CN223845780U - 上颌牙齿矫正器 - Google Patents
上颌牙齿矫正器Info
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Abstract
本申请揭示了一种上颌牙齿矫正器,包括壳状矫治器,所述壳状矫治器包括壳状矫治器主体和横颚弓,壳状矫治器主体具有多个牙齿收纳腔;横颚弓至少部分跨越所述壳状矫治器主体的齿弓宽度,所述横颚弓的两端分别连接于所述壳状矫治器主体左右两侧的后牙区舌侧处;所述壳状矫治器佩戴于上颌的牙列上时,所述横颚弓与上颚间隔设置,且所述横颚弓背离上颚的一面构成舌作用面。与现有技术相比,本申请的上颌牙齿矫正器在佩戴于上颌的牙列上后,舌头舔压横颚弓的舌作用面时,横颚弓受压朝向上颚弯曲,两侧内收,从而可以带动壳状矫治器本体的后牙区内收,以对颊倾后牙产生矫治力,使其竖直。
Description
技术领域
本申请涉及一种上颌牙齿矫正器,属于口腔器械技术领域。
背景技术
牙颌畸形是口腔三大疾病之一,有很高的患病率。多数牙颌畸形是在生长发育过程中,由先天的遗传因素或后天的环境因素引起的畸形现象,牙颌畸形对口腔局部甚至全身带来极大的危害,例如影响颌面的发育、影响口腔健康、影响口腔功能、影响容貌外观等,目前患者主要通过外科手术或者佩戴矫治器对牙颌畸形进行矫治。
在应用隐形矫治器进行关闭牙间隙的过程中,尤其是前牙内收的矫治步中,矫治器会对后牙产生不期望的扩弓的力,这将导致后牙发生计划外的颊倾,这在矫治过程中是需要被尽量避免的。
发明内容
本申请的目的在于提供一种上颌牙齿矫正器。
为实现上述申请目的之一,一实施方式提供一种上颌牙齿矫正器,包括壳状矫治器,所述壳状矫治器包括:
壳状矫治器主体,具有多个牙齿收纳腔;
横颚弓,至少部分跨越所述壳状矫治器主体的齿弓宽度,所述横颚弓的两端分别连接于所述壳状矫治器主体左右两侧的后牙区舌侧处;所述壳状矫治器佩戴于上颌的牙列上时,所述横颚弓与上颚间隔设置,且所述横颚弓背离上颚的一面构成舌作用面。
在本申请其中一种实施方式中,所述横颚弓连接于5-7号牙位所对应的牙齿收纳腔的范围内。
在本申请其中一种实施方式中,所述壳状矫治器主体具有与所述横颚弓连接的连接部,所述连接部设于容纳颊倾后牙的牙齿容纳腔处。
在本申请其中一种实施方式中,所述上颌牙齿矫正器包括与逐次的N个矫治步分别对应的N个所述壳状矫治器,N≥2;每个所述壳状矫治器用于把目标施治牙从对应矫治步的初始布局重新定位到该对应矫治步的目标布局;
N个所述壳状矫治器中,所述横颚弓靠近上颚的一侧顶端至其与上颚对应位置处的距离d与对应矫治步的颊倾后牙的初始颊倾角度正相关。
在本申请其中一种实施方式中,所述上颌牙齿矫正器包括与逐次的N个矫治步分别对应的N个所述壳状矫治器,N≥2;每个所述壳状矫治器用于把目标施治牙从对应矫治步的初始布局重新定位到该对应矫治步的目标布局;
N个所述壳状矫治器中,所述横颚弓靠近上颚的一侧顶端至其与上颚对应位置处的距离d与对应矫治步的颊倾后牙的初始个数正相关。
在本申请其中一种实施方式中,所述横颚弓靠近上颚的一侧顶端至其与上颚对应位置处的距离d为3~7mm。
在本申请其中一种实施方式中,所述d为5~7mm。
在本申请其中一种实施方式中,在矢状方向上,所述横颚弓位于所述壳状矫治器主体的后牙区。
