CS163590A3 - Optical recording medium and process for producing thereof - Google Patents
Optical recording medium and process for producing thereof Download PDFInfo
- Publication number
- CS163590A3 CS163590A3 CS901635A CS163590A CS163590A3 CS 163590 A3 CS163590 A3 CS 163590A3 CS 901635 A CS901635 A CS 901635A CS 163590 A CS163590 A CS 163590A CS 163590 A3 CS163590 A3 CS 163590A3
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- layer
- silicon
- recording medium
- optical recording
- protective layer
- Prior art date
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 52
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 title description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 87
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 68
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 37
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 36
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 35
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 31
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 29
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 19
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 12
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 8
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 7
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N azanylidynechromium Chemical compound [Cr]#N CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 claims 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 claims 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 16
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 15
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 13
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 11
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 10
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 9
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- -1 Ethyl tetracyclododecene Chemical compound 0.000 description 7
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 6
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 6
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 6
- GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N terbium atom Chemical compound [Tb] GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 6
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000000788 chromium alloy Substances 0.000 description 5
- DYRBFMPPJATHRF-UHFFFAOYSA-N chromium silicon Chemical compound [Si].[Cr] DYRBFMPPJATHRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 4
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 4
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000005374 Kerr effect Effects 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- 229920001038 ethylene copolymer Polymers 0.000 description 3
- UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N gadolinium atom Chemical compound [Gd] UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 3
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 3
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- 229910001029 Hf alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001257 Nb alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001215 Te alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 2
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N praseodymium atom Chemical compound [Pr] PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 2
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011856 silicon-based particle Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethanone Chemical compound C1CN(CC2=NNN=C21)CC(=O)N3CCN(CC3)C4=CN=C(N=C4)NCC5=CC(=CC=C5)OC(F)(F)F LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQMFQLVAJGZSQS-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-N-(2-oxo-3H-1,3-benzoxazol-6-yl)acetamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)CC(=O)NC1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1 JQMFQLVAJGZSQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 101100422538 Escherichia coli sat-2 gene Proteins 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000927 Ge alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 241000470885 Prometheum Species 0.000 description 1
- 229910001245 Sb alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMVBXBACMIOFDO-UHFFFAOYSA-N [N].[Si] Chemical compound [N].[Si] UMVBXBACMIOFDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXBFBSYDINUVRE-UHFFFAOYSA-N [Ne].[Ar] Chemical compound [Ne].[Ar] JXBFBSYDINUVRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBNNNTZKPYWYBN-UHFFFAOYSA-N [Si+4].[S-2].[Cd+2].[S-2].[S-2] Chemical compound [Si+4].[S-2].[Cd+2].[S-2].[S-2] NBNNNTZKPYWYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- RVYOQIHOUTVEKU-UHFFFAOYSA-N aluminum hafnium Chemical compound [Al].[Hf] RVYOQIHOUTVEKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNTVPKHKFIYODU-UHFFFAOYSA-N aluminum niobium Chemical compound [Al].[Nb] QNTVPKHKFIYODU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002140 antimony alloy Substances 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- CJOBVZJTOIVNNF-UHFFFAOYSA-N cadmium sulfide Chemical compound [Cd]=S CJOBVZJTOIVNNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010410 dusting Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N erbium Chemical compound [Er] UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N holmium atom Chemical compound [Ho] KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N lutetium atom Chemical compound [Lu] OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229920002959 polymer blend Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000009993 protective function Effects 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBFJAVXCNXDMBH-UHFFFAOYSA-N tetracyclo[6.2.1.1(3,6).0(2,7)]dodec-4-ene Chemical compound C1C(C23)C=CC1C3C1CC2CC1 XBFJAVXCNXDMBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/254—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of protective topcoat layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/254—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of protective topcoat layers
- G11B7/2548—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of protective topcoat layers consisting essentially of inorganic materials
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B11/00—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor
