 2 est une représentation 45 schématique en coupe d'un réacteur et de la section de refroidissement primaire et la fig. 3 est une représentation schématique de l'appareil de la fig. 2 et des épurateurs associés. Comme représenté sur les fig. 2 et 3, le réacteur 1 est chauffé au moyen d'une flamme de plasma à partir d'une buse 2 d'un pistolet à plasma alimenté avec un gaz non oxydant. Les réactifs (c'est-à-dire le tétrachlorure de titane et l'ammoniac) sont introduits dans la zone de réaction initiale 3 à travers des anneaux de combustion 4 réa-50 lisés en nickel.
Les gaz chauds passent alors dans une zone de réaction plus éloignée, réalisée en un ciment à haute teneur en alumine 5, isolé par une couche de ciment isolant 6, pour arriver ensuite dans une zone primaire de refroidissement 7 faite en acier et refroidie par des dispositifs d'aspersion à eau 8.
Les réactifs qui quittent la zone de refroidissement 7 sont refroidis brusquement avec de l'azote dans 55 un anneau de refroidissement perforé en aluminium 9 et ils passent dans un dispositif de filtration 10 où le produit est séparé des gaz de rejet. Les gaz de rejet acides (c'est-à-dire le HCl) sont enlevés par deux épurateurs 11 avant le rejet dans l'atmosphère. Le débit traversant les épurateurs 11 est maintenu par un tube de Venturi à air 12.
Les produits de l'invention peuvent être utilisés dans une variété d'applications. Le produit peut être 60 utilisé comme pigment noir pour les encres, les peintures, les plastiques et les cosmétiques, ainsi que comme additif électriquement conducteur dans des produits utilisés pour constituer des écrans protégeant des interférences électro-magnétiques ou dans des produits antistatiques. Le produit peut également être utilisé comme additif électriquement conducteur dans des matériaux céramiques à base de nitrure de silicium, de zircone ou d'alumine pour faciliter l'usinage par électro-érosion ou dans la fabrica-65 tion d'éléments chauffants. En outre, le produit améliore la dureté et la solidité de céramiques frittées,
3
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
CH 678 522 A5
comme par exemple des carbures utilisés dans les outils de coupe. Les produits peuvent également être utilisés comme revêtements d'autres articles, tels que les filières d'extrusion, pour améliorer la résistance à l'usure, ainsi que pour réaliser des revêtements décoratifs sur des objets. Les produits peuvent également être utilisés comme nettoyants abrasifs et comme additifs antistatiques pour les bandes d'enregistrement magnétiques. Les produits peuvent également être frittes sans additifs pour former des ob- r jets céramiques qui ont un aspect doré brillant convenant à une utilisation en bijouterie ou pour des décorations. Des pièces frittées peuvent être utilisées comme électrodes ou comme cibles dans la pulvérisation cathodique, ce qui permet d'obtenir des objets avec un revêtement ayant un aspect doré brillant.
Lorsque le produit doit être employé comme additif conducteur, il contient de préférence de 1 à 4% en *
poids d'oxygène et il a une surface spécifique de 10 à 35 mètres par gramme ou mieux, il contient de 1,5 à 3% en poids d'oxygène et il a une surface spécifique de 15 à 30 mètres carrés par gramme.
Lorsque Je produit est utilisé en tant que pigment noir ou dans les céramiques, il contient alors de préférence d'environ 4 ä 10 pour cent en poids d'oxygène ou mieux, de 6 à 10 pour cent en poids d'oxygène et il a de préférence une surface spécifique de 35 à 80 mètres carrés par gramme ou mieux, de 50 à 80 mètres carrés par gramme.
L'invention est illustrée par les exemples qui suivent.
Les valeurs indiquées pour la teneur en oxygène, sont celles obtenues sur le produit fraîchement préparé. Une oxydation et/ou une hydrolyse plus poussées peuvent se manifester au cours d'une exposition prolongée à l'air et/ou à l'eau, en particulier aux températures élevées.
