CN102403016A - 硬盘驱动器、干燥剂 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及硬盘驱动器和用于在保护敏感电子设备的机壳中的干燥剂。一种硬盘驱动器HDD可包括在HDD的机壳内提供诸如抗氧化剂、蒸汽腐蚀抑制剂或助润滑剂的有益蒸气的源的干燥剂装置。所述干燥剂装置吸收所述机壳内的水蒸汽，但不吸收所述机壳内的所述有益蒸气。所述干燥剂装置可包括具有多个微孔的干燥剂，所述微孔在选定的尺寸范围内从而允许水份的吸收但排除所述有益蒸气的吸收。所述干燥剂可以但不必与有益蒸气的源在相同的物理容器内。
Description
技术领域
本发明的实施例总地涉及对保护电子设备的机壳内的气体的特性进行配置。
背景技术
硬盘驱动器(HDD)是一种非易失性存储装置，其容置在保护性机壳中，并在具有磁表面的一个或多个圆盘(盘也可称为碟)上存储数字编码数据。当HDD操作时，每个磁记录盘通过芯轴系统快速旋转。利用通过致动器定位于盘的特定位置之上的读/写头，数据从磁记录盘读出且写入到磁记录盘。
读/写头利用磁场从磁记录盘表面读数据和写数据到磁记录盘表面。由于磁偶极场随着离开磁极的距离快速下降，所以读/写头和磁记录盘表面之间的距离必须得到严格控制。致动器依赖于悬臂作用于读/写头的力来提供磁记录盘旋转时读/写头和磁记录盘表面之间的合适距离。因此，读/写头被称为“飞行”在磁记录盘表面之上。当磁记录盘停止旋转时，读/写头必须“着陆”或从盘表面离开到机械着陆坡道上。由于读/写头飞行得距离磁记录盘表面如此之近，所以HDD内的部件可能对HDD的保护性机壳内的湿气、污染物及其它杂质和缺陷敏感。
为了改善HDD内的部件的操作条件，可以在HDD的保护性机壳内放置化学品。该化学品可提供具有有益特性的蒸气(“有益蒸气”)以改善HDD内的部件的操作。例如，有益蒸气可有助于防止腐蚀、改善润滑性、或抑制污迹的形成。当有益蒸气在HDD内部使用时，需要调节有益蒸气的浓度以向HDD的部件提供最大益处。如果HDD内的有益蒸气的浓度过大，则HDD的保护性机壳内的气体的混合物中的有益蒸气会变得饱和，从而导致有益蒸气凝聚。有益蒸气的凝聚会减小源自有益蒸气的益处并可能干扰HDD的部件的正确操作。
如今的HDD具有非常薄的外涂层和润滑层，并且在读和写头上具有非常薄的保护层或者甚至没有保护层。为了保护高性能驱动器免于腐蚀和其它消积后果，需要控制驱动器中的相对湿度。这在某些HDD中已经通过使用干燥剂实现。
发明内容
已经观察到，当前在硬盘驱动器(HDD)中使用的干燥剂除了水份以外还会吸收有意地引入到HDD内部中的具有有益特性的蒸气(“有益蒸气”)。干燥剂对该有益蒸气的吸收降低了HDD内有益蒸气的浓度，由此减少或消除了有益蒸气对HDD的部件的益处。
本发明的实施例提供一种干燥剂，该干燥剂不吸收诸如HDD的电子设备的保护性机壳内的有益蒸气(诸如抗氧化剂、蒸汽腐蚀抑制剂、或助润滑剂(colubricant))，但是吸收保护性机壳内的水份。此外，本发明的一些实施例提供一种干燥剂，其可用作电子设备内部中的有益蒸气的源。
发明内容部分中讨论的实施例无意建议、描述或教导这里讨论的所有实施例。因此，本发明的实施例可包含除该部分中讨论的特征之外的额外特征或与该部分中讨论的特征不同的特征。
附图说明
本发明的实施例以示例方式而非限制方式示于附图中，附图中相似的附图标记表示相似的元件，其中：
图1是根据本发明的实施例的HDD的平面图；
图2是根据本发明的实施例的头臂组件(HAA)的平面图；
图3是根据本发明的实施例的示范性有机分子的图示，足量的该示范性有机分子可用作有益蒸气的源；以及