- G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B11/00—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor
- G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
- G11B11/105—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
- G11B11/10582—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form
- G11B11/10586—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form characterised by the selection of the material
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/257—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers
- G11B7/2578—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers consisting essentially of inorganic materials
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/243—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising inorganic materials only, e.g. ablative layers
- G11B2007/24302—Metals or metalloids
- G11B2007/24306—Metals or metalloids transition metal elements of groups 3-10
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/257—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers
- G11B2007/25705—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers consisting essentially of inorganic materials
- G11B2007/25706—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers consisting essentially of inorganic materials containing transition metal elements (Zn, Fe, Co, Ni, Pt)
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/257—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers
- G11B2007/25705—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers consisting essentially of inorganic materials
- G11B2007/2571—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers consisting essentially of inorganic materials containing group 14 elements except carbon (Si, Ge, Sn, Pb)
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/257—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers
- G11B2007/25705—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers consisting essentially of inorganic materials
- G11B2007/25713—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers consisting essentially of inorganic materials containing nitrogen
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
Vynález se týká optického záznamového média,'-- „,*0·a způsobúvvyroby >**·'* ./.-. zejména optického záznamového média majícícho ochran-nou vrstvu, která zajišťuje, ze vrstva nepraská, má výtečnéoptické zesilovací účinky a má výtečnou ochrannou funkci prozáznamovou vrstvu, a způsobu výroby optického záznamového mé-dia s takovou ochrannou vrstvou s vysokou pracovní účinnostípro ukládání této vrstvy,, Z optických záznamových médií, u nichž záznam informacena záznamovou vrstvu a reprodukce zaznamenané informace z níse provádějí použitím výkonového paprsku, jako je laser a po-dobně, je známo optické záznamové médium typu umožňujícího pou-ze reprodukci, jako jsou kompaktní diska CD-ROM optické zázna-mové médium typu pro jeden záznam, které je schopno záznamu,ale nikoliv vymazání informace, a optické záznamové médium pře-pisová telného typu, které je schopno volně přepsat informaci* V posledních letech je optické záznamové médium přepisová tel-ného typu zvláště přitěžlivé, poněvadž má výhodu v tom, že jeschopno volného přepisu informace*
Jako optické záznamové médium přepisovatelného typu bylovyvinuto magneticko optické záznamové médium mající magnetickooptickou záznamovou vrstvu, která má magnetickou anisotropiikolmou k povrchu filmu vytvářejícího záznamovou vrstvu, a op-tické záznamové médium se změnou fáze, které používá fázovouzměnu mezi amorfní a krystalickou strukturu* V magnetickooptickéa záznamovém médiu světlo laseruozařuje záznamovou vrstvu, což má za následek otáčení pola-rizační roviny průchozích© světla nebo odraženého světla
I v závislosti na stavu magnetizace, a to na její velikosti a/nebo směru, na ozářené části, a ÍLto s použitím tohoto je-vu, to jest Kerrova účinku a/nebo Faradayova účinku, magne-tickooptické záznamové médium umožňuje reprodukci informace.
Aby zařízení pro reprodukci informace učinilo kompaktním, u-žívá se v současné době s výhodou magneticko-optické záznamo-vé médium typu reprodukujíčího informaci za použití Kerrovajevu, poněva dž je snadnější detekovat rotační úhel, tak zva-ný Kerrův rotační úhel, v polarizační rovině odraženého světla.Přitom, poněvadž čím větší je Kerrův rotační úhel, tím menšíje chyba čtení v době reprodukce informace, byly činěny různépokusy o zvětšení Kerrova rotačního úhlu.
Například japonská zveřejněná patentová přihláška č.56-156 943popisuje složení ochranného filmu mezi magneticko-optickou zázna-movou vrstvou a transparentní podložkou, kde ochranný film obsa-huje transparentní dielektrický film, který pracuje jako zesilo-vací vrstva pro zvýšení Kerrova účinku a tím uskutečňuje zřetel-né zvýšení Kerrova rotačního úhlu. Je známo, že materiál vytváře-jící ochrannou vrstvu obsahující transparentní dielektrický film,který pracuje jako vrstva zesilující Kerrův jev, je vyroben z o-xidů, jako je oxid zirkonu, oxid titanu, oxid vizmutu a oxid kře-míku a neoxidů, jako jsou sulfid kadmia, nitrid křemíku, nitridhliníku, karbid křemíku a sulfid zinku. Neoxidová transparentní dioelektrická vrstva je ve srovnání s oxidovou vrstvou lepšípokud jde o ochranné vlastnosti pro zlepšení odolnosti vůčioxidaci a vůči korozi a takto se očekává, že bude používánajako ochranná vrstva» Ačkoli však transparentní dielektrická vrstva obsahujícínitrid křemíku má dostatečnou funkci jako ochranná vrstva mátato vrstva nevýhody v tom, že index lomu je 1,8 až 2,0 a niž-ší než index lomu dielektrické vrstvy vytvářející materiál dal-ších aeoxidových systémů, jako jsou sirník zinku, sirník kadmiasirník křemíku a podobně a zesilovací účinek Kerrova jevu jenízký.
Pro překonání těchto problémů byla vyvinuta technologie,při níž transparentní dielektrická tenká vrstva obsahuje hlavnísložku nitridu křemíku a třetí složku prvku či prvků jako jsoutitan, zirkon, molybde a podobně se používá jako ochranná a Ker·rův jev zesilující vrstva, což je popsáno v japonské zveřejněnépatentové přihlášce č. 61-22458, odpovídající americkým paten-tům δ. 4 680 742 a 4 851 096·
Jestliže však transparentní dielektrická tenká vrstva,obsahující nitrid křemíku, zahrnuje prvky jako třetí složku,superponovanou na podložce a používanou jako ochranná a Ker-rův jev zesilující vrstva, přinášelo to sebou zvýšenou pravdě-podobnost vzniku prasklin na filmu, čímž se ochranný účinek prozáznamovou vrstvu značně snížil.