在本申请其中一种实施方式中,所述横颚弓呈条状。
在本申请其中一种实施方式中,所述横颚弓与所述壳状矫治器主体的连接宽度≥2mm。
在本申请其中一种实施方式中,所述横颚弓包括本体,所述本体远离上颚一侧靠近上颚中线位置处设置有舌作用部,所述舌作用部朝前牙方向凸伸出所述本体。
在本申请其中一种实施方式中,所述横颚弓包括本体和至少一个折弯部,至少有一个所述折弯部设于所述本体朝向前牙的一端。
在本申请其中一种实施方式中,所述横颚弓包括两个所述折弯部,两个所述折弯部分别设于所述本体朝向前牙的一端和背离前牙的一端,且两个所述折弯部与所述本体形成的开口朝向彼此。
在本申请其中一种实施方式中,所述折弯部呈弧形,且自所述本体矢状向上翻折。
在本申请其中一种实施方式中,所述横颚弓呈弯曲的拱形,其弯曲形状与所对应的上颚轮廓大致相同。
在本申请其中一种实施方式中,所述横颚弓与所述壳状矫治器主体为一体成型结构或分体成型结构。
与现有技术相比,本申请一实施方式的有益效果在于:在上颌牙齿矫正器佩戴于上颌的牙列上后,舌头舔压横颚弓的舌作用面时,横颚弓受压朝向上颚弯曲,两侧内收,从而可以带动壳状矫治器本体的后牙区内收,以对颊倾后牙产生矫治力,使其竖直。
附图说明
图1是本申请一实施例的上颌牙齿矫正器的结构示意图;
图2是本申请一实施例的的上颌牙齿矫正器的示意图及受力形变示意图;
图3是本申请一实施例的上颌牙齿矫正器佩戴于上颌牙列上的结构示意图;
图4是本申请另一实施例的上颌牙齿矫正器佩戴于上颌牙列上的结构示意图,其示意了后牙为颊倾状态下的情况;
图5是本申请一实施例的横颚弓沿矢状方向的截面示意图。
10、壳状矫正器;11、壳状矫治器主体;111、连接部;12、横颚弓;120、舌作用面;121、舌作用部;122、本体;123、折弯部;20、后牙;21、颊倾后牙;30、上颚。
具体实施方式
以下将对本申请进行详细描述。但这些实施方式并不限制本申请,本领域的普通技术人员根据这些实施方式所做出的结构、方法、或功能上的变换均包含在本申请的保护范围内。
本申请一实施方式提供了一种上颌牙齿矫正器,可佩戴于上颌的牙列上,用于对上牙进行矫治。
参看图1至图4,上颌牙齿矫正器包括壳状矫治器10。壳状矫治器10包括壳状矫治器主体11和横颚弓12。壳状矫治器主体11具有多个牙齿收纳腔,用于收纳牙齿。横颚弓12至少部分跨越壳状矫治器主体11的齿弓宽度,横颚弓12的两端分别连接于壳状矫治器主体11左右两侧的后牙区舌侧处;壳状矫治器10佩戴于上颌的牙列上时,横颚弓12与上颚30间隔设置,且横颚弓12背离上颚30的一面构成舌作用面120。
这样,在上颌牙齿矫正器佩戴于上颌的牙列上后,舌头可以舔压横颚弓12的舌作用面120,此时,由于横颚弓12与上颚30间隔设置,也即横颚弓12与上颚30之间具有间隔,横颚弓12受压可以朝向上颚30弯曲,横颚弓12的两侧内收,从而可以带动壳状矫治器本体11的后牙区内收,以对颊倾后牙21产生矫治力,使其竖直。
当然,该上颌牙齿矫正器包括但不限于应用于背景技术所涉及的场景,还可以用于其它可能出现后牙颊倾的场景下。
参看图2,在舌头舔压横颚弓12前,横颚弓12如图2中12所示的形态,在舌头舔压横颚弓12时,横颚弓12受压朝向上颚30弯曲,变形为如图2中12’所示的形态,且两侧内收。
