CN101972756A - 镜片加工过程中的清洗工艺 - Google Patents

镜片加工过程中的清洗工艺 Download PDF

Info

Publication number
CN101972756A
CN101972756A CN 201010269624 CN201010269624A CN101972756A CN 101972756 A CN101972756 A CN 101972756A CN 201010269624 CN201010269624 CN 201010269624 CN 201010269624 A CN201010269624 A CN 201010269624A CN 101972756 A CN101972756 A CN 101972756A
Authority
CN
China
Prior art keywords
lens
cleaning
eyeglass
pure water
dry
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN 201010269624
Other languages
English (en)
Other versions
CN101972756B (zh
Inventor
金春伟
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hubei W Olf Photoelectric Co ltd
Original Assignee
SUZHOU WOLF PHOTOELECTRIC TECHNOLOGY Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SUZHOU WOLF PHOTOELECTRIC TECHNOLOGY Co Ltd filed Critical SUZHOU WOLF PHOTOELECTRIC TECHNOLOGY Co Ltd
Priority to CN 201010269624 priority Critical patent/CN101972756B/zh
Publication of CN101972756A publication Critical patent/CN101972756A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101972756B publication Critical patent/CN101972756B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Eyeglasses (AREA)

Abstract

本发明公开了一种镜片加工过程中的清洗工艺，其包括：(1)使用固定装置将待洗镜片固定；(2)将固定好的镜片放入具有清洗剂的清洗液中；(3)调整清洗液的pH值为7-8之间，温度为45℃-55℃；(4)使用超声波对镜片进行清洗；(5)用纯水漂洗去除镜片表面残余的清洗剂；(6)纯水慢拉，在镜片表面形成雾状纯水；(7)使用烤箱对镜片进行烘干、冷却；(8)在密闭环境中采用干燥剂对镜片进行再次烘干以彻底消除镜片表面的水印。本发明通过调整pH值、温度值和采用多次不同类型的烘干方式以及加入纯水慢拉等步骤，使得本发明不但可以对镜片进行彻底的烘干，而且可以在不增加洗涤次数的情况下提高镜片清洗的效果。