Exemple 1
Un plasma a été réalisé dans de l'argon s'écoulant à une vitesse de 3,4 moles/min entre une paire d'électrodes alimentées par un courant continu à 39,5 volts et 525 ampères. Lorsque le réacteur disposé sous l'entrée du plasma était stabilisé en température, le tétrachlorure de titane était introduit à la vitesse de 1,0 moles par minute et l'ammoniac à la vitesse de 3,5 moles par minute dans la zone entourant la queue de la flamme de plasma. Le plasma introduisait la chaleur dans le réacteur à la vitesse de 607 kJ (145 kcal) par minute (10,2 kwatt), La concentration en tétrachlorure de titane était élevée (12,0%) et les valeurs des différents paramètres de l'équation permettant de calculer le rapport de recirculation étaient les suivantes: Mn = 136 g/min; M=402 g/min; Rn = 3 mm; R=55 mm; Dn = 5,5x10-5 gern-3; et D =
3,7x10-4 gern-3.
Le rapport de recirculation était de 6,4.
Le produit était enlevé du flux de gaz par filtration avec un épurateur contenant du HCl aqueux (15%),
et il avait une surface spécifique de 23 mètres carrés par gramme (méthode d'absorption de gaz) et il contenait 1,7 pour cent en poids d'oxygène.
Le produit préparé comme décrit ci-dessus est avantageux en tant qu'additif électriquement conducteur par comparaison avec les poudres de nitrure de titane préparées par d'autres voies, comme cela est démontré par la comparaison qui suit.
La poudre de l'exemple 1 a été comparée avec une poudre A préparée par nitruration de titane métallique (surface spécifique 3 mètres carrés par gramme, teneur en oxygène 0,6 pour cent). Chaque poudre à 25% en poids de niveau d'addition était broyée dans un moulin à billes avec du nitrure de silicium et de la magnésie (1 pour cent) dans du propanol-2 pendant 2 heures. Les mélanges étaient séchés à l'air et pressés à chaud à 1700°C sous 20 MPa d'azote pendant 15 minutes.
On a trouvé que la résistivité électrique des pièces frittées était de 1,6x109 ohm mètres pour 25% de poudre A et de 4,4x10~2 ohm mètres pour 25% du produit de l'exemple 1.
Le produit de l'exemple 1 présente également des avantages par rapport aux nitrures de titane préparés par d'autres voies dans la fabrication de corps céramiques denses, que cela soit par compression à chaud ou par frïttage sans pression
La poudre de l'exempte 1 et la poudre A étaient comprimées à chaud (1400°C) sans liant ou adjuvant de frïttage sous 20 MPa. La poudre de l'exemple 1 atteignait une densité supérieure à 99% en 2,5 minutes,
alors que ta poudre A cessait d'augmenter en densité au bout de 6 minutes, et après avoir atteint une densité de 80% seulement.
Le frïttage sans pression dans l'azote à 1600°C pendant 30 minutes a donné des résultats similaires.
La poudre de l'exemple 1 a produit un corps céramique ayant une densité supérieure à 99% avec un aspect doré brillant, tandis que la poudre A a produit un corps ayant une densité de 6â% seulement avec une couleur brun mat.
Exemple 2
L'essai de l'exemple 1 a été répété, mais en utilisant un plasma réalisé dans de l'azote et en introduisant °
la chaleur dans le réacteur à une vitesse de 670 kJ (160 kcal) par minute (11,2 kwatts). La concentration en tétrachlorure de titane était de 8,5%. Les valeurs des paramètres utilisés pour le calcul du rapport de recîrculatïon étaient les suivantes: Mn = 92 g/min; M = 454 g/min; Rn = 3 mm; R = 57 mm; Dn = 6,1 x 10-5 gern-3 et D = 2,8 x 10-4 gern-3.
Le rapport de recirculation était de 3,1.
4
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
CH678 522 A5
Le produit collecté dans le filtre épurateur avait une surface spécifique de 39 mètres carrés par gramme (méthode d'absorption de gaz) et il contenait 5,7% en poids d'oxygène.
Exemple 3
Un autre essai a été réalisé en utilisant un plasma produit par un courant continu dans de l'argon introduisant l'énergie thermique dans un réacteur à une vitesse de 394 kJ (94 kcal) par minute (6,6 kwatts). Le tétrachlorure de titane était introduit à la vitesse de 0,5 moles par minute et l'ammoniac à la vitesse de 1,0 moles par minute dans la zone de la queue du plasma. La concentration en tétrachlorure de titane était de 10,4% et les valeurs des paramètres utilisés pour le calcul du rapport de recirculation étaient les suivantes: Mn = 116 g/min; M = 244 g/min; Rn = 3 mm; R = 25 mm; Dn = 7,5 x 10-5 gern-3 et D = 3,5 x 10-4 gcm-3.