图4是根据本发明的实施例的若干示范性干燥剂装置的图示。
具体实施方式
描述了(a)吸收水份且(b)不吸收保护敏感电子设备的机壳内部的有益蒸气的干燥剂的方案。在下面的描述中，出于说明的目的，陈述了很多具体细节以提供对这里描述的本发明的实施例的透彻理解。然而，显然的是，可以实践这里描述的本发明的实施例而没有这些具体细节。在另一些实例中，以框图形式示出公知的结构和器件以避免不必要地模糊这里描述的本发明的实施例。
本发明的示范性实施例的物理描述
本发明的实施例可用于对多种电子设备的保护性机壳内部中的气体的属性进行配置。为了提供具体示例，将参照硬盘驱动器(HDD)描述本发明的特定实施例。然而，根据本发明实施例的干燥剂可用在很多类型的电子设备的内部来配置其中的气体的属性。
根据本发明的实施例，图1中示出HDD 100的平面图。图1示出包括滑块110b的HDD的部件的功能性布置，滑块110b包括磁记录头110a。HDD100包括至少一个头万向组件(head gimbal assembly，HGA)110，HGA 110包括头110a、与头100a附接的引线悬架110c、以及与滑块110b附接的负载梁110d，滑块110b在其远端包括头110a；滑块110b在负载梁110d的远端附接到负载梁110d的万向部分。HDD 100还包括可旋转地安装在芯轴124上的至少一个磁记录盘120以及连接到芯轴124以用于旋转盘120的驱动马达(未示出)。头110a包括分别用于写和读存储在HDD 100的盘120上的信息的写元件和读元件。盘120或多个(未示出)盘可利用盘夹(disk clamp)128固定到芯轴124。HDD 100还包括附接到HGA 110的臂132、台架(carriage)134、音圈马达(VCM)；VCM包括附接到台架134的包括音圈140的转子136以及包括音圈磁体(未示出)的定子144；VCM的转子136附接到台架134并配置来移动臂132和HGA 110以访问盘120的各部分，台架134利用插置的枢轴承组件152安装在枢轴148上。
进一步参照图1，根据本发明的实施例，电信号例如送至VCM的音圈140的电流、送至和来自PMR头110a的写信号和读信号通过柔性电缆156提供。柔性电缆156和头110a之间的互连可通过臂电子(AE)模块160提供，AE模块160可包括用于读信号的板上前置放大器、以及其它读通道和写通道电子部件。柔性电缆156耦接到电连接器组块164，电连接器组块164通过由HDD底壳168提供的电馈通(未示出)提供电通讯。HDD底壳168(也称为铸件，取决于HDD外壳是否为铸造的)与HDD盖(未示出)一起为HDD 100的信息存储部件提供密封的保护性机壳。
再参照图1，根据本发明的实施例，其它电子部件(未示出)，包括盘控制器和伺服电子系统(伺服电子系统包括数字信号处理器(DSP))，向驱动马达、VCM的音圈140和HGA 110的头110a提供电信号。提供到驱动马达的电信号使驱动马达旋转，向芯轴124提供转矩，转矩又传送给通过盘夹128固定到芯轴124的盘120；结果，盘120沿方向172旋转。旋转的盘120产生作为空气轴承的气垫，滑块110b的气垫面(ABS)骑在气垫上从而滑块110飞行在盘120的表面上而不与盘120的其中记录有信息的薄磁记录介质接触。提供给VCM的音圈140的电信号使HGA 110的头110a能够访问其上记录信息的道176。因此，VCM的转子136摆动通过弧180，这使得通过臂132附接到转子136的HGA 110能够访问盘120上的各个道。