Navíc k použití zesilovací vrstvy takového složení nasubstrát byly doposud používány metody, které používají spo-lečné naprašování nitridu křemíku a částic , způsob kterýpoužívá naprašování částic a nitridu křemíku, způsob kterýpoužívá reaktivní společné naprašování křemíku a částic azpůsob, který používá reaktivní naprašování částic na kře-mík. Ovšem jestliže se používá nitrid křemíku, je izolačníschopnost nitridu křemíku vyseká a pokud se používá křemík,je specifický elektrický odpor křemíku vysoký a izolační ten-ká vrstva je uložena na křemíkovou plechu v případě reaktiv-ního naprašování, a proto bylo nezbytné používat vysokofrek-venčního naprašování a naopak bylo nemožné používat stejno-směrného naprašování. Stejnosměrné naprašování je ve srovnánís vysokofrekvenčním naprašováním výhodné pokud jde o rychlostukládání vrstvy a ještě výhodnější pokud jde o pracovní účin-nost ukládáni vrstvy, takže bylo žádoucí vyvinout technologiiukládání ochranné vrstvy stejnosměrným napra šováním* Výše popsané nevýhody dosavadního stavu techniky byly ú-spěšně eliminovány tímto vynálezem*
Odtud je předmětem vynálezu zajistit optické záznamovémédijia, jehož ochranná vrstva má vysokou odolnost vůči korozi,vysoký zesilovací účinek a nevytváří na svém povrchu praskliny.
Dalším předmětem vynálezu je zajištění způsobu výroby optického záznamového média vytvořením takové ochranné vrstva na pod- ležce a/nebo záznamové vrstvy s vysokou účinností za použitístejnosměrného relaktivníhe oprašování,» Vše zmíněného předmětu vynálezu bylo dosaženo optickýmzáznamovým médiem majícím záznamovou vrstvu na podložce a o-chrannou vrstvu na světlo odrážející straně a/nebo světlo pro-pouštějící straně záznamové vrstvy, kde ochranná vrstva zahr-nuje alespoň křemík, chrom a dusíko
Je výhodné, že atomový poměr křemíku a chrómu, zahrnutýchx ' v ochranné vrstvě» je představován Si-, , Cr , kde splňuje pod-minku O, x <k_o,4.
Optické záznamové médium podle vynálezu je zamýšleno prozabránění vzniku prasklinek v ochranné vrstvě a pro zvýšeníochranného účinku ochranné vrstvy a optického zeislovacího ú-činku, poněvadž ochranná vrstva zahrnuje chróm jinak než s kře-míkem a dusíkem,» Výše zmíněný předmět vynálezu je dosažen způsobem výrobyoptického záznamového média vytvořením takové ochranné vrstvyna světlo odrážející straně a/nebo světlo propouštějící stranězáznamové vrstvy, vytvořené na podložce za použití slitiny kře-míku a prvku, zvoleného ze skupiny kovových prvků, polovodivýchprvků a polokovových prvků, majících menší specifický elektrickýodfcor než křemík, s výhodou slitiny křemíku a chrómu, jako ka-tody a v atmosféře smíšeného plynu obsahujícího alespoň intert-ní plyn a plynný dusík N2 se stejnosměrným magnetronovým rozpra- šováním. Slitina» například křemíku s chrómem, umožňuje pou-žití stejnosměrného reaktivního naprašovéní, které nebylo pou-žito pro vytváření vrstvy nitridu křemíku. Výsledkem je dosaže-ní vysoké pracovní účinnosti vytváření ochranné vrstvy. , ě
Vynalez bude dále podrobnji popsán na přiložených výkre-sech, kde na obr. 1 je pohled na řez příkladným provedením o-ptického záznamového média podle vynálezu a na obra 2 je zná-zorněn pohled na řez dalším příkladným provedením optickéhozáznamového média podle vynálezuo
Jak je znázorněno na obr. 1, optické záznamové médium 1podle vynálezu má například strukturu, v níž ochranná vrstva 2a záznamové vrstva £ jsou naneseny na sebe na podložce 2 vezmíněném pořadí. Optické záznamové médium 1 podle vynálezu můžemít například jinou strukturu, v níž je ochranná vrstva vytvo-řena nikoliv mezi podložkou 2 a záznamovou vrstvou £, ale pou-ze. na povrchu záznamové vrstvy £, nebo strukturu, v níž ochran-ná vrstva 3,, záznamová vrstva £ a ochranná vrstva 2. jsou super-ponovány na podložce 2. v tomto sleduo Odrazová vrstva £ a/nebovysokoteplotní vodivá vrstva mohou být vytvořeny na povrchuvsstvy 2., jak je znázorněno na obr. 2, nebo na ochranné vrstvě vytvořené na záznamové vrstvá £„ V příkladných provedeních z obr. 1 a 2 je znázorněno optic-ké záznamové médium 1, které je vytvořeno tak, že paprsek energie, například paprsek laseru, dopadá ze směru šipky & a, měří se změny aptických vlastností světla odraženého do opačného smě- ru· V těchto příkladných provedeních pracuje ochranná vrstva 3, která je vložena mezi podložku 2, a záznamovou vrstvu £ ta- ké jako zesilovací vrstva pro zesílení změn optických vlastností,,
Materiál podložky 2 nemusí být zvláštním materiálem, alevýhodné je použití transparentního materiálu. Jak anorganickémateriály, jako je sklo nebo hliník, tak organické materiály,jako polymetylmetakrylát, polykarbonát, polymerová směs polykar-bonátu a polysterénu a kopolymer etylencykloolefinu, jako ty po-psané v americkém patentu čo 4 814 778, včetně kopolymerů etylénus 1, 4, 5, 8-dimetano-l, 2, 3, 4, 4a, 5, 8, 8a-oktahydronaftalénuči tetracyklododecénu, kopolymery etylénu s 2-metyl-l, 4, 5, 8-dimeta-no-1, 2, 3» 4, 4a, 5» 8, 8a-oktahydronaftalénu či metyltetracyklodo-decénu a kopolymery etylénu se 2-etyl-l, 4, 5» 8-dimetano-l, 2, 3» 4, 4a, 5» 8, 8a-oktahydronaftalénu či etyltetracyklododecénu, poly-4-metyl-l-penténu, epoxidové pryskyřice, polyetersulfonu, polyeteri-midu, kopolymerů etylén tetracyklododecénu, jsou používány ja k·podložky 2.