Le rapport de recirculation était de 3,3.
Le produit était collecté dans un sac en tissu fait en polytétrafluoroéthylène, il avait une surface spécifique de 76 mètres carrés par gramme (méthode d'absorption de gaz) et il contenait 7,5 pour cent en poids d'oxygène.
Exemple 4
Un plasma produit avec un courant continu dans de l'argon a servi à introduire l'énergie thermique à la vitesse de 770 kJ (184 kcal)/min (12,9 kwatts) dans un réacteur. Le tétrachlorure de titane était introduit à la vitesse de 1,6 moles par minute et l'ammoniac à la vitesse de 5 moles par minute dans la zone de la queue du plasma. La concentration en tétrachlorure de titane était de 13,2% et les valeurs des paramètres utilisés pour le calcul du rapport de recirculation étaient les suivantes: Mn = 204 g/min; M = 609 g/min; Rn = 3 mm; R = 55 mm; Dn = 6,5 x 10-5 gcm-3 et D = 3,6x 10-4 gcm-3.
Le rapport de recirculation était de 5,7.
Le produit collecté dans un filtre épurateur contenant 10% de HCl avait une surface spécifique de 17 mètres carrés par gramme (méthode d'absorption de gaz) et il contenait 2,8 pour cent en poids d'oxygène.
Exemple 5
Un plasma produit avec un courant continu dans de l'azote a servi à introduire l'énergie thermique à la vitesse de 1394 kJ (333 kcai)/min (23,3 kwatts) dans un réacteur. Le tétrachlorure de titane était introduit à la vitesse de 1,7 moles par minute et l'ammoniac à la vitesse de 3 moles par minute dans la zone de la queue du plasma. La concentration en tétrachlorure de titane était de 15,4% et les valeurs des paramètres utilisés pour le calcul du rapport de recirculation étaient les suivantes: Mn = 88 g/min; M = 552 g/min; Rn = 3 mm; R = 75 mm; Dn = 3,3 x 10~s gcm-3 et D = 3,2 x 10-* gcm-3.
Le rapport de recirculation était de 4,8.
Le produit collecté dans un filtre épurateur contenant 20% de HCl avait une surface spécifique de 23 mètres carrés par gramme (méthode d'absorption de gaz) et il contenait 2,8 pour cent en poids d'oxygène.
Exemple 6
Un plasma produit avec un courant continu dans de l'azote a servi à introduire l'énergie thermique à la vitesse de 2638 kJ (630 kcal)/min (44,1 kwatts) dans un réacteur. Le tétrachlorure de titane était introduit à la vitesse de 1,4 moles par minute et l'ammoniac à la vitesse de 4 moles par minute dans la zone de la queue du plasma.
La concentration en tétrachlorure de titane était de 12,1% et les valeurs des paramètres utilisés pour le calcul du rapport de recirculation étaient les suivantes: Mn = 146 g/min; M = 508 g/min; Rn = 8 mm; R = 100 mm; Dn = 3,0 x 10-s gcm-3 et Dn = 2,7 x 10-4 gcm-3.
Le rapport de recirculation était de 4,1.
Le produit collecté dans un filtre épurateur contenant 10% dé HCl avait une surface spécifique de 21 mètres carrés par gramme (méthode d'absorption de gaz) et il contenait 3,6 pour cent en poids d'oxygène.
Exemple 7
Un plasma produit avec un courant continu dans de l'azote a servi à introduire l'énergie thermique à la vitesse de 1214 kJ (290 kcal)/min (20,3 kwatts) dans un réacteur. Le tétrachlorure de titane était introduit à la vitesse de 1,4 moles par minute et l'ammoniac à la vitesse de 3 moles par minute dans la zone de la queue du plasma. La concentration en tétrachlorure de titane était de 18,9% et les valeurs des paramètres utilisés pour le calcul du rapport de recirculation étaient les suivantes: Mn = 56 g/min; M = 401 g/min; Rn = 8 mm; R = 100 mm; Dn = 2,6 x 10-5 gcm-3 et D = 4,6 x 10-4 gcm-3.
Le rapport de recirculation était de 2,7.
Le produit était collecté dans un filtre épurateur contenant 10% de HCl, il avait une surface spécifique de 38 mètres carrés par gramme (méthode d'absorption de gaz) et il contenait 5,9 pour cent en poids d'oxygène.