壳状矫治器11壳状矫治器主体11具体可以是聚合物材质通过热压膜成型工艺形成的透明构件,又可以称之为隐形矫治器,其形成容纳牙齿的空腔,其中,该空腔包括多个牙齿容纳腔,多个牙齿容纳腔相互连通且共同形成了该空腔。该空腔具有将患者牙齿从第一布局重新定位到第二布局的几何形态,该空腔的几何形态是基于患者牙齿的第二布局确定,且与与患者牙齿的第二布局基本吻合。
在壳状矫治器10佩戴于牙列上时,壳状矫治器主体11包覆在牙列外部并且透过壳状矫治器主体11可以看见牙列,牙列中的牙齿分别容纳于相应的牙齿容纳腔内。
壳状矫治器主体11划分有前牙区和两侧的后牙区。壳状矫治器主体11的前牙区即对应于牙列中的前牙区;壳状矫治器主体11的后牙区即对应于牙列中的后牙区,而可以理解的,壳状矫治器主体11的两侧的后牙区分为左侧后牙区和右侧后牙区。
此处,术语“前牙区”和“后牙区”根据北京大学医学出版社出版的《口腔医学导论》第2版第36-38页中对于牙齿的分类进行定义,前牙区包括切牙、侧切牙和尖牙,以FDI标记法显示为1-3的牙齿,后牙区包括第一前磨牙、第二前磨牙、第一磨牙、第二磨牙以及第三磨牙,以FDI标记法显示为4-8的牙齿。
另外,矢状面(sagittal plane)是解剖学术语。将人体分切为左右两部分,左右切面就是矢状面,而左右相等的切面被称为正中矢状面。根据2020年公布的医学影像技术学名词,矢状方向为X射线中心线从被检者身体的前方或后方射入,与矢状面平行的方向。
横颚弓12连接于5-7号牙位所对应的牙齿收纳腔的范围内,也即,横颚弓12与壳状矫治器主体11左侧后牙区连接的一端位于左侧后牙区5-7号牙位所对应的牙齿收纳腔处,横颚弓12与壳状矫治器主体11右侧后牙区连接的一端位于右侧后牙区的5-7号牙位所对应的牙齿收纳腔处。壳状矫治器10佩戴于上颌的牙列上后,舌头可以舔压横颚弓12的舌作用面120,使得横颚弓12朝向上颚30弯曲,横颚弓12的两侧内收,与横颚弓12相连接的5-7号牙位所对应的壳状矫治器主体11区域受到相对较大的内收力,因而可以在5-7号牙齿有颊倾的趋势或已经颊倾的情况下,通过舌头作用于横颚弓12,实现对颊倾的矫治。
壳状矫治器主体11具有与横颚弓12连接的连接部111。
参看图4,在有后牙20的牙冠颊倾也即牙冠朝向颊侧倾斜的情况下,连接部111设于容纳颊倾后牙21的牙齿容纳腔处。这样,在已经有后牙20的牙冠颊倾时,通过连接部111设于容纳该颊倾后牙21的牙齿容纳腔处,可以通过舌头施力于横颚弓12,使横颚弓12受压朝向上颚30弯曲,两侧内收,给壳状矫治器主体11提供足够的缩弓力,从而实现对颊倾后牙21的矫治。
在一实施方式中,所述上颌牙齿矫正器包括与逐次的N个矫治步分别对应的N个所述壳状矫治器,N≥2且为自然数。
利用所述上颌牙齿矫正器针对目标施治牙的矫治中,将目标施治牙从初始布局重新定位到目标布局,该整个矫治过程分成N个逐次的矫治步,每一个矫治步将目标施治牙从该矫治步的初始布局重新定位到该矫治步的目标布局。基本上,在N个矫治步中,第M矫治步(1≤M<N)的目标布局即第M+1矫治步的初始布局。
在所述上颌牙齿矫正器中,N个壳状矫治器10分别对应于N个逐次的矫治步。每一个壳状矫治器10用于实现把目标施治牙从对应矫治步的初始布局重新定位到该对应矫治步的目标布局。
在本实施例中,目标施治牙包括但不限于颊倾后牙21。