Description

镜片加工过程中的清洗工艺
技术领域
本发明涉及一种镜片加工过程中的清洗工艺，特别是涉及一种通过调整PH值和温度值以及采用多次不同类型的烘干方式来增强镜片清洗效果的镜片清洗工艺。
背景技术
光学镜片在各个领域都有着广泛的运用，而且其随者数码相机、摄像头等高科技产品的普及得到了迅速的发展。在光学镜片的加工制造过程中，有一个很重要的环节就是对镜片进行清洗的工艺，其直接影响到制成镜片的质量。
传统的镜片清洗工艺主要包括固定待洗镜片、超声波清洗、纯水漂洗、压缩空气热风烘干、工件下线等步骤。上述各个环节都直接影响到镜片的清洗效果，目前已经针对上述有关步骤做了一些改进，比如，2006年11月29日公开的中国实用新型专利200520063774.5提出了一种镜片清洗治具，其对固定待洗镜片的装置做了改进，使得同时清洗多个镜片时，镜片不会因为相互碰撞而损坏，提高了镜片的清洗效率。再比如，在实际生产过程往往通过增加洗涤次数来提高清洗效果。尽管已经对镜片清洗工艺的有关步骤做了上述的一些改进，但还是存在着一些不足之处，比如，镜片清洗后经常会出现烘干不彻底使得镜片上出现水印以及增加清洗次数后所导致的成本增加。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是，提供一种镜片加工过程中的清洗工艺，其不但可以对镜片进行彻底的烘干，而且可以在不增加洗涤次数的情况下提高镜片清洗的效果。
为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案是：一种镜片加工过程中的清洗工艺，其特征在于，包括以下步骤：(1)使用固定装置将待洗镜片固定；(2)将固定好的镜片放入具有清洗剂的清洗液中；(3)调整清洗液的PH值为7-8之间，温度为45℃-55℃；(4)使用超声波对镜片进行清洗；(5)用纯水漂洗去除镜片表面残余的清洗剂；(6)纯水慢拉，在镜片表面形成雾状纯水；(7)使用烤箱对镜片进行烘干、冷却；(8)在密闭环境中采用干燥剂对镜片进行再次烘干以彻底消除镜片表面的水印。
优选地，所述的镜片加工过程中的清洗工艺的步骤(1)中固定装置与待洗镜片之间为部分接触，使得待洗镜片与清洗液充分接触。
优选地，所述的镜片加工过程中的清洗工艺的步骤(2)中将固定好的镜片首先在清洗液中浸泡10-20分钟。
优选地，所述的镜片加工过程中的清洗工艺的步骤(6)中烤箱对镜片进行烘干时温度控制在40-100℃之间，以防止镜片发生变形。
优选地，所述的镜片加工过程中的清洗工艺的步骤(7)中的干燥剂采用粘土干燥剂。
本发明的优点是，本发明通过调整PH值、温度值和采用多次不同类型的烘干方式以及加入纯水慢拉等步骤，使得本发明所揭示的镜片加工过程中的清洗工艺不但可以对镜片进行彻底的烘干，而且可以在不增加洗涤次数的情况下提高镜片清洗的效果。
附图说明
图1为本发明在密闭环境中采用干燥剂对镜片进行再次烘干的工作状态图。
具体实施方式
为进一步揭示本发明的技术方案，兹结合附图详细说明本发明的
实施方式：
本发明对传统的镜片清洗工艺作了改进，其包括以下步骤：(1)使用固定装置将待洗镜片固定；(2)将固定好的镜片放入具有清洗剂的清洗液中；(3)调整清洗液的PH值为7-8之间，温度为45℃-55℃；(4)使用超声波对镜片进行清洗；(5)用纯水漂洗去除镜片表面残余的清洗剂；(6)纯水慢拉，在镜片表面形成雾状纯水；(7)使用烤箱对镜片进行烘干、冷却；(8)在密闭环境中采用干燥剂对镜片进行再次烘干以彻底消除镜片表面的水印，本步骤中的干燥剂可以采用粘土干燥剂来实现。
在上述的步骤(1)中固定装置与待洗镜片之间应为部分接触，使得待洗镜片与清洗液充分接触，比如，可以通过在待洗镜片的固定装置上使用支架的方式来支撑待洗镜片，而支架与待洗镜片之间为部分接触。在步骤(2)中将固定好的镜片首先在清洗液中浸泡10-20分钟以增强洗涤的效果。在步骤(6)中烤箱对镜片进行烘干时温度控制在40-100℃之间，以防止镜片发生变形。
以下参考图1对本发明中所涉及的步骤(8)进行详细说明：
将经过步骤(7)烘干、冷却后的镜片4摆放在镜片支架2上，然后，将镜片支架2放入密闭空间1中，密闭空间1的底部放置有干燥剂3，存放干燥剂3的空间通过隔板与镜片4所在的空间相通以达到对镜片4做进一步烘干处理的效果。
以上通过对所列实施方式的介绍，阐述了本发明的基本构思和基本原理。但本发明绝不限于上述所列实施方式，凡是基于本发明的技术方案所作的等同变化、改进及故意变劣等行为，均应属于本发明的保护范围。

Claims (5)