5
s
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
CH 678 522 A5
Exemples
Un plasma produit avec un courant continu dans de l'argon a servi à introduire l'énergie thermique à la vitesse de 653 kJ (156 kcal)/min (10,9 kwatts) dans un réacteur. Le tétrachlorure de titane était introduit à la vitesse de 0,9 moles par minute, le tétrachlorure de silicium à la vitesse de 0,1 moles par minute et l'ammoniac à la vitesse de 3,5 moles par minute dans la zone de la queue du plasma. La concentration en tétrachlorures était de 10,3% en moles et les valeurs des paramètres utilisés pour le calcul du rapport de recirculation étaient les suivantes: Mn = 208 g/min; M = 479 g/min; Rn = 3 mm; R = 55 mm; Dn=7,6 x 10-5 gcm-3 et D=4,6 x 10-4 gcm-3.
Le rapport de recirculation était de 7,9.
Le produit collecté dans un filtre épurateur contenant 10% de HCl avait une surface spécifique de 26 mètres carrés par gramme (méthode d'absorption de gaz), et il contenait 3,1 pour cent en poids d'oxygène et 2,9 pour cent en poids de silicium.
Les exemples qui suivent décrivent le procédé en dehors des conditions définies et démontrent la nécessité d'opérer à l'intérieur des conditions revendiquées, si on veut obtenir la combinaison souhaitée de granulométrie fine et de teneur en oxygène.
Exemple 9 (comparatif)
Un plasma produit avec un courant continu dans de l'argon a servi à introduire l'énergie thermique à la vitesse de 590 kJ (141 kcal)/min (9,9 kwatts) dans un réacteur. Le tétrachlorure de titane était introduit à la vitesse de 0,8 moles par minute et l'ammoniac à la vitesse de 1,6 moles par minute dans la zone de la queue du plasma. La concentration en tétrachlorure de titane était de 6,0% et les valeurs des paramètres utilisés pour le calcul du rapport de recirculation étaient les suivantes: Mn = 92 g/min; M = 615 g/min; Rn = 3 mm; R == 25 mm; Dn == 3,9 x 10~5 gcm-3 et D = 4,0 x 10-4 gcm-3.
Le rapport de recireulation était de 1,3.
Le produit collecté dans un sac filtrant en tissu de polytétrafluoroéthylène avait une surface spécifique de 99 mètres carrés par gramme (méthode d'absorption de gaz) et il contenait 13,5 pour cent en poids d'oxygène.
Le frïttage sans pression de ce produit à 1600°C sous azote pendant 30 minutes a produit un corps qui n'avait qu'une densité de 45% et une couleur terne marron clair.
Exemple 10 (comparatif)
Un plasma produit avec un courant continu dans de l'argon a servi à introduire l'énergie thermique à la vitesse de 461 kJ (110 kcal)/min (7,7 kwatts) dans un réacteur. Le tétrachlorure de titane était introduit à la vitesse de 0,5 moles par minute et l'ammoniac à la vitesse de 1,0 moles par minute dans la zone de la queue du plasma. La concentration en tétrachlorure de titane était de 5,5% et les valeurs des paramètres utilisés pour le calcul du rapport de recirculation étaient les suivantes: Mn = 104 g/min; M = 416 g/min; Rn = 3 mm; R = 25 mm; Dn = 5,5 x 10-5 gcm-3 et D = 4,5 x 10-4 gcm-3.
Le rapport de recirculation était de 2,1.
Le produit collecté dans un sac filtrant en tissu de polytétrafluoroéthylène avait une surface spécifique de 71 mètres carrés par gramme (méthode d'absorption de gaz) et il contenait 10,3 pour cent en poids d'oxygène.
Claims (23)
1. Poudre noire à granulométrie fine comprenant des particules de nitrure de titane, caractérisée en ce que la surface spécifique de la poudre, déterminée par la méthode d'absorption de gaz, est de 10 à 80 mètres carrés par gramme et que la teneur en oxygène dans la poudre est de 1 à 10 pour cent en poids.
2. Poudre selon la revendication 1, caractérisée en ce que le rapport molaire du titane sur l'azote est de 0,85:1 à 1,25:1.
3. Poudre selon la revendication 2, caractérisée en ce que le rapport molaire du titane sur l'azote est de 0,90:1 à 1,20:1.