N个壳状矫治器10中,横颚弓12靠近上颚30的一侧顶端至其与上颚30对应位置处的距离d与对应矫治步的颊倾后牙21的初始颊倾角度正相关,颊倾角度指的是颊倾后牙21与其处于竖直状态时的位置之间沿颊舌侧方向的夹角,初始颊倾角度指对应矫治步的初始布局下颊倾后牙21的颊倾角度。换句话说,在N个矫治步中,若第M+1矫治步的颊倾后牙21的初始颊倾角度小于第M矫治步的颊倾后牙21的初始颊倾角度,则第M+1个壳状矫治器10中的所述d小于则第M个壳状矫治器10中的所述d;其中,第M个壳状矫治器10对应于第M矫治步,第M+1个壳状矫治器10对应于第M+1矫治步。
颊倾后牙21的初始颊倾角度相对较大时,通过设置横颚弓12靠近上颚30的一侧顶端至其与上颚30对应位置处的距离d相对较大,可以使横颚弓12在朝向上颚30运动时具有更大的运动空间,在舌头施力于横颚弓12时,使横颚弓12朝向上颚30的弯曲程度更大,从而可以为壳状矫治器主体11提供更大的缩弓力,为壳状矫治器主体11提供更大的负转矩,从而对颊侧后牙20提供更大的舌向矫治力。
此外,N个壳状矫治器10中,横颚弓12靠近上颚30的一侧顶端至其与上颚30对应位置处的距离d与对应矫治步的颊倾后牙21的初始个数正相关,颊倾后牙21的初始个数指对应矫治步的初始布局下颊倾后牙21的个数。换句话说,在N个矫治步中,若第M+1矫治步的颊倾后牙21的初始个数小于第M矫治步的颊倾后牙21的初始个数,则第M+1个壳状矫治器10中的所述d小于则第M个壳状矫治器10中的所述d;其中,第M个壳状矫治器10对应于第M矫治步,第M+1个壳状矫治器10对应于第M+1矫治步。
颊倾后牙21的初始个数相对较多时,通过设置横颚弓12靠近上颚30的一侧顶端至其与上颚30对应位置处的距离d相对较大,可以使横颚弓12在朝向上颚30运动时具有更大的运动空间,在舌头施力于横颚弓12时,使横颚弓12朝向上颚30的弯曲程度更大,从而可以使壳状矫治器主体11内收的区域面积更大,从而对多个颊侧后牙20提供舌向矫治力。
横颚弓12靠近上颚30的一侧顶端至其与上颚30对应位置处的距离d为3~7mm。d在该范围内,可以使得横颚弓12在朝向上颚30运动时具有足够的运动空间,进而给壳状矫治器主体11提供足够的缩弓力,从而可以对颊倾后牙21产生矫治力。
优选地,横颚弓12靠近上颚30的一侧顶端至其与上颚30对应位置处的距离d为5~7mm。该范围可以使横颚弓12在朝向上颚30运动时为颊倾后牙21提供较强的矫治力。
在矢状方向上,横颚弓12位于壳状矫治器主体11的后牙区。换句话说,左侧4号牙齿(第一前磨牙)与右侧4号牙齿(第一前磨牙)连接形成第一连线,左侧8号牙齿(第三磨牙)与右侧8号牙齿(第三磨牙)连接形成第二连线;在矢状方向上,横颚弓12位于第一连线与第二连线之间。
这样,可以使口腔中具有足够的空间容纳横颚弓12,并确保横颚弓12靠近上颚30的一侧顶端至其与上颚30对应位置处的距离d,还可以避免影响舌头的正常活动。
参看图1至图2,横颚弓12呈条状。横颚弓12需横跨颚部连接两侧后牙20,通过设计横颚弓12呈条状,一方面可以使横颚弓12具有足够的强度,还可以在准确施力的前提下,节约材料用量,降低成本。
参看图2,横颚弓12的形状在咬合面的投影图形为以牙中线L为轴的对称图形。通过对称图形以便实现扩弓力方向一致,有利于扩弓效果一致。