信息在盘120上存储于多个同心道(未示出)中，道在盘120上布置成扇区，例如扇区184。相应地，每个道由多个扇区道部分(例如扇区道部分188)组成。每个扇区道部分188包括记录的数据和首部(header)，首部包含伺服脉冲串信号图案，例如ABCD伺服脉冲串信号图案、识别道176的信息、以及误差校正码信息。访问到176时，HGA 110的头110a的读元件读取向伺服电子系统提供位置误差信号(PES)的伺服脉冲串信号图案，伺服电子系统控制提供给VCM的音圈140的电信号，使头110a能跟踪道176。发现道176并识别特定的扇区道部分188之后，取决于盘控制器从外部机构例如计算机系统的微处理器接收的指令，头110a或者从道176读数据，或者向道176写数据。
本发明的实施例还包括HDD 100，HDD 100包括HGA 110、可旋转地安装在芯轴124上的盘120、附接到HGA 110的臂132，HGA 110包括包含头110a的滑块110b。
现在参照图2，根据本发明的实施例，示出了包括HGA 110的头臂组件(HAA)的平面图。图2示出HAA关于HGA 110的功能布置。HAA包括臂132和包括滑块110b的HGA 110，滑块110b包括头110a。HAA在臂132处附接到台架134。在HDD具有多个盘(或碟，在本领域中盘有时称为碟)的情况下，台架134称为“E块”或梳，因为台架布置来承载成组的臂的阵列，这赋予台架梳的外形。如图2所示，VCM的转子136附接到台架134且音圈140附接到转子136。AE 160可如所示地附接到台架134。台架134利用插入的枢轴承组件152安装在枢轴148上。
配置电子设备的内部中的气体的特性
本发明的实施例有利地提供一种干燥剂，用于在电子设备(诸如HDD100)内部中使用，该干燥剂不吸收有益蒸气但仍吸收水蒸汽。另外，根据某些实施例的干燥剂可构造为用作有益蒸气的源。这样，本发明的实施例有利地使有益蒸气实现其期望效果而没有由于干燥剂的非故意吸收导致的浓度减小。如果干燥剂设计为用作有益蒸气的源，则干燥剂可包括在HDD 100内部中的单个封装或运送机构内。如果干燥剂不设计为用作有益蒸气的源，则有益蒸气的源可包括在HDD 100内部中的一封装或运送机构内，干燥剂可包括在HDD 100内部中的另一封装或运送机构内。
有益蒸气的类型和源
本发明的实施例可采用不吸收多种有益蒸气的干燥剂。不被根据实施例的干燥剂吸收或影响的有益蒸气可具有很多不同的有益特性，例如有益蒸气可用作HDD 100内部中的抗氧化剂、蒸汽腐蚀抑制剂和/或助润滑剂。
为了提供具体示例，这里的示例中将讨论作为抗氧化剂的有益蒸气，尽管本领域技术人员将理解本发明的实施例可采用任何类型和种类的有益蒸气。多种有机分子可用于产生作为抗氧化剂的有益蒸气。
实施例可用的一类有机分子是受阻酚(hindered phenol)，诸如图3所示的分子。图3示出了基于邻二叔丁基酚(ortho-di-t-butyl phenol)的抗氧化剂，具有将抗氧化剂链接到碳基醇分子的酯官能团。图3所示的分子命名为AO-L35。AO-L35分子是可用作有益蒸气的源的一类分子的非限制性说明示例。有机分子的结构可变化或变更从而提供所需特性，诸如在油中的溶解性或塑性，或者从而降低蒸气压以更长时间地保留材料及其所需特性。例如，在图3所示的有机分子中，附接到酯官能团(-CO2-)的侧链可利用有机化学的标准方法改变。图3的有机分子的类似物可以通过使侧链加长而得到，包括类似侧链的混合物或类似变更。可以关于其它类型的有益蒸气进行类似变更。