4. Poudre selon l'une des revendications 1, 2 ou 3, caractérisée en ce que la teneur en oxygène est de 1 à 4 pour cent en poids et que la surface spécifique est de 10 à 35 mètres carrés par gramme.
5. Poudre selon la revendication 4, caractérisée en ce que la teneur en oxygène est de 1,5 à 3% en poids et que la surface spécifique est de 15 à 30 mètres carrés par gramme.
6. Poudre selon l'une des revendications 1, 2 ou 3, caractérisée en ce que la teneur en oxygène est de 4 à 10 pour cent en poids et que la surface spécifique est de 35 à 80 mètres carrés par gramme.
7. Poudre selon la revendication 6, caractérisée en ce que la teneur en oxygène est de 6 à 10 pour cent en poids et que la surface spécifique est de 50 à 80 mètres carrés par gramme.
8. Poudre selon l'une quelconque des revendications qui précèdent, caractérisée en ce qu'en plus du titane, de l'azote et de l'oxygène, un ou plusieurs autres éléments sont également présents en une proportion ne dépassant pas 15% du poids de la poudre.
6
5
10
15
ao
25
30
35
40
45
50
55
60
65
CH678522 A5
9. Poudre selon la revendication 8, caractérisée en ce que la proportion totale dudit autre élément ne dépasse pas 5 pour cent en poids et que ledit autre élément est choisi dans le groupe des éléments comprenant le silicium, le bore, le zirconium, l'aluminium, l'étain et un halogène.
10. Poudre selon la revendication 1, caractérisée en ce que la majorité de l'oxygène, déterminé par des techniques d'analyse des surfaces, est à la surface de particules de nitrure de titane.
11. Procédé de préparation de poudre de nitrure de titane noir selon la revendication 1, par réaction de l'ammoniac avec un halogénure de titane, caractérisé en ce que l'on chauffe de l'ammoniac et un halogénure de titane à une température de réaction choisie au moyen d'un plasma électrique formé dans un flux de gaz non oxydant produit par la décharge d'un courant continu entre une paire d'électrodes, que ce gaz chauffé est introduit par une buse d'entrée dans un réacteur, lequel réacteur est conçu et fonctionne pour induire dans celui-ci une circulation du produit gazeux de manière à ce que le rapport de recirculation (RR) soit supérieur à 2,5 et que l'on recueille la poudre noire de nitrure de titane, le rapport de recirculation dans ce procédé étant défini par la formule:
RR =
0,425Mn.K
M.Rn
L
Dn
1/2
- 0,425
où
Mn = débit pondéral du gaz passant par la buse d'entrée
R = rayon interne du réacteur dans lequel débouche la buse
M = débit pondéral du gaz à une distance 4R en aval de la buse d'entrée
Rn = rayon de la buse d'entrée
Dn = densité du flux de gaz passant par la buse d'entrée
D = densité des gaz dans le réacteur à une distance 4R en aval de la buse d'entrée.
12. Procédé selon la revendication 11, caractérisé en ce que la concentration en halogénure de titane, calculée sans tenir compte des réactions ou des dissociations, est dans la gamme de 5 à 30% en moles du flux total du gaz.
13. Procédé selon la revendication 12, caractérisé en ce que la concentration en halogénure de titane est dans la gamme de 7 à 25%.
14. Procédé selon l'une quelconque des revendications 11,12 ou 13, caractérisé en ce que l'halogénure de titane est le tétrachlorure de titane.
15. Procédé selon la revendication 11, caractérisé en ce que la puissance nette fournie par le plasma est de 200 à 2000 kJ/min par mole d'halogénure de titane.
16. Procédé selon la revendication 11, caractérisé en ce que le gaz non oxydant est l'argon et que le plasma est produit par un courant continu ayant une tension de 25 à 50 volts et une intensité de 200 à 600 ampères.
17. Procédé selon la revendication 11, caractérisé en ce que le gaz non oxydant est l'azote ou l'hydrogène et que le plasma est produit par un courant continu ayant une tension de 90 à 250 volts et une intensité de 80 à 250 amp.
18. Procédé selon la revendication 17, caractérisé en ce que la tension du courant continu est de 90 à 220 volts.
19. Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce que le flux pondéral du tétrachlorure de titane est de 0,1 à 5,0 moles par minute.