1.一种镜片加工过程中的清洗工艺，其特征在于，包括以下步骤：
(1)使用固定装置将待洗镜片固定；
(2)将固定好的镜片放入具有清洗剂的清洗液中；
(3)调整清洗液的PH值为7-8之间，温度为45℃-55℃；
(4)使用超声波对镜片进行清洗；
(5)用纯水漂洗去除镜片表面残余的清洗剂；
(6)纯水慢拉，在镜片表面形成雾状纯水；
(7)使用烤箱对镜片进行烘干、冷却；
(8)在密闭环境中采用干燥剂对镜片进行再次烘干以彻底消除镜片表面的水印。
2.根据权利要求1所述的镜片加工过程中的清洗工艺，其特征在于，所述步骤(1)中固定装置与待洗镜片之间为部分接触，使得待洗镜片与清洗液充分接触。
3.根据权利要求1或2所述的镜片加工过程中的清洗工艺，其特征在于，所述步骤(2)中将固定好的镜片首先在清洗液中浸泡10-20分钟。
4.根据权利要求1或2所述的镜片加工过程中的清洗工艺，其特征在于，所述步骤(6)中烤箱对镜片进行烘干时温度控制在40-100℃之间，以防止镜片发生变形。
5.根据权利要求4所述的镜片加工过程中的清洗工艺，其特征在于，所述步骤(7)中的干燥剂采用粘土干燥剂。
CN 201010269624 2010-08-30 2010-08-30 镜片加工过程中的清洗工艺 Active CN101972756B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 201010269624 CN101972756B (zh) 2010-08-30 2010-08-30 镜片加工过程中的清洗工艺

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 201010269624 CN101972756B (zh) 2010-08-30 2010-08-30 镜片加工过程中的清洗工艺

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101972756A true CN101972756A (zh) 2011-02-16
CN101972756B CN101972756B (zh) 2012-08-15

Family

ID=43572679

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN 201010269624 Active CN101972756B (zh) 2010-08-30 2010-08-30 镜片加工过程中的清洗工艺

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN101972756B (zh)

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102366750A (zh) * 2011-11-21 2012-03-07 沈阳仪表科学研究院 深曲面玻璃反光镜的超声波清洗干燥方法
CN102698981A (zh) * 2012-06-07 2012-10-03 无锡隆基硅材料有限公司 一种切片机清洗的方法
CN103008310A (zh) * 2012-12-26 2013-04-03 西安北方捷瑞光电科技有限公司 一种零疵病光学零件清洗方法
CN103721971A (zh) * 2012-10-15 2014-04-16 江西盛泰光学有限公司 一种自动清洗摄像模的方法
CN104190669A (zh) * 2014-09-09 2014-12-10 盐城市华鸥实业有限公司 一种玻璃仪器清洗方法
CN104785470A (zh) * 2014-01-16 2015-07-22 南昌欧菲光学技术有限公司 一种玻璃清洁方法及清洁装置
CN105032831A (zh) * 2015-06-29 2015-11-11 开平市盈光机电科技有限公司 一种光学镜片的洗涤脱水方法
CN105057259A (zh) * 2015-08-27 2015-11-18 苏州凯锝微电子有限公司 一种防溢流镜片清洗装置
CN105057260A (zh) * 2015-08-27 2015-11-18 苏州凯锝微电子有限公司 一种可加热镜片清洗装置
CN105290071A (zh) * 2015-12-09 2016-02-03 安徽锐富光电科技有限公司 一种手机内屏的清洗方法及其清洗机组
CN105487253A (zh) * 2014-09-16 2016-04-13 陈国良 一种pc镜片加工工艺
CN106881308A (zh) * 2017-03-06 2017-06-23 上海巨煌光电科技有限公司 一种镀膜镜片的清洗方法
CN108043763A (zh) * 2017-12-27 2018-05-18 重庆市华阳光学仪器有限公司 一种望远镜镜片清洗工艺
CN111299233A (zh) * 2019-12-17 2020-06-19 东莞市凯融光学科技有限公司 硫系玻璃镜片的清洗方法
CN111633475A (zh) * 2020-05-18 2020-09-08 中山北方晶华精密光学有限公司 一种口径在4~30mm的软镜片加工方法
CN115318747A (zh) * 2022-08-16 2022-11-11 江西佳鼎光电科技有限公司 一种光学镜片超声波清洗工艺
US20230176258A1 (en) * 2020-06-18 2023-06-08 Luxottica S.R.L. Polarized lens and method for providing a polarized lens

