CN112593276A - 一种基于同一陶瓷不同部位金属层不同厚度的镀镍工艺 - Google Patents

一种基于同一陶瓷不同部位金属层不同厚度的镀镍工艺 Download PDF

Info

Publication number
CN112593276A
CN112593276A CN202011430814.0A CN202011430814A CN112593276A CN 112593276 A CN112593276 A CN 112593276A CN 202011430814 A CN202011430814 A CN 202011430814A CN 112593276 A CN112593276 A CN 112593276A
Authority
CN
China
Prior art keywords
nickel plating
different thicknesses
different
ceramic
plating process
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202011430814.0A
Other languages
English (en)
Inventor
康文涛
胡明
张桓桓
柳黎
胡鑫悦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Loudi Antaeus Electronic Ceramics Co ltd
Original Assignee
Loudi Antaeus Electronic Ceramics Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Loudi Antaeus Electronic Ceramics Co ltd filed Critical Loudi Antaeus Electronic Ceramics Co ltd
Priority to CN202011430814.0A priority Critical patent/CN112593276A/zh
Publication of CN112593276A publication Critical patent/CN112593276A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/12Process control or regulation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/16Regeneration of process solutions
    • C25D21/18Regeneration of process solutions of electrolytes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/12Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/48After-treatment of electroplated surfaces
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/54Electroplating of non-metallic surfaces

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Abstract

本发明公开了基于同一陶瓷不同部位金属层不同厚度的镀镍工艺,包括:陶瓷金属镀镍前处理工序、陶瓷金属镀镍工序和陶瓷金属镀镍后处理工序。本发明解决了原有电镀工艺无法做到不同金属化部位,因不同的表面积控制不同厚度镍层的问题,或者需要进行多次电镀才能得到不同厚度的镍层,因此现有技术无法做到批量生产,本发明通过控制电流同时对不同部位进行电镀,得到不同厚度的镍层,因此镀镍前与镀镍后只需对工件进行一次除污除油工序,本发明操作简单、效率高、可批量生产,同时减少了50%的含镍废水的排放。