20. Procédé selon la revendication 11, caractérisé en ce que le flux pondéral de l'ammoniac est de 0,2 moles à 50,0 moles par minute.
21. Procédé selon la revendication 11, caractérisé en ce que le rapport de recirculation (RR) ne dépasse pas 10.
22. Procédé selon la revendication 21, caractérisé en ce que le rapport de recirculation (RR) est de 3 à 9 inclus.
23. Nitrure de titane noir, caractérisé en ce qu'il a été préparé par l'un quelconque des procédés des revendications 11 à 22 incluses.
7
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB888809651A GB8809651D0 (en) | 1988-04-23 | 1988-04-23 | Nitrogen compounds |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CH678522A5 true CH678522A5 (fr) | 1991-09-30 |
Family
ID=10635738
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CH1236/89A CH678522A5 (fr) | 1988-04-23 | 1989-04-04 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5002646A (fr) |
| EP (1) | EP0340907B1 (fr) |
| JP (1) | JPH0222110A (fr) |
| AU (1) | AU611274B2 (fr) |
| CH (1) | CH678522A5 (fr) |
| DE (1) | DE3913200A1 (fr) |
| FR (1) | FR2630427B1 (fr) |
| GB (2) | GB8809651D0 (fr) |
| IT (1) | IT1231757B (fr) |
| SE (1) | SE466914B (fr) |
Families Citing this family (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB8913106D0 (en) * | 1989-06-07 | 1989-07-26 | Tioxide Group Plc | Production of nitrogen compounds |
| US5137542A (en) * | 1990-08-08 | 1992-08-11 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive printed with an electrically conductive ink |
| US5118488A (en) * | 1990-08-28 | 1992-06-02 | Martin Marietta Energy Systems, Inc. | Process for making whiskers, fibers and flakes of transition metal compounds |
| US5188979A (en) * | 1991-08-26 | 1993-02-23 | Motorola Inc. | Method for forming a nitride layer using preheated ammonia |
| DE4214719C2 (de) * | 1992-05-04 | 1995-02-02 | Starck H C Gmbh Co Kg | Verfahren zur Herstellung feinteiliger Metall- und Keramikpulver |
| GB9306802D0 (en) * | 1993-04-01 | 1993-05-26 | Tioxide Specialties Ltd | Process for the production of silicon nitride |
| US5405515A (en) * | 1993-08-17 | 1995-04-11 | Fang; Pao-Hsien | Method and apparatus for production of a carbon nitride |
| JPH08170174A (ja) * | 1994-12-14 | 1996-07-02 | Nec Corp | TiN膜の形成方法 |
| US7576296B2 (en) | 1995-03-14 | 2009-08-18 | Battelle Energy Alliance, Llc | Thermal synthesis apparatus |
| US5749937A (en) * | 1995-03-14 | 1998-05-12 | Lockheed Idaho Technologies Company | Fast quench reactor and method |
| AU2906401A (en) | 1999-12-21 | 2001-07-03 | Bechtel Bwxt Idaho, Llc | Hydrogen and elemental carbon production from natural gas and other hydrocarbons |
| US7354561B2 (en) | 2004-11-17 | 2008-04-08 | Battelle Energy Alliance, Llc | Chemical reactor and method for chemically converting a first material into a second material |
| JP5095939B2 (ja) * | 2004-12-28 | 2012-12-12 | 石原産業株式会社 | 黒色系酸窒化チタン |
| US7785501B2 (en) * | 2004-12-28 | 2010-08-31 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Black resin composition for display device, and member for display device |
| TW200631898A (en) * | 2004-12-28 | 2006-09-16 | Ishihara Sangyo Kaisha | Black-type titanium oxynitride |
| US8329068B2 (en) | 2007-03-20 | 2012-12-11 | Toray Industries, Inc. | Black resin composition, resin black matrix, color filter and liquid crystal display |
| ATE512118T1 (de) * | 2007-11-15 | 2011-06-15 | Umicore Nv | Verfahren zur herstellung von rutiltitandioxidpulver |
| JP4945544B2 (ja) * | 2008-11-04 | 2012-06-06 | 株式会社ホンダアクセス | 車両部品の装飾構造 |