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0523678A2 (en) * 1991-07-16 1993-01-20 Canon Kabushiki Kaisha Washing method
US5368649A (en) * 1992-06-19 1994-11-29 T.H.I. System Corporation Washing and drying method
JP2001102343A (ja) * 1999-09-28 2001-04-13 Sony Corp 半導体ウェーハの洗浄方法
CN1486796A (zh) * 2002-08-28 2004-04-07 Tdk株式会社 晶片电子器件的清洗干燥方法及装置
CN1595552A (zh) * 2004-06-21 2005-03-16 苏州双林电脑器件有限公司 聚焦电位器基片的清洗方法
CN101695700A (zh) * 2009-07-28 2010-04-21 上海明兴开城超音波科技有限公司 一种用于光学镜片镀膜前的超声波清洗机及其处理方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0523678A2 (en) * 1991-07-16 1993-01-20 Canon Kabushiki Kaisha Washing method
US5368649A (en) * 1992-06-19 1994-11-29 T.H.I. System Corporation Washing and drying method
JP2001102343A (ja) * 1999-09-28 2001-04-13 Sony Corp 半導体ウェーハの洗浄方法
CN1486796A (zh) * 2002-08-28 2004-04-07 Tdk株式会社 晶片电子器件的清洗干燥方法及装置
CN1595552A (zh) * 2004-06-21 2005-03-16 苏州双林电脑器件有限公司 聚焦电位器基片的清洗方法
CN101695700A (zh) * 2009-07-28 2010-04-21 上海明兴开城超音波科技有限公司 一种用于光学镜片镀膜前的超声波清洗机及其处理方法

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102366750A (zh) * 2011-11-21 2012-03-07 沈阳仪表科学研究院 深曲面玻璃反光镜的超声波清洗干燥方法
CN102698981A (zh) * 2012-06-07 2012-10-03 无锡隆基硅材料有限公司 一种切片机清洗的方法
CN103721971A (zh) * 2012-10-15 2014-04-16 江西盛泰光学有限公司 一种自动清洗摄像模的方法
CN103008310A (zh) * 2012-12-26 2013-04-03 西安北方捷瑞光电科技有限公司 一种零疵病光学零件清洗方法
CN103008310B (zh) * 2012-12-26 2015-03-11 西安北方捷瑞光电科技有限公司 一种零疵病光学零件清洗方法
CN104785470B (zh) * 2014-01-16 2017-03-15 南昌欧菲光学技术有限公司 一种玻璃清洁方法及清洁装置
CN104785470A (zh) * 2014-01-16 2015-07-22 南昌欧菲光学技术有限公司 一种玻璃清洁方法及清洁装置
CN104190669A (zh) * 2014-09-09 2014-12-10 盐城市华鸥实业有限公司 一种玻璃仪器清洗方法
CN105487253A (zh) * 2014-09-16 2016-04-13 陈国良 一种pc镜片加工工艺
CN105032831A (zh) * 2015-06-29 2015-11-11 开平市盈光机电科技有限公司 一种光学镜片的洗涤脱水方法
CN105057259A (zh) * 2015-08-27 2015-11-18 苏州凯锝微电子有限公司 一种防溢流镜片清洗装置
CN105057260A (zh) * 2015-08-27 2015-11-18 苏州凯锝微电子有限公司 一种可加热镜片清洗装置
CN105290071A (zh) * 2015-12-09 2016-02-03 安徽锐富光电科技有限公司 一种手机内屏的清洗方法及其清洗机组
CN106881308A (zh) * 2017-03-06 2017-06-23 上海巨煌光电科技有限公司 一种镀膜镜片的清洗方法
CN108043763A (zh) * 2017-12-27 2018-05-18 重庆市华阳光学仪器有限公司 一种望远镜镜片清洗工艺
CN111299233A (zh) * 2019-12-17 2020-06-19 东莞市凯融光学科技有限公司 硫系玻璃镜片的清洗方法
CN111633475A (zh) * 2020-05-18 2020-09-08 中山北方晶华精密光学有限公司 一种口径在4~30mm的软镜片加工方法
US20230176258A1 (en) * 2020-06-18 2023-06-08 Luxottica S.R.L. Polarized lens and method for providing a polarized lens
CN115318747A (zh) * 2022-08-16 2022-11-11 江西佳鼎光电科技有限公司 一种光学镜片超声波清洗工艺