Materiál záznamové vrstvy 4 nemusí být zvláštním materiálem,ale když je záznamová vrstva 4 vytvořena jako magnetickooptická,je výhodné, obsahuje-li alespoň jeden ze skupiny 3d přechodovýchkovů a alespoň jeden prvek zvolený ze vzácných zemních kovů nebov dalším provedení alespoň jeden zvolený z 3d přechodových kovů a alespoň jeden prvek zvolený ze vzácných zemních kovů a jedenprvek zvolený z vůči korozi odolných kovů# Železo, kobalt, titan, vanad, chróm, nikljř: měň nebo zinekse používají jako 3d přechodové kovy,, Výhodné jsou železo a ko-balt nebo oba dva» Vůči korozi odolné kovy zvyšují odolnost záznamové vrstvyvůči kyselinám» Platina, paladium, titan, zirkon, tantal, molyb-den, nebo podobné se používají jako vůči korozi odolné kovy0Výhodné jsou zvláště platina, paladium nebo titan a nejvýhod-nější jsou platina, paladium nebo oba»
Gadolínium, terbium, dispozium, hclmium, erbium, thulium,yterbium, lutecium, lanthan, cér, praseodym, neodym, proměthdum,samarium nebo auropium se používají jako vzácné zemní prvky a vý-hodné jsou zejména gadolinium, terbium, disproziua, holmium, ne-odym, samarium nebo praseodym»
Když je záznamová vrstva jiná než magneticko optická, napří-klad záznamová vrstva se změnou fáze, je sestavena ze slitinovétenké vrstvy zahrnující jako hlavní složku telur nebo selen adále tenkou vrstvu ze slitiny teluru, germania a antimonu, xsxx případně tenkou vrstvu ze slitiny teluru, germania a chrómu, pří-tenkou pádně vrstvu z teluru, termania a zinku, případně tenkou vrstvuz teluru, antimonu a india, nebo podobně»
Materiál odrazové vrstvy znázorněný na obr, 2, takénení omezený. Lze použít například slitiny niklu, mající te-plotní vodivos 2 J/cm.SoK, platinu, jejíž teplotní vodivostje 0,71 J/cm.SoK, paladium, jehož teplotní vodivostje 0,78 J/cm.s.K, titan, jehož teplotní vodivost je 0,22 J/cm.SoK, kobalt, jehož teplotní vodivost je 0,99 J/cm.SoK, zirkon, jehož teplotní vodivost je 0,23 J/cm.SoK, případně slitiny těchto kovů»
Hliníkové slitiny, jako je slitina hliníku a hafnia, sli-tina hliníku, hafnia a titanu, slitina hliníku, chrómu a titanu,slitina hliníku a niobu, slitina hliníku, chrómu a hafnia, sli-tina hliníku, titanu a niobu, slitina hliníku, hořčíku a hafnia,slitina hliníku, hořčíku a titanu, slitina hliníku, hořčíku ahafnia, slitina hliníku, hořčíku, titanu a hafnia a slitina hliníku,hořčíku a chrómu, se používají jako vysoce tepelně vodivé vrstvy®Obsah kovů jiných než hliník v těchto slitinách je s výhodou 10procent atomové hmotnosti nebo méně®
Ochranná vrstva £ optického záznamového média 1, podle vyná-lezu je sesta véna z tenké vrstvy zahrnující alespoň křemík, chroma dusík. Atomový poměr těchto prvků je představován následujícím vzorcem (Sil—xc 0Γχ)1-ν H v - 10 -
Kde χ splňuje podmínku 0,05 “X “0,4, s výhodou Ql^x .^.0,3a y splňuje podmínku C)/.y^-Qí9 a s výhodou 0,01~y^0^ a ještěvýhodněji 0,2-^y érO,57. Ochranná vrstva i, zahrnující křemík,chrom a dusík v tomto rozsahu, má vysoký ochranný účinek, žádnépraskliny a vyšší optický zesilovací účinek než ochranná vrstvanemající žádný chrom0 Navíc tato ochranná vrstva umožňuje vy-tvářet vrstvu za použití stejnosměrného reaktivního napraševání,která xsxakx nebyla používána pro vytvoření tenké vrstva nitri-du křemíku nezahrnující žádný chrom. Výsledkem toho je zlepšenípracovní účinnosti vytváření ochranné vrstvy Záznamová vrstva £ podle vynálezu má tloušťku s výhodou od5 do 500 am, ještě výhodněji od 10 do 200 no. Ochranná vrstva Jpodle vynálezu má tloušťku s výhodou od 5 do 500 nm, ještě; vý-hodněji od 10 do 300 nm. Způsob vytváření ochranné vrstvy napaíla^ve 2. nebo záznamové vrstvy £ bude popsán v následujícím.