Description

一种基于同一陶瓷不同部位金属层不同厚度的镀镍工艺
技术领域
本发明涉及陶瓷真空封接技术领域,具体涉及基于同一陶瓷不同部位金属层不同厚度的镀镍工艺。
背景技术
电镀工艺是指在含有预镀金属的盐类溶液中,以被镀基体金属为阴极,通过电解作用,使镀液中预镀金属的阳离子在基体金属表面沉积出来,形成镀层的一种表面加工方法。
原有电镀工艺无法做到不同金属化部位,因表面积不一样造成镍层厚度的不同,对镍层厚度进行控制的问题,现有的对陶瓷金属不同部位的不同厚度需要进行多次电镀,逐一对不同厚度进行电镀,但在电镀过程中工人手接触电镀面时会产生油类污染物,因此电镀另一面前需要对表面污染物进行处理,大大降低了工作效率,无法做到批量生产,同时多次除污工艺造成含镍废水排放量高不利于环保,产品生产成本也大大增加。
发明内容
本发明要解决的技术问题是克服现有技术存在的不足,提供一种可同时对陶瓷金属面不同部位不同厚度镍层进行镀镍的工艺。
为解决上述技术问题,本发明采用以下技术方案:基于同一陶瓷不同部位金属层不同厚度的镀镍工艺,包括:陶瓷金属镀镍前处理工序、陶瓷金属镀镍工序和陶瓷金属镀镍后处理工序。
优选地,所述陶瓷金属镀镍前处理工序包括:挂件上挂具→酸性除油→二级逆流漂洗→活化→去离子水漂洗。
优选地,所述陶瓷金属镀镍工序包括:入镀槽→镀镍。
优选地,所述陶瓷金属镀镍后处理工序包括:镀液一级回收→镀液二级回收→逆流漂洗→二级逆流漂洗→二级纯水洗→烘干。
优选地,所述入镀槽工序包括将同一零件不同厚度的待镀面的阴极导线接入对应的电源负极。
优选地,所述镀镍工序包括按镍层厚度调整电源电流大小。
优选地,所述镍层厚度电流按0.3-0.8A/dm2计算并调节。
与现有技术相比,本发明的优点在于:本发明解决了原有电镀工艺无法做到不同金属化部位,因不同的表面积控制不同厚度镍层的问题,或者需要进行多次电镀才能得到不同厚度的镍层,因此现有技术无法做到批量生产,本发明通过控制电流同时对不同部位进行电镀,得到不同厚度的镍层,因此镀镍前与镀镍后只需对工件进行一次除污除油工序,本发明操作简单、效率高、可批量生产,同时减少了50%的含镍废水的排放。
附图说明
图1为本发明的工艺流程图。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例对本发明作进一步详细说明,显然,所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例,基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
如图1所示,本实施例的基于同一陶瓷不同部位金属层不同厚度的镀镍工艺,包括:陶瓷金属镀镍前处理工序、陶瓷金属镀镍工序和陶瓷金属镀镍后处理工序。
其中,所述陶瓷金属镀镍前处理工序包括:挂件上挂具→酸性除油→二级逆流漂洗→活化→去离子水漂洗。
本实施例中,挂件相当于待镀镍的工件,挂具为阴极导线;酸性除油是指将工件放入5-30%的稀盐酸中清洗除油,二级逆流漂洗是采用从底部分散进水上部排水的方式进行清洗,使待镀镍的工件清洗更干净,活化是把待镀的工件放入5-50%的稀盐酸中静置2-5分钟,用来去除产品表面的氧化层。
其中,所述陶瓷金属镀镍工序包括:入镀槽→镀镍。
其中,所述陶瓷金属镀镍后处理工序包括:镀液一级回收→镀液二级回收→逆流漂洗→二级逆流漂洗→二级纯水洗→烘干。
本实施例中,镀液通过二级回收减少含镍废水排放,达到环保效果。
其中,所述入镀槽工序包括将同一零件不同厚度的待镀面的阴极导线接入对应的电源负极。
其中,所述镀镍工序包括按镍层厚度调整电源电流大小。
其中,所述镍层厚度电流按0.3-0.8A/dm2计算并调节。
本实施例中,调整对应的电源电流控制阴极的镍离子沉积速度,从而达到控制同一个零件不同位置的镍层厚度。
本发明采用控制不同厚度的电流对不同位置不同厚度的金属面进行一次性镀镍,因此,待镀镍工件在镀镍前只有一次镀镍前处理,也只有一次镀镍后处理,相比传统的对不同厚度的金属面需要通过多次镀镍处理,重复镀镍前处理工序-镀镍工序-镀镍后处理工序,本发明具有操作简单、效率高、可批量生产等优点。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,本发明的保护范围并不仅局限于上述实施例。对于本技术领域的技术人员来说,在不脱离本发明技术构思前提下所得到的改进和变换也应视为本发明的保护范围。

Claims (7)

1.一种基于同一陶瓷不同部位金属层不同厚度的镀镍工艺,其特征在于,包括:陶瓷金属镀镍前处理工序、陶瓷金属镀镍工序和陶瓷金属镀镍后处理工序。
2.根据权利要求1所述的基于同一陶瓷不同部位金属层不同厚度的镀镍工艺,其特征在于:所述陶瓷金属镀镍前处理工序包括:挂件上挂具→酸性除油→二级逆流漂洗→活化→去离子水漂洗。
3.根据权利要求1所述的基于同一陶瓷不同部位金属层不同厚度的镀镍工艺,其特征在于:所述陶瓷金属镀镍工序包括:入镀槽→镀镍。
4.根据权利要求1所述的基于同一陶瓷不同部位金属层不同厚度的镀镍工艺,其特征在于:所述陶瓷金属镀镍后处理工序包括:镀液一级回收→镀液二级回收→逆流漂洗→二级逆流漂洗→二级纯水洗→烘干。
5.根据权利要求3所述的基于同一陶瓷不同部位金属层不同厚度的镀镍工艺,其特征在于:所述入镀槽工序包括将同一零件不同厚度的待镀面的阴极导线接入对应的电源负极。
6.根据权利要求3所述的基于同一陶瓷不同部位金属层不同厚度的镀镍工艺,其特征在于:所述镀镍工序包括按镍层厚度调整电源电流大小。
7.根据权利要求6所述的基于同一陶瓷不同部位金属层不同厚度的镀镍工艺,其特征在于:所述镍层厚度电流按0.3-0.8A/dm2计算并调节。
CN202011430814.0A 2020-12-07 2020-12-07 一种基于同一陶瓷不同部位金属层不同厚度的镀镍工艺 Pending CN112593276A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202011430814.0A CN112593276A (zh) 2020-12-07 2020-12-07 一种基于同一陶瓷不同部位金属层不同厚度的镀镍工艺