在一实施例中,横颚弓12两端所连接的牙齿收纳腔所对应的牙位一致,以使施加的扩弓力或缩弓力相对称。
横颚弓12呈弯曲的拱形,其弯曲形状与所对应的上腭轮廓大致相同。通过设置横颚弓12呈弯曲拱形,可以使得横颚弓12更具弹力,以便可以施加更强的扩弓力。
横颚弓12与壳状矫治器主体11可以采用一体成型结构或分体成型结构;其中,横颚弓12与壳状矫治器主体11可以为一体压膜成型结构或直接3D打印成型结构,也可以通过卡接、粘接、磁吸等结构分体连接成型。
在一实施例中,横颚弓12与壳状矫治器主体11的连接宽度≥2mm,以使横颚弓12受到的舌头的作用力有效地传导至壳状矫治器主体11,并且可以保证二者的连接强度。
在一实施例中,连接部111邻近其所连接的牙齿收纳腔的龈缘,以便横颚弓12在施力时,传力位置尽量靠近牙根部位,以准确移动牙齿,避免由于传力位置过高而导致牙齿出现颊倾。
横颚弓12包括本体122,本体122远离上颚30一侧靠近上颚30中线位置处设置有舌作用部121,舌作用部121朝前牙方向凸伸出本体122。这样,舌作用部121背离上颚30的一面形成舌作用面120的至少一部分,从而可以给舌头提供更大的作用面,减轻舌肌负担。
结合图5,在一实施例中,横颚弓12包括本体122和至少一个折弯部123,至少有一个折弯部123设于本体122朝向前牙的一端。通过折弯部123可以避免横颚弓12边缘过于尖锐而刮伤舌头,还可以对横颚弓12的强度进行加强。
优选地,横颚弓12包括两个折弯部123,两个折弯部123分别设于本体122朝向前牙的一端和背离前牙的一端,且两个折弯部123与本体122形成的开口朝向彼此。也就是说,两个折弯部123分别设于横颚弓12本体122的矢状前后两端,这样,可以对横颚弓12的矢状前后两端都进行防护设置,避免刮伤口腔。
其中,折弯部123呈弧形,且自本体122矢状向上翻折,从而可以防止折弯部123与舌头接触而刮伤舌头。
综上所述,本申请的有益效果包括:在上颌牙齿矫正器佩戴于上颌的牙列上后,舌头可以舔压横颚弓12的舌作用面120,此时,由于横颚弓12与上颚30间隔设置,也即横颚弓12与上颚30之间具有间隔,横颚弓12受压可以朝向上颚30弯曲,横颚弓12的两侧内收,从而可以带动壳状矫治器本体11的后牙区内收,以对颊倾后牙21产生矫治力,使其竖直。
应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施方式中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
上文所列出的一系列的详细说明仅仅是针对本申请的可行性实施方式的具体说明,它们并非用以限制本申请的保护范围,凡未脱离本申请技艺精神所作的等效实施方式或变更均应包含在本申请的保护范围之内。
Claims (16)
1.一种上颌牙齿矫正器,包括壳状矫治器,其特征在于,所述壳状矫治器包括:
壳状矫治器主体,具有多个牙齿收纳腔;
横颚弓,至少部分跨越所述壳状矫治器主体的齿弓宽度,所述横颚弓的两端分别连接于所述壳状矫治器主体左右两侧的后牙区舌侧处;所述壳状矫治器佩戴于上颌的牙列上时,所述横颚弓与上颚间隔设置,且所述横颚弓背离上颚的一面构成舌作用面。
2.根据权利要求1所述的上颌牙齿矫正器,其特征在于,所述横颚弓连接于5-7号牙位所对应的牙齿收纳腔的范围内。