Ochranná vrstva 2 podle vynálezu může být vytvořena reaktiv-ním naprašováním, to jest vysokofrekvenčním reaktivním naprašová-ním či stejnosměrným reaktivním naprašováním směísi s chromovýchčástic na křemíku neb© slitinou křemíku a chrómu v atmosféře smě-si plynů, složené z inzertního plynu a dusíku Ng. Výhodné je je-stliže ©chranná vrstva je vytvořena reaktivním naprašováním sli-tiny křemíku a kovů, majícího menší relativní elektrický odpor,například chrómu, v atmosféře smíšených plynů, složené z inXerníh© 11 plynu a dusíku, kde reaktivní naprašování je s výhodou provádě-no použitím stejnosměrného proudu. Stejnosměrné reaktivní napra-vování je výhodnější něž vysokofrekvenční naprašování pokud jdeo rychlost nanášení vrstvy a pracovní účinnosto Helium, neon»argon, krypton nebo podobně se používají jako in/ertní plyn, při-čemž nejvýhodnější je argon. Způsobem podle vynálezu se stabilnístejnosměrné naprašování provádí použitím slitiny křemíku a chró-mu nebo podobně» Toto může být v důsledku toho, ža doutnavý výbojje stabilizován použitím kovu, majícího menší specifický elektric-ký odpor.
Poměr inertního plynu a dusíku při reaktivním naprašovánípro vytváření ochranné vrstvy je 9 1 až O : 10, s výhodou 7 t 3 až 2 : 8. Záznamová vrstva £ je vytvořena na ochranné vrstvě 2. vytvo-řené na podložce 2 v jednom příkladném provedení tohoto vynálezu#Podle vynálezu je ochranná vrstva J. také vytvořena na záznamovévrstvě £, vytvořené na podložce 2» nebo je také vytvořena na zá-znamové vrstvě která je vytvořena na podložce 2, mající na so-bě ochrannou vrstvu. Navíc může být na povrchu záznamové •Čstvy £nebo ochranné vrstvy vytvořena odrazová vrstva
Podle vynálezu je možné získat optické záznamové médium ma-jící ochrannou vrstvu 3, která má výtečné účinky optického zesílení,vysokou odolnost vůči korozi a žádné prasklinky, poněvadž ve své o-chranné vrstvě zahrnuje kromě křemíku a dusíku i chróm. 12
Podle vynálezu může být ochranné vrstva 2. vytvořena na záznamovévrstvě £ nebo na podložce 2 použitím stejnosměrného reaktivníhonaprašovéní, které by nemohlo být použito pro vytvoření tenkévrstvy křemíkodusíkové bez přídavku chrómu vzhledem k používáníslitinového terčíku křemíkochromového typu jako katody. Výsledkemtoho je, že pracovní účinnost se velmi zvýší»
Vynález bude detailněji popsán podle následujících příkladů.Je však třeba poznamenta, že vynález není žádným způsobem omezenna tyto příklady. Příklad 1 :
Ochranná vrstva 2. zahrnující křemík, chrom a dusík a majícítloušíku asi 100 nm byla vytvořena na kopolymerové podložce ety~lentetracyklododecénu reaktivním naprašováním směsi z částečekchrómu na křemíku, a t© vysokofrekvenčním výkonem 500 W v atmo-sféře směsi plynů argonu 20 SCCM a dusíku Ng 20 SCCM při tlaku0,2 Pa. Atomový poměr křemíku a chrómu byl 67 : 33· Dále byla naochranné vrstvě stejnosměrným magnetronovým rozprašováním za pod-mínek 20 až 50°C a v argonové atmosféře o tlaku 1,33-10-5 Pa vy-tvořena záznamová vrstva s terbia, železa a kobaltu o tloušíceasi 100 nm. Optické záznamové médium 1 bylo získáno vytvořenímochranné vrstvy 2. křemíku, chrómu a dusíku o tloušlce asi 100 nmna záznamové vrstvě?£ týmž způsobem, jaký byl popsán výše. Testživotnosti tohoto optického záznamového média 1 byl proveden je-ho umístěním v atmosféře při 85°C a relativní vlhkosti 85 % nadobu 1 000 hodin. Koercitivní síla se v průběhu testu nemění. 13
S
Optická konstanta a výledek testu na praskliny této ochran-né vrstvy jsou naznačeny v tabulce 1* Optická konstanta ochrannévrstvy byla odměřena elipsometrem při vlnové délce 839 nm0 Testna praskliny ochranné vrstvy vytvořené na podložce byl provedenpřed vytvořením následné záznamové vrstvy a ochranné vrstvy0
Tabulka δ. 1 :
Index lomu Praskliny na vrstvě Příklad 1 2o2 0 Příklad 2 2o2 0 Příklad 3 2O2 0 Srovnávací příklad 2 2O2 X Srovnávací příklad 3 2©2 X Srovnávací příklad 4 2o0 X Srovnávací příklad 5 2©1 X Srovnávací příklad 6 1.9 X Srovnávací příklad 7 2©2 X Srovnávací příklad 7 2©2 X