在实施例中，包括有机分子的有机材料可用作有益蒸气的源。有机材料可选择来提供具有低但有限的蒸气压的蒸气。用作有益蒸气的源的有机材料可由单一类型有机分子构成，或由若干类型有机分子的混合物构成。
为了在HDD 100中的关键表面诸如磁存储盘或读/写头的表面处提供有机分子的有益效果，有机分子必须作为蒸气从有机分子的源输运到关键表面。蒸气的高浓度可更多地保证蒸气的有益效果将被实现；然而，依赖于有益蒸气的高浓度通常导致有益蒸气的源的快速耗尽。另外，有益蒸气的高浓度通常要求大量的有机材料来提供有益蒸气，这增加了成本和HDD 100内有限空间的消耗。而且，蒸气的高浓度甚至会由于有机材料在滑块上或在头/盘界面处的过量堆积或积聚而导致问题状态。另一方面，过低的蒸气压会妨碍足够的有机材料被传输，由此妨碍有益蒸气实现其预期影响的能力。
在实施例中，在驱动器操作温度下1E-8托(torr)至1E-16托范围内的蒸气压可允许有机材料的某些传输，但不应允许过量堆积。具体蒸气压可取决于多种因素。然而，有机材料的蒸气压是多少有机材料可被HDD 100内的气流输运的主要因素。要影响在表面(诸如磁存储盘或磁/读写头的表面)处发生的过程，一个因素是形成吸附层的能力，已知其依赖于饱和蒸气压分数(fraction of saturation vapor pressure)，表示为P/Po，其中P是在操作温度存在的实际蒸气压，Po是在操作温度的饱和蒸气压。如果在HDD 100内部存在吸收有机材料的器件或材料，则比例P/Po将减小且在关键界面的吸附将受到抑制。因此，根据本发明的实施例的干燥剂配置为不吸收有益蒸气，从而消除了上述问题。
举例来说，如果提供有益蒸气的化学品吸附到诸如活性碳或硅胶的微孔材料中，则蒸气压将通过吸附而被抑制。这是活性碳在空气过滤中起作用的基础。然而，其它材料用作不具有能够抑制蒸气压的孔结构的物理载体。在一实施例中，用作有益蒸气的源的有机材料可混合、吸收、或以其他方式包括在吸收材料中。吸收材料应能包容作为有益蒸气的源的有机材料而不与之反应或显著改变有益蒸气压。这样的吸收材料的非限制性说明示例包括硅藻土、滑石、多孔硅酸钙、膨化PTFE、由气流成网或针刺的小纤维(诸如塑料纤维)形成的无纺布、烧结的不活泼粉料、以及已经被拉伸以提供微孔结构的聚合物材料。在很多情况下，多孔性可根据需要改变，例如气流成网的垫的多孔性可通过碾压以减小纤维之间的空间来改变。制造参数的变化可增加或减少可得的内部体积以及用有益蒸气的源浸渍的容易度。
吸收材料和提供蒸气的有机材料的结合可以以液体或固体的形式形成，诸如粉末、小球、颗粒、以及能够从其散布有益蒸气的任何其它物理形式。结合吸收材料和提供蒸气的有机材料的动机在于所得结合提供了以对蒸气压具有相对小或没有影响的方式输送有益蒸气的便利机制。
干燥剂的成分
本发明的实施例使用的干燥剂应能吸收水和水蒸汽，但不吸收有益蒸气。为实现该功能，干燥剂可具有足够大以吸收水蒸汽但仍排除有益蒸气的孔。例如，干燥剂可具有尺寸为至少0.3纳米但不大于0.5纳米的孔。有利地，具有所述尺寸的孔的干燥剂不促进有益分子的去除或增强对在干燥剂的孔内催化的有益分子反应的破坏。
通常，HDD中使用的干燥剂包括硅胶和活性碳。然而，注意到硅胶可与有益蒸气反应或强烈吸收有益蒸气。另外，AO-L35分子和类似的材料表现出由于暴露于硅胶而被破坏。本发明的实施例可使用具有适于吸收水但不吸收有益蒸气的孔结构的任何物质，诸如沸石。一类可得材料，沸石(Molecular Sieve(分子筛)是其具体商品名)，可制备有均匀的孔。作为制造的一部分，可以控制孔尺寸。这些类沸石以较低的成本批量生产。标明3A的沸石将容易地吸收水蒸汽但排除几乎所有有机分子。