Also Published As

Publication number Publication date
CN101972756B (zh) 2012-08-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101972756A (zh) 镜片加工过程中的清洗工艺
CN104259132B (zh) 一种蓝宝石晶片清洗工艺
CN110665927B (zh) 一种激光系统用光学玻璃的无损清洗工艺
CN102649625B (zh) 一种镀膜用玻璃衬底的清洗方法
CN102962226A (zh) 蓝宝石衬底晶片抛光后的清洗方法
CN106547179A (zh) 一种有效去除光阻的方法
CN103949431A (zh) 一种黄材镜片清洗工艺
CN108054236A (zh) 单晶硅片清洗制绒方法
CN103551343A (zh) 一种齿轮清洗工艺
CN106623256A (zh) 一种光学镜头的无损清洗方法
CN115815203A (zh) 红外镜片表面残胶处理方法
CN114733845A (zh) 一种涂墨镜片的超声波清洗工艺
CN114887990A (zh) 胶合镜片超声波清洗工艺
CN114920465A (zh) 光学硫系玻璃镜片清洗后表面印迹的处理方法
CN108565206B (zh) 一种硅片表面助焊剂的清洗方法
CN101502835B (zh) Mocvd设备内石墨基座的清洗方法
CN101787642B (zh) 一种无尘布除尘除离子方法
CN110760849B (zh) 一种不锈钢展柜用抛光液及抛光方法
CN112635374B (zh) 一种晶圆cmp后清洗的搬送方法
CN105470108B (zh) 一种太阳能电池扩散烧焦片的返工处理方法
CN115889350A (zh) 一种去除小型精密不锈钢焊接件内部焊渣和微粒的方法
CN109244012B (zh) 一种用于cmos图像传感器电路清洗的工装及方法
CN103878133B (zh) 一种有效去除陶瓷盘杂质的清洁方法
CN112720887A (zh) 一种籽晶的生产工艺
CN112139147A (zh) 一种用于半导体芯片研磨设备机架加工的材料清洁方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20160128

Address after: 433200 Shenzhen Road, Jingzhou Economic Development Zone, Hubei, No. 55

Patentee after: HUBEI W-OLF PHOTOELECTRIC TECHNOLOGY Co.,Ltd.

Address before: Wujiang City, Jiangsu province 215200 split eight Friendship Song Ling Zhen Industrial Zone

Patentee before: SUZHOU W-OLF PHOTOELECTRIC TECHNOLOGY Co.,Ltd.

CP03 Change of name, title or address
CP03 Change of name, title or address

Address after: 434020 No. 55, Shenzhen Avenue, Jingzhou, Hubei

Patentee after: HUBEI W-OLF PHOTOELECTRIC CO.,LTD.

Address before: 433200 Shenzhen Road, Jingzhou Economic Development Zone, Hubei, No. 55

Patentee before: HUBEI W-OLF PHOTOELECTRIC TECHNOLOGY Co.,Ltd.

PE01 Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right
PE01 Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right

Denomination of invention: Cleaning process during lens processing

Effective date of registration: 20231122

Granted publication date: 20120815

Pledgee: Bank of China Limited Jingzhou Branch

Pledgor: HUBEI W-OLF PHOTOELECTRIC CO.,LTD.

Registration number: Y2023980066734

PC01 Cancellation of the registration of the contract for pledge of patent right
PC01 Cancellation of the registration of the contract for pledge of patent right

Granted publication date: 20120815

Pledgee: Bank of China Limited Jingzhou Branch

Pledgor: HUBEI W-OLF PHOTOELECTRIC CO.,LTD.

Registration number: Y2023980066734

PE01 Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right
PE01 Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right

Denomination of invention: Cleaning process during lens processing

Granted publication date: 20120815

Pledgee: Bank of China Limited Jingzhou Branch

Pledgor: HUBEI W-OLF PHOTOELECTRIC CO.,LTD.

Registration number: Y2024980058390