Ve sloupci praskliny vrstvy O znamená, že nebyly zjištěny žádnépraskliny -a x znamená, že se ve vrstvě objevily praskliny© Příklad 2 :
Optické záznamové médium 1 bylo získáno vytvořením ochrannýchfilmů z křemíku, chrómu a dusíku jak na podložce 2, tak na zázna-mové vrstvě £ tímtéž způsobem, jak bylo popsáno v příkladu 1, s výjimkou toho, že na místě katody byl použit sintrující slitinovýterčík z křemíku a chrómu při chrómu 20 a tm %o Atomový poměr kře-míku a chrómu v ochranných vrstvách byl 80 : 100. 14
Koercitivní síla Hc se v testu životnosti podobném příkladu1 neměnila* Optická konstanta ochranné vrstvy 2 a výsledek tes-tu na praskliny jsou rovněž uvedeny v tabulce 1.
Referenční příklad : Před vytvářením optického záznamového média 1 byly provedenynásledující testy týkající se stejnosměrného reaktivního napra-šování·
Test 1 : po vyčerpání komory na tlak nižší než 1,33.10-3 Pabylo provedeno stejnosměrné reaktivní naprašovéní, přičemž se ja-ko katody použilo slitinového, 101,6 mm velikého terčíku z křemí-ku a chrómu ve složení křemík 80, chrom 20, s přiloženým stejno-směrným výkonem 300 Vž v atmosféře směsi plynů, a to argonu 20 SCCM a a dusíku 20 SCCM. Bylo zjištěno, aby doutnavý vývoj byl za těchtopodmínek stabilní*
Test 2 : dále poté co se tlak v komoře vrátil na hodnotu ataosférického tlaku zavedením vzduchu do něj a byl opět pod hodnotou1,33.10-3 Pa, bylo provedeno stejnosměrné reaktivní naprašovénízpůsobem podobným, jako byl popsán výše. Opět bylo zajištěno, abydoutnavý výboj byl stabilní* Příklad 3 :
Po vyčerpání komory na tlak pod 1,33.10-3 Pa bylo provedenostejnosměrné reaktivní naprašovéní za použití slitinového terčíku 15 z křemíku a chrómu při složení křemík 80, chrom 20 a velikosti101,6 mm jako katody s přiloženým stejnosměrným výkonem 300 Wv atmosféře ze směsi plynů, a to argonu 20 SCCM a dusíku 20 SCCMo tlaku 0,2 Pa pro uložení ochranné vrstvy 2 z křemíku, chrómu adusíku o tlousrce přibližně 100 nm na kopolymerovou podložku etyl-entefcracyklododecénuo Dále byla na ochranné vrstvě J vytvořena stejnosměrným magne-tronovýa napravováním slitinového terčíku z tybia, železa a kobal-tu za teploty 20 až 50°C a tlaku l,33®10-5 Pa v argonové atmosféřezáznamová vrstva 4 z železa a kobaltu s tloušťkou asi 100 nmo Pakse získalo optické záznamové médium 1 vytvořením ochranné vrstvy 2z křemíku, chrómu a dusíku vťLoušíce a si 100 nm na záznamové vr-stvě £ podobně, jak bylo popsáno výše» Atomový poměr křemíku achrómu ochranné vrstvy 2 byl 80 : 20»
Bylo^f zajištěno, aby doutnavý výboj byl stabilní v průběhuukládání ochranné vrstvy» Koercitivní síla Hc se v průběhu testuživotnosti podobně jako u příkladu 1 neměnila,, Optická konstantaochranné vrstvy a výsledek teatu na praskliny jsou rovněž uvedenyv tabulce 1. Příklady 4 až 9 :
Optické záznamové médium 3. bylo získáno tímtéž způsobem jakov příkladu 3, ale rychlost toku směsi plynů argonu a dusíku bylaměněna» — 16 a
Rychlost toku plynů, rychlost vy tváření?* každá optická kon- stanta ochranných vrstev J, jsou vyjmenovány v tabulce 2* • Tabulka So 2 : Terčík Výkon Plyn Rychlost Index Praskliny (Wss) (SCCti) nanášení lomu na vrstvě Ar N2 vrstvy Příklad 4 Si8oCr2o (slitinový terčík) 300 20 20 105 2*2 0 Příklad 5 tentýž 300 36 4 128 3o7 0 Příklad 6 tentýž 300 28 12 121 2.7 0 Příklad 7 tentýž 300 24 16 109 2*3 0 Příklad 8 tentýž 300 16 24 97 2*3 0 Příklad 9 tentýž 300 12 28 72 2*2 0 Ve sloupci praskliny vrstvy 0 znamená , že nebyly zjiš tšny žádné praskliny*
Srovnávací příklad 1 :
Vytváření ochranné vrstvy J, bylo zkoušeno za použití pouze kře-míkového terčíku jako katody, a to za těchže podmínek jako v příkladu3, ale výboj nebyl stabilní a ochranné vrstva 2 nemohla být vytvořena*
Srovnávací příklad 2 :
Optické záznamové médium 1 bylo získáno vytvořením ochrannýchvrstev 3 jak na podložce 2, tak na záznamové vrstvě 4 za těch pod- 17 jako v příkladu 1, s výjimkou toho, že se použila směs» kde nakřemíkové® terčíku byly uloženy částice ? molybdenu,. Výsledek jenaznačen v tabulce 1.