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202011430814.0A CN112593276A (zh) 2020-12-07 2020-12-07 一种基于同一陶瓷不同部位金属层不同厚度的镀镍工艺

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN112593276A true CN112593276A (zh) 2021-04-02

Family

ID=75191337

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202011430814.0A Pending CN112593276A (zh) 2020-12-07 2020-12-07 一种基于同一陶瓷不同部位金属层不同厚度的镀镍工艺

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN112593276A (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2025008194A3 (en) * 2023-07-03 2025-03-06 Semsysco Gmbh Distribution system for an electric current for different electrolytic surface treatments on at least two different substrate surfaces of a substrate

Citations (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA706871A (en) * 1965-03-30 Cann Leopold Electroplating method and apparatus
US4935108A (en) * 1989-04-28 1990-06-19 Hewlett-Packard Company Apparatus for troubleshooting photoimage plating problems in printed circuit board manufacturing
JPH1161487A (ja) * 1997-08-22 1999-03-05 Mitsui High Tec Inc メッキ方法及びメッキ装置並びにリードフレームの製造方法
US20020020627A1 (en) * 1999-12-24 2002-02-21 Junji Kunisawa Plating apparatus and plating method for substrate
US6773571B1 (en) * 2001-06-28 2004-08-10 Novellus Systems, Inc. Method and apparatus for uniform electroplating of thin metal seeded wafers using multiple segmented virtual anode sources
KR20070095856A (ko) * 2007-09-06 2007-10-01 한봉규 전기 도금시 도금체 고정구의 전류분산방법
US7682498B1 (en) * 2001-06-28 2010-03-23 Novellus Systems, Inc. Rotationally asymmetric variable electrode correction
CN102400195A (zh) * 2011-11-23 2012-04-04 安徽华东光电技术研究所 一种氧化铝陶瓷金属化后的镀镍方法
CN102605397A (zh) * 2011-01-20 2012-07-25 富葵精密组件(深圳)有限公司 电镀系统及电镀方法
CN103060870A (zh) * 2012-12-25 2013-04-24 江苏省宜兴电子器件总厂 一种陶瓷lga封装外壳焊盘选择性电镀工艺
CN106757289A (zh) * 2016-12-23 2017-05-31 贵州黎阳航空动力有限公司 一种提高电镀镍镀层均匀性与一致性的夹具及电镀方法
WO2017197803A1 (zh) * 2016-05-18 2017-11-23 上海交通大学 一种镀件漂洗废水在线资源化的方法
CN108396365A (zh) * 2018-03-27 2018-08-14 台州市宏民环保科技有限公司 一种电镀镍节水及镍回收的方法
CN109136892A (zh) * 2018-10-13 2019-01-04 娄底市安地亚斯电子陶瓷有限公司 一种陶瓷壳体挂镀化学镍的方法
CN111106070A (zh) * 2019-12-04 2020-05-05 中国电子科技集团公司第十三研究所 便于电镀的陶瓷封装外壳及电镀方法
CN115637472A (zh) * 2022-10-27 2023-01-24 中国电子科技集团公司第十三研究所 一种陶瓷组件及其制备方法、陶瓷封装外壳的制备方法