| US8591821B2 (en) | 2009-04-23 | 2013-11-26 | Battelle Energy Alliance, Llc | Combustion flame-plasma hybrid reactor systems, and chemical reactant sources |
| TWI483999B (zh) * | 2009-06-15 | 2015-05-11 | Toray Industries | 黑色複合微粒子、黑色樹脂組成物、彩色濾光片基板及液晶顯示裝置 |
| WO2018061644A1 (fr) * | 2016-09-30 | 2018-04-05 | 富士フイルム株式会社 | Particules à teneur en nitrure de métal, composition de dispersion, composition durcissable, film durci, procédés de fabrication de ceux-ci, filtre coloré, élément d'imagerie à semi-conducteurs, dispositif d'imagerie à semi-conducteurs, et capteur de rayons infrarouges |
| JP6667422B2 (ja) * | 2016-11-22 | 2020-03-18 | 三菱マテリアル電子化成株式会社 | 黒色膜形成用混合粉末及びその製造方法 |
| CN108217612A (zh) * | 2018-01-30 | 2018-06-29 | 攀枝花学院 | 制备球形氮化钛粉末的方法及设备 |
| EP3767393A4 (fr) | 2018-03-13 | 2021-05-05 | FUJIFILM Corporation | Procédé de fabrication de film durci et procédé de fabrication d'élément d'imagerie à semi-conducteurs |
| EP4237174A1 (fr) * | 2020-10-30 | 2023-09-06 | 6K Inc. | Systèmes et procédés de synthèse de poudres métalliques sphéroïdales |
| EP4275239A4 (fr) | 2021-01-11 | 2024-12-18 | 6K Inc. | Procédés et systèmes de réclamation de matériaux de cathode li-ion au moyen d'un traitement au plasma par micro-ondes |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2413778A (en) * | 1944-10-14 | 1947-01-07 | Du Pont | Production of titanium nitride |
| GB787516A (en) * | 1955-02-24 | 1957-12-11 | British Titan Products | Improvements in or relating to the preparation of titanium nitride |
| DE1066549B (de) * | 1957-07-17 | 1959-10-08 | Societe Anonyme des Manufactures des Glaces et Produits Chimiques de Saint-Gobain, Chauny &. Cirey, Paris | Verfahren zur Herstellung von chemischen Verbindungen von hohem Reinheitsgrad |
| FR1359434A (fr) * | 1962-04-21 | 1964-04-24 | Knapsack Ag | Procédé et appareil pour la préparation du nitrure de titane |
| DE1160831B (de) * | 1962-04-21 | 1964-01-09 | Knapsack Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Titannitrid |
| GB1199811A (en) * | 1968-03-09 | 1970-07-22 | British Titan Products | Production of Nitrogen-Containing Compounds |
| US3591338A (en) * | 1968-06-05 | 1971-07-06 | Du Pont | Preparation of metal nitrides |
| JPS4945079B1 (fr) * | 1969-01-07 | 1974-12-02 | ||
| US4022872A (en) * | 1975-11-12 | 1977-05-10 | Ppg Industries, Inc. | Process for preparing finely-divided refractory powders |
| US4080431A (en) * | 1976-12-20 | 1978-03-21 | Ppg Industries, Inc. | Recovery of refractory hard metal powder product |
| US4851206A (en) * | 1981-07-15 | 1989-07-25 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University, Stanford University | Methods and compostions involving high specific surface area carbides and nitrides |
| JPS5976802A (ja) * | 1982-10-26 | 1984-05-02 | Japan Metals & Chem Co Ltd | 気相反応法による窒化チタン超微粉体の製造方法 |
| JPS6051616A (ja) * | 1983-08-30 | 1985-03-23 | Mitsubishi Metal Corp | 微細な有色粉末の製法 |
| GB2167395B (en) * | 1984-11-23 | 1989-05-17 | Mitsubishi Metal Corp | Black pigment |
| FR2591412A1 (fr) * | 1985-12-10 | 1987-06-12 | Air Liquide | Procede de fabrication de poudres et reacteur etanche a plasma micro-onde |
| JPS62260864A (ja) * | 1986-05-07 | 1987-11-13 | Mitsubishi Metal Corp | 黒色顔料 |
| US4929433A (en) * | 1987-10-22 | 1990-05-29 | Alfred University | Method for the preparation of sinterable nitrides |
-
1988
- 1988-04-23 GB GB888809651A patent/GB8809651D0/en active Pending
-
1989
