CL2017003431E1 - Dibujo industrial de patrón ornamental aplicable en superficies de artículos absorbentes, se forma a partir de un eje central longitudinal imaginario sobre el cual se disponen figuras elípticas de extremos espaciados una de mayor tamaño seguida por una de tamaño menor, formadas por trazos cóncavos enfrentados y separadas por un circulo, hacia cada lado dos líneas continuas de suave curvatura paralelas a una línea exterior punteada. - Google Patents
Dibujo industrial de patrón ornamental aplicable en superficies de artículos absorbentes, se forma a partir de un eje central longitudinal imaginario sobre el cual se disponen figuras elípticas de extremos espaciados una de mayor tamaño seguida por una de tamaño menor, formadas por trazos cóncavos enfrentados y separadas por un circulo, hacia cada lado dos líneas continuas de suave curvatura paralelas a una línea exterior punteada.Info
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Abstract
DIBUJO INDUSTRIAL DE PATRÓN ORNAMENTAL APLICABLE EN SUPERFICIES DE ARTÍCULOS ABSORBENTES, SE FORMA A PARTIR DE UN EJE CENTRAL LONGITUDINAL IMAGINARIO SOBRE EL CUAL SE DISPONEN FIGURAS ELÍPTICAS DE EXTREMOS ESPACIADOS UNA DE MAYOR TAMAÑO SEGUIDA POR UNA DE TAMAÑO MENOR, FORMADAS POR TRAZOS CÓNCAVOS ENFRENTADOS Y SEPARADAS POR UN CIRCULO, HACIA CADA LADO DOS LÍNEAS CONTINUAS DE SUAVE CURVATURA PARALELAS A UNA LÍNEA EXTERIOR PUNTEADA.
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| CL2017003431F CL2017003431E1 (es) | 2017-12-28 | 2017-12-28 | Dibujo industrial de patrón ornamental aplicable en superficies de artículos absorbentes, se forma a partir de un eje central longitudinal imaginario sobre el cual se disponen figuras elípticas de extremos espaciados una de mayor tamaño seguida por una de tamaño menor, formadas por trazos cóncavos enfrentados y separadas por un circulo, hacia cada lado dos líneas continuas de suave curvatura paralelas a una línea exterior punteada. |
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