Srovnávací příklad 3 :
Optické záznamové médium 1 bylo získáno vytvořením ochran-ných vrstev 2 na podložce 2 i na záznamové vrstvě 4 za těchžepodmínek jako u příkladu 1, s výjimkou toho, že se použila směs,kde na křemíkovém terčíku byly uloženy Částice neodymu. V^Ledekbyl zaznamenán v tabulce 1.
Srovnávací příklad 4 :
Optické záznamové médium 1 bylo získáno vytvořením ochran-ných vrstev 3 jak na podložce 2., tak na záznamové vrstvě 4 zatěchže podmínek jako v příkladu 1, s výjimkou toho, že se použi-la směs, kde na křemíkovém terčíku byly uloženy částice týbia.Výsledek je uveden v tabulce 1.
Srovnávací příklad 5 :
Optické záznamové médium 1 bylo získáno vytvořením ochran-ných vrstev 2. jak na podložce 2, tak na záznamové vrstvě 4 zatěchže podmínek jako v příkladu 1, s výjimkou toho, že byl po-užit křemíkový terčík, na němž byly uloženy částice gadolínia»Výsledek je naznačen v tabulce 1. — 18 —
Srovnávací přiklad 6 :
Optické záznamové médium 1 bylo získáno vytvořením ochran-ných vrstev 2 jak πθ podložce 2, tak na záznamové vrstvě J. zatěchže podmínek jako v příkladu 1, s výjimkou použití složenéhoterčíku, kde na křemíkovém terčíku byly uloženy částice kobaltUoVýsledek je zaznamenán v tabulce 1.
Srovnávací příklad 7 :
Optické záznamové médium 1 bylo získáno vytvořením ochran-jak ných vrstev na podložce 2., tak na záznamové vrstvě £ za těchžepodmínek jako v příkladu 1, s výjimkou použití složeného terčí-ku, kde na křemíkovém terčíku byly uloženy částice tybia. Ato-mový poměr křemíku a tybia v ochranné vrstvě byl 69 : 31« Vý-sledek je zaznamenán v tabulce lo
Srovnávací příklad 8 :
Optické záznamové médium 1 bylo získáno vytvořením ochran-ných vrstev 2. jak na podložce 2, tak na záznamové vrstvě £ zatěchže podmínek jako v příkladu 1, s výjimkou použití sleženéhoterčíku, kde na křemíkovém terčíku byly uloženy částice zirkonu.Atomový poměr křemíku a zirkonu v ochranné vrstvě 2 byl 92 _£ 8oVýsledek byl zaznamenán v tabulce 1.
Je zjištěno, že ochranné vrstvy 3 v příkladech 1 až 3 majíméně případů prasklin než ty ve srovnávacích příkladech 1 až 8 19 a mají vysoký lom a jsou použity buS pro ochrannou vrstvunebo optickou zesilovací vrstvu,.
Claims (5)
- v-- 4:'/Μ?TTift-':;“Uv*Vj./í-V··- ·,· - 20 PATENTOVÉ ' v· ’.: 1' i '.' // < -;'J ‘ j ·/ >11. Optické záznamové medium, obsahující podložku, záznamovouvrstvu uspořádanou na podložce a ochrannou vrstvu,vyznačující se tím , že reaktivně napařenáochranná vrstva je uspořádána na světlo odrážející straněa/nebo na světlo propouštějící straně záznamové vrstvy,přičemž ochranná vrstva obsahuje alespoň křemík, chroma dusík.
- 2. Optické záznamové medium podle nároku 1, vyznačují-cí se tím , že poměr atomů křemíku a chrómuobsažených v ochranné vrstvě je vyjádřen vzorcem Si - Cr ., 7 “ X * kde x splňuje podmínku 0,05<x<0,4.
- 3. Optické záznamové medium podle nároku 1 nebo 2, vyzna-čující se tím , že záznamová vrstva sestává z magneticko-optické záznamové vrstvy s jednoosou magnetickouanisotropií kolmou k povrchu vrstvy vytvářející záznamovouvrstvu.