- 1989-03-31 GB GB8907258A patent/GB2217699B/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-04-03 EP EP89303247A patent/EP0340907B1/fr not_active Expired
- 1989-04-04 CH CH1236/89A patent/CH678522A5/fr not_active IP Right Cessation
- 1989-04-05 AU AU32460/89A patent/AU611274B2/en not_active Ceased
- 1989-04-19 IT IT8947867A patent/IT1231757B/it active
- 1989-04-19 SE SE8901417A patent/SE466914B/sv not_active IP Right Cessation
- 1989-04-20 US US07/340,790 patent/US5002646A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-04-21 JP JP1103280A patent/JPH0222110A/ja active Pending
- 1989-04-21 DE DE3913200A patent/DE3913200A1/de not_active Withdrawn
- 1989-04-21 FR FR898905370A patent/FR2630427B1/fr not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| IT8947867A0 (it) | 1989-04-19 |
| JPH0222110A (ja) | 1990-01-25 |
| AU611274B2 (en) | 1991-06-06 |
| US5002646A (en) | 1991-03-26 |
| SE466914B (sv) | 1992-04-27 |
| SE8901417L (sv) | 1989-10-24 |
| EP0340907A1 (fr) | 1989-11-08 |
| IT1231757B (it) | 1991-12-21 |
| GB2217699A (en) | 1989-11-01 |
| AU3246089A (en) | 1989-10-26 |
| SE8901417D0 (sv) | 1989-04-19 |
| FR2630427B1 (fr) | 1992-12-11 |
| GB8809651D0 (en) | 1988-05-25 |
| GB8907258D0 (en) | 1989-05-17 |
| GB2217699B (en) | 1991-11-20 |
| FR2630427A1 (fr) | 1989-10-27 |
| DE3913200A1 (de) | 1989-11-02 |
| EP0340907B1 (fr) | 1991-12-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| FR2630427A1 (fr) | Poudre noire de nitrure de titane et son procede de fabrication | |
| JP2008545866A (ja) | プラズマトーチを使用する粒子の処理方法 | |
| JP2000512688A (ja) | 金属炭化物―viii族金属粉末およびその製造法 | |
| IL105591A (en) | Metal powders with tiny particles | |
| Carrington et al. | Diamond growth in O2+ C2H4 and O2+ C2H2 flames | |
| CN1742059A (zh) | 片状颜料 | |
| RU2136444C1 (ru) | Тонкодисперсный металлосодержащий порошок и способ его получения | |
| AU617943B2 (en) | Production of nitrogen compounds | |
| JPH0624727A (ja) | 非酸化物性セラミツクス微粉末の製造法 | |
| Xiao et al. | Synthesis of nanostructured NiCr and Ni-Cr3C2 powders by an organic solution reaction method | |
| US20150232336A1 (en) | Method for producing bn-based nanoparticles and products therefrom | |
| RU2206431C2 (ru) | Мелкозернистое железо, содержащее фосфор, и способ его получения | |
| FR2735706A1 (fr) | Procede de passivation des fines de reacteur d'organochlorosilane et de recuperation de chlorosilanes de valeur a partir de ces dernieres | |
| JPS60264313A (ja) | 窒化チタン粉末の製造法 | |
| Wilden et al. | Synthesis of Si–C–N coatings by thermal Plasmajet chemical vapour deposition applying liquid precursors | |
| Tang et al. | Preparation of ultrafine CVD WC powders deposited from WCl6 gas mixtures | |
| FR2639632A1 (fr) | Procede de preparation de matieres premieres ceramiques a partir de fluorure de silicium et d'ammoniac ou d'un hydrocarbure | |
| US20090042716A1 (en) | High Temperature Reactor for the Poduction of Nanophase WC/CO Powder | |
| JP4763780B2 (ja) | 超分散炭素の製造法 | |
| FR2555082A1 (fr) | Procede plasma-chimique pour la fabrication d'un melange de poudres fines | |
| RU2359905C1 (ru) | Способ получения шихты для производства карбидокремниевой керамики твердофазным спеканием | |
| Schreuders et al. | Nanosized tungsten carbide powder produced by thermal plasma | |
| Akhtar et al. | Thermal aerosol processes | |
| Keskinen et al. | Comparison of the properties of TiC/Fe-AI composites produced by self-propagating high-temperature synthesis and hot isostatic pressing | |
| Gatto et al. | Reactive formation of C |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PL | Patent ceased |