CN112470302B - 掩模支撑模板、其制造方法及框架一体型掩模的制造方法 - Google Patents

掩模支撑模板、其制造方法及框架一体型掩模的制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN112470302B
CN112470302B CN201980048804.XA CN201980048804A CN112470302B CN 112470302 B CN112470302 B CN 112470302B CN 201980048804 A CN201980048804 A CN 201980048804A CN 112470302 B CN112470302 B CN 112470302B
Authority
CN
China
Prior art keywords
mask
frame
template
metal film
manufacturing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201980048804.XA
Other languages
English (en)
Chinese (zh)
Other versions
CN112470302A (zh
Inventor
李炳一
李裕进
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Wulaomao Materials Co ltd
Original Assignee
Wulaomao Materials Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from KR1020180122020A external-priority patent/KR101988498B1/ko
Application filed by Wulaomao Materials Co ltd filed Critical Wulaomao Materials Co ltd
Publication of CN112470302A publication Critical patent/CN112470302A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN112470302B publication Critical patent/CN112470302B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P95/00—Generic processes or apparatus for manufacture or treatments not covered by the other groups of this subclass

Landscapes

  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
CN201980048804.XA 2018-08-09 2019-08-05 掩模支撑模板、其制造方法及框架一体型掩模的制造方法 Active CN112470302B (zh)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2018-0092948 2018-08-09
KR20180092948 2018-08-09
KR1020180122020A KR101988498B1 (ko) 2018-10-12 2018-10-12 마스크 지지 템플릿과 그의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
KR10-2018-0122020 2018-10-12
PCT/KR2019/009744 WO2020032513A1 (fr) 2018-08-09 2019-08-05 Gabarit de support de masque, son procédé de fabrication et procédé de fabrication de masque à cadre intégré

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN112470302A CN112470302A (zh) 2021-03-09
CN112470302B true CN112470302B (zh) 2025-05-06

Family

ID=69414943

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201980048804.XA Active CN112470302B (zh) 2018-08-09 2019-08-05 掩模支撑模板、其制造方法及框架一体型掩模的制造方法

Country Status (3)

