CN202936627U - 布料加湿装置 - Google Patents

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任小龙
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Abstract

本实用新型公开了一种布料加湿装置,包括水箱和置于所述水箱上方的且转动的加湿辊筒,所述水箱的水位至少超过所述加湿辊筒,所述加湿辊筒上方还是设有与其接触的待加湿布料。加湿辊筒做圆周运动,将水箱中的水引导待加湿的布料上,使其被均匀打湿,便于熨烫,提高熨烫效果。

Description

布料加湿装置
技术领域
本实用新型涉及一种纺织装置,尤其是一种布料加湿装置。
背景技术
    熨烫是纺织工艺中必不可少的一道工序,其目的是为了去除在前面加工过程中产生的皱褶,熨烫过程中需要有高温,但是光靠温度也是不行的,温度过高容易把布料熨焦,只有依靠水分才可以使热能迅速进入纤维内部,实现热量的快速传递,缩短加热时间,降低其屈服强度,减少抗变形能力,并且不会因为温度过高而损害纤维。达到即养护织物又实现熨烫的目的。
    水分能促使纤维分子相互挤压,使纤维组织呈现膨胀、疏松、伸展的状态,借助水分子的润滑作用,使纤维内部大分子容易活动,易于热压塑型,最后达到热定型的目的。熨烫就是利用这个规律,把织物润湿让其膨胀伸展,在热的作用和压力的作用下,将织物迅速干燥,从而把织物的无定型状态 变成了定型状态,达到熨烫整形的目的。在这个过程中,水分是先决的条件,没有水的作用就无法完成。因此说,水分是织物熨烫中的重要因素。
现有技术中通常采用人工加湿的方法,这种加湿的方法需要消耗大量的人力,效力低下;也可以使用机器加湿的方法,但是很难使得水分均匀,不均匀的水不利于熨烫。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是提供一种可加湿而且能够均匀加湿的装置。
为解决上述问题,本实用新型提供了一种布料加湿装置,其包括水箱和置于所述水箱上方的且转动的加湿辊筒,所述水箱的水位至少超过所述加湿辊筒,所述加湿辊筒上方还是设有与其接触的待加湿布料。
作为本实用新型的进一步改进,所述水箱上还设有加水的水管及水位传感器,所述水管上还设有水阀,水箱中水位低于加湿辊筒时,所述水位传感器通知水阀打开,向水箱中注水;水位高于加湿辊筒圆心位置时,水位传感器通知水阀关闭,停止向水箱中注水。
作为本实用新型的进一步改进,所述加湿辊筒上方还设有摩擦轮,所述待加湿布料在所述加湿辊筒和摩擦轮之间。
有益效果:
(1)加湿辊筒做圆周运动,将水箱中的水引导待加湿的布料上,使其被均匀打湿,便于熨烫,提高熨烫效果;
(2)加湿装置上设有水管、水位传感器、水阀,对水位进行精确控制,既能保证布料等工件一直处于被加湿的状态,而且节约了水源,进一步提高了生产效率;
(3)加湿辊筒上方设有摩擦轮,便于将布料等工件夹紧,使得布料等工件充分加湿。
附图说明
图1为本实用新型布料加湿装置的结构示意图
其中:水箱1、待加湿布料2、加湿辊筒3、摩擦轮4、水位传感器5、水管6、水阀7
具体实施方式
如图1所示,本实用新型布料加湿装置包括水箱1和置于所述水箱1上方的且转动的加湿辊筒3,水箱1的水位至少超过所述加湿辊筒3,加湿辊筒3上方还是设有与其接触的待加湿布料2。水箱1上还设有加水的水管6及水位传感器5,水管6上还设有水阀7。加湿辊筒3上方还设有摩擦轮4,待加湿布料2在加湿辊筒3和摩擦轮4之间。
    工作时,待加湿布料2通过加湿辊筒3,加湿辊筒3做圆周运动,将水箱1中的水均匀带至待加湿布料2上,从而打湿待加湿布料2。水箱1上设有加水的水管6及水位传感器5,水管6上还设有水阀7,水箱1中水位低于加湿辊筒3时,所述水位传感器5通知水阀7打开,向水箱1中注水;水位高于加湿辊筒3圆心位置时,水位传感器5通知水阀7关闭,停止向水箱1中注水。从而保证水箱1中水位一直高于加湿辊筒3,加湿辊筒3上方设有摩擦轮4,便于将待加湿布料2夹紧,使其充分加湿。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征及优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界。

Claims (3)

1.一种布料加湿装置,包括水箱和置于所述水箱上方的且转动的加湿辊筒,其特征在于:所述水箱的水位至少超过所述加湿辊筒,所述加湿辊筒上方还是设有与其接触的待加湿布料。
2.根据权利要求1所述的布料加湿装置,其特征在于:所述水箱上还设有加水的水管及水位传感器,所述水管上还设有水阀,水箱中水位低于加湿辊筒时,所述水位传感器通知水阀打开,向水箱中注水;水位高于加湿辊筒圆心位置时,水位传感器通知水阀关闭,停止向水箱中注水。
3.根据权利要求1所述的布料加湿装置,其特征在于:所述加湿辊筒上方还设有摩擦轮,所述待加湿布料在所述加湿辊筒和摩擦轮之间。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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