可使用多种封装机构
本发明的实施例可采用多种不同类型的封装机构用于包容(a)干燥剂和(b)吸收材料与提供蒸气的有机材料的组合中的一种或多种。封装机构可由于其机械特性而被选择，或者其可具有有助于产生有益蒸气和/或吸收水蒸汽的特性。在一实施例中，封装机构防止有害的气浮颗粒的传送发源于封装机构的内部或外部。为易于引用，使用根据本发明实施例的干燥剂的封装机构将被称为干燥剂装置。
在一实施例中，有益蒸气的源可物理地位于干燥剂装置内部(以使得有益蒸气扩散出干燥剂装置)。在另一实施例中，有益蒸气的源可覆盖干燥剂装置的外部的全部或部分(例如，有益蒸气的源可应用到干燥剂装置的多孔特氟龙外层)。
图4是描述根据本发明实施例的若干示范性干燥剂装置的图示。如图4所示，干燥剂装置可物理地具体化为多种不同结构，诸如袋、盒以及盆。图4所示的例子不意图描绘干燥剂装置可采用的所有形式，而只是可构造干燥剂装置的几种方式的示例。
如图4所示，袋的容纳物完全被多孔材料包围，而盒或盆是部分无孔的。干燥剂装置的无孔表面可利用塑料材料构造，而干燥剂装置的多孔表面可利用允许有益蒸气分子通过其传输的微孔材料构造。在一实施例中，微孔材料包括至少一层膨化聚四氟乙烯(ePTFE)。
在一实施例中，干燥剂装置的表面的至少一部分(a)允许有益蒸气分子通过其传输且(b)防止有害气浮颗粒通过其传输。由于气浮颗粒(例如源自制造或磨损的金属颗粒)可损害或干扰HDD 100的部件的预期操作，所以干燥剂装置的设计来允许有益蒸气通过的任何部分应构造为防止有害气浮颗粒通过。
干燥剂装置可在HDD 100内部中的任何地方，在该地方干燥剂装置与HDD 100内部的空气空间连通。在一实施例中，干燥剂装置可固定或定位于HDD 100内部中使得当HDD 100运行时干燥剂装置位于气流中。如果干燥剂装置中使用的干燥剂提供HDD 100中的有益蒸气的源，则HDD 100内部中的单个干燥剂装置可用于(a)提供HDD 100的机壳内的有益蒸气以及(b)吸收HDD 100的机壳内的水蒸汽而不吸收机壳内的有益蒸气。另一方面，干燥剂不必配置为提供HDD 100中的有益蒸气(beneficial vapor)的源，因此，在一实施例中，干燥剂和有益蒸气的源(可以是与吸收材料结合的有机材料)单独保持在干燥剂装置中(例如在分开的隔间中)，或者可以包括在不同的封装机构中。
干燥剂装置的说明性示例
现在将给出各种实施例的若干非限制的说明性示例。第一说明性实施例包括使用两个不同的封装机构，这里称为有益蒸气封装机构和干燥剂封装机构。有益蒸气封装机构包括提供用于有益蒸气的源的物质，而干燥剂封装包括干燥剂。在该例子中，有益蒸气封装机构包括被吸收进0.5克的硅藻土中的0.05克的AO-L35。硅藻土容纳在ePTFE构成的壳中。干燥剂封装机构包括0.5克的4A沸石，容纳在相同壳材料构成的壳中。有益蒸气封装机构和干燥剂封装机构二者都位于HDD 100内部中，或者接近或者在远隔的位置处，只要二者都位于HDD 100内部中的气流或与之非常接近。例如，有益蒸气封装机构可远离碟设置在HDD 100的角落中的位置处。干燥剂封装机构可放置在非常靠近碟的凹处。有益蒸气封装机构将向驱动器提供源自AO-L35的有益蒸气，从而抑制氧化性污迹在滑块上的形成，当驱动器运转时这尤其重要。干燥剂封装机构将吸收水蒸汽以控制存储期间的湿度或驱动器运转时渗透进驱动器中的任何水蒸汽。干燥剂封装机构的构造将不减少或消耗由有益蒸气封装机构提供的有益蒸气。