- 4. Optické záznamové medium podle kteréhokoliv z nároků 1 až 3,vyznačující se tím , že záznamová vrstvasestává z vrstvy o tloušťce od 5 do 500 nm obsahujícízáznamový materiál.
- 5. Způsob výroby optického záznamového media, vyznaču-jící se tím , že na podložku a/nebo záznamovouvrstvu se nanese ochranná vrstva tak, že se připraví katoda,obsahující slitinový terč z křemíku a alespoň jednoho prvku,vybraného ze skupiny kovových, polokovových a polovodivýchprvků, který má menší specifický elektrický odpor než křemíka potom se provede stejnosměrné magnetronové napařování v atmosféře směsi plynů, která obsahuje alespoň některýinertní plyn a dusík.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1087306A JPH02265051A (ja) | 1989-04-06 | 1989-04-06 | 光記録媒体 |
| JP1087307A JPH02265052A (ja) | 1989-04-06 | 1989-04-06 | 光記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS163590A3 true CS163590A3 (en) | 1992-06-17 |
Family
ID=26428598
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS901635A CS163590A3 (en) | 1989-04-06 | 1990-04-03 | Optical recording medium and process for producing thereof |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0391423A3 (cs) |
| KR (1) | KR900016972A (cs) |
| CN (1) | CN1046226A (cs) |
| CA (1) | CA2013867A1 (cs) |
| CS (1) | CS163590A3 (cs) |
| RU (1) | RU1838830C (cs) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2254620B (en) * | 1991-03-25 | 1994-10-05 | Kobe Steel Ltd | Manufacturing method of magnetic disk |
| US5328813A (en) * | 1992-06-30 | 1994-07-12 | The Dow Chemical Company | Method for the preparation of optical recording media containing overcoat |
| US6660451B1 (en) * | 1999-06-18 | 2003-12-09 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical information recording medium |
| TW527592B (en) | 2001-03-19 | 2003-04-11 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Optical information recording media, and the manufacturing method and record regeneration method of the same |
| JP4198918B2 (ja) * | 2002-02-14 | 2008-12-17 | 日鉱金属株式会社 | 硫化亜鉛を主成分とするスパッタリングターゲット及び該スパッタリングターゲットの製造方法 |
| TW200401237A (en) * | 2002-07-05 | 2004-01-16 | Lintec Corp | Laminate sheet, laminate sheet roll, and producing methods therefor |
| JP2005251279A (ja) | 2004-03-03 | 2005-09-15 | Nec Corp | 光学的情報記録媒体及びその製造方法 |
| CN101794598A (zh) * | 2010-01-27 | 2010-08-04 | 东莞宏威数码机械有限公司 | 单面双层光盘及其制造方法 |
-
1990
- 1990-04-03 CS CS901635A patent/CS163590A3/cs unknown
- 1990-04-04 CA CA002013867A patent/CA2013867A1/en not_active Abandoned
- 1990-04-04 KR KR1019900004628A patent/KR900016972A/ko not_active Abandoned
- 1990-04-05 RU SU904743567A patent/RU1838830C/ru active
- 1990-04-05 EP EP19900106554 patent/EP0391423A3/en not_active Withdrawn
- 1990-04-06 CN CN90102003A patent/CN1046226A/zh active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1046226A (zh) | 1990-10-17 |
| KR900016972A (ko) | 1990-11-15 |
| CA2013867A1 (en) | 1990-10-06 |
| EP0391423A3 (en) | 1991-08-28 |
| EP0391423A2 (en) | 1990-10-10 |
| RU1838830C (ru) | 1993-08-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0406569B1 (en) | Optical recording medium | |
| US5738765A (en) | Magneto-optic memory device | |
| JP2551403B2 (ja) | 光磁気記録素子 | |
| CS163590A3 (en) | Optical recording medium and process for producing thereof | |
| EP0327257B1 (en) | Magneto optic recording medium with silicon carbide dielectric | |
| JPH0325737A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| US4640860A (en) | Optical recording coating | |
| EP0410575B1 (en) | Magneto optic recording medium with hydrogenated silicon carbide dielectric | |
| US5019462A (en) | Sheet-like, multilayer magneto-optical recording material | |
| JPH02265052A (ja) | 光記録媒体の製造方法 | |
| JP2558011B2 (ja) | 磁気光学記憶媒体 | |
| EP0388852B1 (en) | Magneto-optical recording medium and process for production of the same | |
| JPH02265051A (ja) | 光記録媒体 | |
| JPH02105351A (ja) | 光記録媒体 | |
| JPH0461045A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH02261822A (ja) | 光記録媒体およびその製造方法 | |
| KR100194131B1 (ko) | 광학 기록 매체 | |
| EP0275189B1 (en) | Stable magneto optic recording medium | |
| JPH02128346A (ja) | 光磁気デイスク | |
| JPH02260253A (ja) | 光記録媒体およびその製造方法 | |
| JP2743088B2 (ja) | 光磁気記録素子 | |
| JP3205921B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPS62298954A (ja) | 光磁気デイスク | |
| KR100209583B1 (ko) | 단파장용 광자기 디스크 | |
| JPH04263143A (ja) | 光磁気記録媒体 |