Patent Citations (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA706871A (en) * 1965-03-30 Cann Leopold Electroplating method and apparatus
US4935108A (en) * 1989-04-28 1990-06-19 Hewlett-Packard Company Apparatus for troubleshooting photoimage plating problems in printed circuit board manufacturing
JPH1161487A (ja) * 1997-08-22 1999-03-05 Mitsui High Tec Inc メッキ方法及びメッキ装置並びにリードフレームの製造方法
US20020020627A1 (en) * 1999-12-24 2002-02-21 Junji Kunisawa Plating apparatus and plating method for substrate
US6773571B1 (en) * 2001-06-28 2004-08-10 Novellus Systems, Inc. Method and apparatus for uniform electroplating of thin metal seeded wafers using multiple segmented virtual anode sources
US7682498B1 (en) * 2001-06-28 2010-03-23 Novellus Systems, Inc. Rotationally asymmetric variable electrode correction
KR20070095856A (ko) * 2007-09-06 2007-10-01 한봉규 전기 도금시 도금체 고정구의 전류분산방법
CN102605397A (zh) * 2011-01-20 2012-07-25 富葵精密组件(深圳)有限公司 电镀系统及电镀方法
CN102400195A (zh) * 2011-11-23 2012-04-04 安徽华东光电技术研究所 一种氧化铝陶瓷金属化后的镀镍方法
CN103060870A (zh) * 2012-12-25 2013-04-24 江苏省宜兴电子器件总厂 一种陶瓷lga封装外壳焊盘选择性电镀工艺
WO2017197803A1 (zh) * 2016-05-18 2017-11-23 上海交通大学 一种镀件漂洗废水在线资源化的方法
CN106757289A (zh) * 2016-12-23 2017-05-31 贵州黎阳航空动力有限公司 一种提高电镀镍镀层均匀性与一致性的夹具及电镀方法
CN108396365A (zh) * 2018-03-27 2018-08-14 台州市宏民环保科技有限公司 一种电镀镍节水及镍回收的方法
CN109136892A (zh) * 2018-10-13 2019-01-04 娄底市安地亚斯电子陶瓷有限公司 一种陶瓷壳体挂镀化学镍的方法
CN111106070A (zh) * 2019-12-04 2020-05-05 中国电子科技集团公司第十三研究所 便于电镀的陶瓷封装外壳及电镀方法
CN115637472A (zh) * 2022-10-27 2023-01-24 中国电子科技集团公司第十三研究所 一种陶瓷组件及其制备方法、陶瓷封装外壳的制备方法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
郑强;蔡苇;陈飞;周杰;兰伟;符春林;: "氧化铝陶瓷基板化学镀铜工艺优化", 表面技术, no. 04, pages 212 - 216 *
陈照峰等: "多功能多曲面陶瓷基复合材料预成型体混编技术及应用", 《科技成果》, pages 1 - 3 *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2025008194A3 (en) * 2023-07-03 2025-03-06 Semsysco Gmbh Distribution system for an electric current for different electrolytic surface treatments on at least two different substrate surfaces of a substrate

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1127994A (en) Electroplating aluminium
CN105154958A (zh) 一种磨料有序排列的电镀金刚石砂轮的制备方法
CN103451693A (zh) 一种镍含量稳定的碱性锌镍合金脉冲电镀方法
CN110484919A (zh) 退镀液及其退除含钛膜层的方法、及表面形成有含钛膜层的基材的退镀方法
CN1042843C (zh) 电镀金刚石磨具的制备方法
CN110172717B (zh) 一种陶瓷基板的镀铜方法
CN104419957A (zh) 电镀镍流水线前处理装置
CN112593276A (zh) 一种基于同一陶瓷不同部位金属层不同厚度的镀镍工艺
CN103215574B (zh) 一种镁合金化学镀镍溶液及其镀镍工艺
CN111593376A (zh) 电沉积光亮铜的方法
CN104028716A (zh) 用Ni-Co-W合金电镀液电镀修复镀镍组合式结晶器窄板的方法
CN105839160A (zh) 一种眼镜架的电镀加工工艺
CN107190288B (zh) 一种hedp镀铜无孔隙薄层的制备方法
EP1116804A2 (en) Tin-indium alloy electroplating solution
CN103695876A (zh) 一种化学镀高性能无孔隙镍磷合金的工艺
CN103993344A (zh) 一种电镀金刚石磨轮的制作方法
CN113774441B (zh) 一种铝合金镀层复合材料
CN110484921A (zh) 退镀液及使用该退镀液退除含钛膜层的方法
CN113774366B (zh) 一种铝合金表面镀敷工艺
CN110616448B (zh) 一种电化学预处理-原位电沉积方法
KR101935028B1 (ko) Led 웨이퍼 기판 제조 방법
CN212494306U (zh) 一种超声波热水洗设备
CN1049892A (zh) 二次成型电镀金刚石钻头制造工艺
CN118280888B (zh) 一种晶圆级金属沉积的半导体集成制造系统与方法
CN120174435B (zh) 一种铌钨合金的塑性成形的润滑方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20210402