3.根据权利要求1或2所述的上颌牙齿矫正器,其特征在于,所述壳状矫治器主体具有与所述横颚弓连接的连接部,所述连接部设于容纳颊倾后牙的牙齿容纳腔处。
4.根据权利要求1所述的上颌牙齿矫正器,其特征在于,所述上颌牙齿矫正器包括与逐次的N个矫治步分别对应的N个所述壳状矫治器,N≥2;每个所述壳状矫治器用于把目标施治牙从对应矫治步的初始布局重新定位到该对应矫治步的目标布局;
N个所述壳状矫治器中,所述横颚弓靠近上颚的一侧顶端至其与上颚对应位置处的距离d与对应矫治步的颊倾后牙的初始颊倾角度正相关。
5.根据权利要求1所述的上颌牙齿矫正器,其特征在于,所述上颌牙齿矫正器包括与逐次的N个矫治步分别对应的N个所述壳状矫治器,N≥2;每个所述壳状矫治器用于把目标施治牙从对应矫治步的初始布局重新定位到该对应矫治步的目标布局;
N个所述壳状矫治器中,所述横颚弓靠近上颚的一侧顶端至其与上颚对应位置处的距离d与对应矫治步的颊倾后牙的初始个数正相关。
6.根据权利要求1所述的上颌牙齿矫正器,其特征在于,所述横颚弓靠近上颚的一侧顶端至其与上颚对应位置处的距离d为3~7mm。
7.根据权利要求6所述的上颌牙齿矫正器,其特征在于,所述d为5~7mm。
8.根据权利要求1所述的上颌牙齿矫正器,其特征在于,在矢状方向上,所述横颚弓位于所述壳状矫治器主体的后牙区。
9.根据权利要求1所述的上颌牙齿矫正器,其特征在于,所述横颚弓呈条状。
10.根据权利要求1所述的上颌牙齿矫正器,其特征在于,所述横颚弓与所述壳状矫治器主体的连接宽度≥2mm。
11.根据权利要求1所述的上颌牙齿矫正器,其特征在于,所述横颚弓包括本体,所述本体远离上颚一侧靠近上颚中线位置处设置有舌作用部,所述舌作用部朝前牙方向凸伸出所述本体。
12.根据权利要求1所述的上颌牙齿矫正器,其特征在于,所述横颚弓包括本体和至少一个折弯部,至少有一个所述折弯部设于所述本体朝向前牙的一端。
13.根据权利要求12所述的上颌牙齿矫正器,其特征在于,所述横颚弓包括两个所述折弯部,两个所述折弯部分别设于所述本体朝向前牙的一端和背离前牙的一端,且两个所述折弯部与所述本体形成的开口朝向彼此。
14.根据权利要求12所述的上颌牙齿矫正器,其特征在于,所述折弯部呈弧形,且自所述本体矢状向上翻折。
15.根据权利要求1所述的上颌牙齿矫正器,其特征在于,所述横颚弓呈弯曲的拱形,其弯曲形状与所对应的上颚轮廓大致相同。
16.根据权利要求1所述的上颌牙齿矫正器,其特征在于,所述横颚弓与所述壳状矫治器主体为一体成型结构或分体成型结构。
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| CN202423166531.6U Active CN223845780U (zh) | 2024-12-20 | 2024-12-20 | 上颌牙齿矫正器 |
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2024
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|---|---|---|---|
| GR01 | Patent grant | ||
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