第二说明性实施例包括使用单个封装机构。单个封装机构包括1.0克的3A沸石，其被包含在利用无纺的气流成网的聚乙烯和ePTFE的叠层构造的具有0.65mm厚度的壳材料中。在准备封装机构之后的某个时间点，封装机构被加热且0.05克的温AO-L35被施加到封装机构的ePTFE。在加热降低的粘滞性的促进下，AO-L35将“渗入”叠层的孔中。AO-L35的量不足以妨碍叠层的多孔性，因此水蒸汽将能够通过。经过处理的封装机构可放置在HDD100内部中的任何便利位置中。沸石将吸收存储中以及HDD 100运转时的水蒸汽。封装机构还将向HDD 100的内部提供有益蒸气从而抑制氧化性污迹的形成。
第三说明性实施例包括使用具有一开放侧的单个塑料盒。包括在粗糙粉化的硅酸钙上的AO-L35的原料以1份AO-L35和10份硅酸钙的重量比被制备，混合，且然后分散。0.75克的5A沸石放置到塑料盒中，然后放置0.55克的AO-L35混合物。通过粘接气流成网的无纺聚酯和其上的ePTFE的叠层来密封盒。在HDD 100的组装期间将该盒设置在HDD 100内部中从而向HDD 100内部提供有益蒸气以及吸收其中的水份。
在前述说明中，已经参照在实现方式之间可改变的很多具体细节描述了本发明的实施例。因此，对于本发明是什么以及本发明的申请人意在如何界定本发明的唯一且排他性的描述是本申请以特定形式给出的权利要求书，包括任何后续校正。这里清楚阐述的对权利要求书包含的术语的任何定义应指导这些术语在权利要求中使用时的含义。因此，没有任何未清楚描述于权利要求中的限制、元件、属性、特征、优点和品质应以任何方式限制权利要求的范围。因此，说明书和附图将在示范性而不是限制性的意义上理解。
Claims (20)
1.一种硬盘驱动器，包括：
机壳；
磁记录头；
磁记录盘，可旋转地安装在芯轴上；以及
干燥剂装置，在所述机壳内提供有益蒸气的源，
其中所述干燥剂装置吸收所述机壳内的水蒸汽，且
其中所述干燥剂装置不吸收所述机壳内的所述有益蒸气。
2.如权利要求1所述的硬盘驱动器，其中所述有益蒸气是抗氧化剂、蒸汽腐蚀抑制剂和助润滑剂中的一种或多种。
3.如权利要求1所述的硬盘驱动器，其中所述干燥剂装置包括具有多个微孔的干燥剂，所述微孔在选定的尺寸范围内从而允许水份的吸收但排除所述有益蒸气的吸收。
4.如权利要求3所述的硬盘驱动器，其中所述干燥剂是具有适于吸收水份但不吸收所述有益蒸气的孔结构的沸石。
5.如权利要求3所述的硬盘驱动器，其中所述干燥剂具有至少0.3纳米但不大于0.5纳米的孔结构。
6.如权利要求1所述的硬盘驱动器，其中所述干燥剂装置包括具有多个微孔的干燥剂，所述微孔在选定的尺寸范围内从而允许水份的吸收但排除所述有益蒸气的吸收，且其中所述干燥剂装置包括提供所述有益蒸气的源的物质，其中所述干燥剂不是提供所述有益蒸气的源的所述物质，且其中所述干燥剂和所述物质在所述干燥剂装置内分开保持。
7.如权利要求1所述的硬盘驱动器，其中所述干燥剂装置包括单一物质，该单一物质提供所述机壳内的所述有益蒸气的源，并吸收所述机壳内的水蒸汽，且不吸收所述机壳内的所述有益蒸气。
8.如权利要求1所述的硬盘驱动器，其中所述干燥剂装置包括提供所述有益蒸气的源的物质，其中所述物质是硅藻土、多孔硅酸钙、塑料纤维的气流成网垫、或被拉伸以提供微孔结构的聚合物材料。
9.如权利要求1所述的硬盘驱动器，其中所述有益蒸气的源是形成低但有限的蒸气压的一种或多种有机分子。
10.如权利要求1所述的硬盘驱动器，其中所述一种或多种有机分子中的至少一种是AO-L35。
11.如权利要求1所述的硬盘驱动器，其中所述有益蒸气的源是形成低但有限蒸气压的一种或多种有机分子，且其中所述干燥剂装置包括这样的物质，该物质中包容所述一种或多种有机分子且不与所述一种或多种有机分子反应。