Country Link
CN (1) CN112470302B (fr)
TW (1) TWI826497B (fr)
WO (1) WO2020032513A1 (fr)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111224019B (zh) * 2018-11-23 2023-05-02 Tgo科技株式会社 掩模支撑模板和其制造方法及掩模与框架连接体的制造方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1534383A (zh) * 2003-03-27 2004-10-06 ����Sdi��ʽ���� 显示装置的沉积掩模及其制造方法
WO2018084448A2 (fr) * 2016-11-03 2018-05-11 주식회사 티지오테크 Plaque mère, son procédé de fabrication, procédé de fabrication de masque, et procédé de dépôt de pixels oled
KR20180054952A (ko) * 2016-11-14 2018-05-25 주식회사 포스코 증착용 마스크 제조방법, 이에 의해 제조된 증착용 마스크 및 이를 이용한 유기 발광 소자 제조방법
KR20180087824A (ko) * 2017-01-25 2018-08-02 주식회사 티지오테크 프레임 일체형 마스크 및 그 제조방법
CN112740437A (zh) * 2018-10-11 2021-04-30 悟勞茂材料公司 掩模支撑模板及其制造方法与框架一体型掩模的制造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005042133A (ja) * 2003-07-22 2005-02-17 Seiko Epson Corp 蒸着マスク及びその製造方法、表示装置及びその製造方法、表示装置を備えた電子機器
JP2005105328A (ja) * 2003-09-30 2005-04-21 Canon Inc マスク構造体の製造方法およびマスク構造体ならびに蒸着装置
CN102971673B (zh) * 2010-07-09 2015-10-07 三井化学株式会社 防护膜组件及用于防护膜组件的掩模粘接剂
KR102082784B1 (ko) * 2014-12-11 2020-03-02 삼성디스플레이 주식회사 마스크 프레임 조립체, 그 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치의 제조 방법
KR102282216B1 (ko) * 2015-02-24 2021-07-27 삼성디스플레이 주식회사 마스크 제조방법
KR102609073B1 (ko) * 2016-11-30 2023-12-05 엘지디스플레이 주식회사 증착용 마스크 및 그 제조방법
KR102838375B1 (ko) * 2017-01-24 2025-07-25 삼성디스플레이 주식회사 전기 도금 마스크, 이를 이용하여 제작된 유기발광 표시장치 및 이의 제작방법
KR101988498B1 (ko) * 2018-10-12 2019-06-12 주식회사 티지오테크 마스크 지지 템플릿과 그의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1534383A (zh) * 2003-03-27 2004-10-06 ����Sdi��ʽ���� 显示装置的沉积掩模及其制造方法
WO2018084448A2 (fr) * 2016-11-03 2018-05-11 주식회사 티지오테크 Plaque mère, son procédé de fabrication, procédé de fabrication de masque, et procédé de dépôt de pixels oled
KR20180054952A (ko) * 2016-11-14 2018-05-25 주식회사 포스코 증착용 마스크 제조방법, 이에 의해 제조된 증착용 마스크 및 이를 이용한 유기 발광 소자 제조방법
KR20180087824A (ko) * 2017-01-25 2018-08-02 주식회사 티지오테크 프레임 일체형 마스크 및 그 제조방법
CN112740437A (zh) * 2018-10-11 2021-04-30 悟勞茂材料公司 掩模支撑模板及其制造方法与框架一体型掩模的制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
TWI826497B (zh) 2023-12-21
CN112470302A (zh) 2021-03-09
WO2020032513A1 (fr) 2020-02-13
TW202020930A (zh) 2020-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN112639156B (zh) 框架一体型掩模的制造方法及框架
CN111261802B (zh) 掩模支撑模板、掩模金属膜支撑模板、掩模支撑模板制造方法及框架一体型掩模制造方法
KR102314852B1 (ko) 마스크 지지 템플릿 및 프레임 일체형 마스크
KR101986528B1 (ko) 마스크 지지 템플릿과 그의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
CN111218644B (zh) 框架一体型掩模的制造方法及框架一体型掩模的掩模分离/替换方法
KR102236538B1 (ko) 마스크의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
CN112740437B (zh) 掩模支撑模板及其制造方法与框架一体型掩模的制造方法
KR102510212B1 (ko) 마스크 지지 템플릿 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
CN111230295B (zh) 框架一体型掩模的制造装置
CN111224019B (zh) 掩模支撑模板和其制造方法及掩模与框架连接体的制造方法
KR101988498B1 (ko) 마스크 지지 템플릿과 그의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
KR102202530B1 (ko) 마스크의 제조 방법, 마스크 지지 템플릿의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
KR102196797B1 (ko) 마스크 지지 템플릿과 그의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
KR102202531B1 (ko) 프레임 일체형 마스크 및 그 제조방법
CN112470302B (zh) 掩模支撑模板、其制造方法及框架一体型掩模的制造方法
CN112740436A (zh) 掩模的制造方法、掩模支撑模板的制造方法及框架一体型掩模的制造方法
KR102028639B1 (ko) 마스크의 제조 방법, 마스크 지지 버퍼기판과 그의 제조 방법
KR20200041240A (ko) 마스크 지지 템플릿과 그의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
CN120776238A (zh) 掩模的制造方法、掩模支撑模板的制造方法及框架一体型掩模的制造方法
KR102404745B1 (ko) 마스크 지지 템플릿 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
KR102026456B1 (ko) 마스크 지지 템플릿과 그의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
KR20200143313A (ko) 마스크 지지 템플릿
KR20230170293A (ko) 마스크 지지 템플릿과 그의 제조 방법

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
CB02 Change of applicant information
CB02 Change of applicant information

Country or region after: Republic of Korea

Address after: Gyeonggi Do, South Korea

Applicant after: Wulaomao Materials Co.,Ltd.

Address before: Gyeonggi Do, South Korea

Applicant before: Wuluomao Materials Co.,Ltd.

Country or region before: Republic of Korea

GR01 Patent grant
GR01 Patent grant