12.如权利要求1所述的硬盘驱动器，其中所述干燥剂装置的表面的至少一部分允许有益蒸气分子穿过其传输且防止有害气浮颗粒穿过其传输。
13.如权利要求1所述的硬盘驱动器，其中所述干燥剂装置的表面的第一部分由塑料材料构成，且所述干燥剂装置的表面的其余部分由微孔材料构成，该微孔材料允许有益蒸气分子穿过其传输且防止有害气浮颗粒穿过其传输。
14.如权利要求13所述的硬盘驱动器，其中所述微孔材料包括至少一层膨化聚四氟乙烯。
15.如权利要求1所述的硬盘驱动器，其中所述干燥剂装置具有一结构，该结构防止源自所述干燥剂装置内部的有害气浮颗粒通过以到达所述干燥剂装置外部。
16.一种硬盘驱动器，包括：
机壳；
磁记录头；
磁记录盘，可旋转地安装在芯轴上；
有益蒸气封装机构，在所述机壳内提供有益蒸气的源；以及
干燥剂装置，该干燥剂装置包括干燥剂，该干燥剂吸收所述机壳内的水蒸汽，且不吸收所述机壳内的所述有益蒸气。
17.如权利要求16所述的硬盘驱动器，其中所述干燥剂装置包括具有多个微孔的干燥剂，所述微孔在选定的尺寸范围内从而允许水份的吸收但排除所述有益蒸气的吸收。
18.如权利要求17所述的硬盘驱动器，其中所述干燥剂是具有适于吸收水份但不吸收所述有益蒸气的孔结构的沸石。
19.如权利要求17所述的硬盘驱动器，其中所述干燥剂具有至少0.3纳米但不大于0.5纳米的孔结构。
20.一种干燥剂，用于在保护敏感电子设备的机壳中使用，其中：
所述干燥剂在保护所述敏感电子设备的所述机壳中提供有益蒸气的源，其中所述干燥剂吸收所述机壳内的水蒸汽，且其中所述干燥剂不吸收所述机壳内的所述有益蒸气。
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| US20120039000A1 (en) | 2012-02-16 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C53 | Correction of patent of invention or patent application | ||
| CB02 | Change of applicant information |
Address after: Amsterdam Applicant after: Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B. V. Address before: Amsterdam Applicant before: Hitachi Global Storage Tech |
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| COR | Change of bibliographic data |
Free format text: CORRECT: APPLICANT; FROM: HITACHI GLOBAL STORAGE TECH TO: HGST NETHERLANDS BV |
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| AD01 | Patent right deemed abandoned |
Effective date of abandoning: 20170829 |
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| AD01 | Patent right deemed abandoned |