CS240510B1 - Sposob čistenia etylénu a žariadenie na jeho uskutočňovanie - Google Patents

Abstract

Vynález rieši spósob a žariadenie na čistenie etylénu získaného desorpciou z acetónu v procese vydelovania etylénu z pyrolýznych plynov pomocou absorpcie v ocetóne, obsahujúceho aceton ako hlavnú nežiadúcu látku, vypieraním.

Description

Vynález rieši sposob a zariadenie na čistenie etylénu, získaného desorpciou z acetónu v procese vydelovania etylénu z pyrolýznych plynov pomoeou absorpcie v acetone, obsahujúceho aceton ako hlavnú nežiadúcu látku, vypieraním.

Etylén, vyrábaný vysokoteplotnou pyrolýzon benzínu s bodom varu 30 až 130 °C a/ /alebo ropných frakcii s bodom varu 130 až 450 °C a/alebo benzínu s bodom varu 30 až 130 °C s prídavkom propán-butánových zmesi a/alebo· s prídavkom zmesi C₄ frakcie, sa získává z mnohozložkovej plynnej zmesi buď parciálnou nízkoteplotnou kondenzáciou a rektifikáciou po predchádzajúcom oddělení acetylénu a oxidu uhličitého absorpciou v acetone alebo sa získává v nadvazujúcej absorpčno-desorpčnej sústave s použitím ďalšieho acetónu ako absorpčného činidla.

V obidvoch prípadoch, ale najmá pri získávání etylénu v· nadvazujúcej absorpčno-desorpčnej sústave, etylén obsahuje okrem metánu a etánu ako nežiadúcich látok aj aceton, ktorého obsah třeba znížiť na minimálnu mieru, jednak z hradiska požiadaviek na čistotu etylénu při jeho ďalšom spracovaní a jednak z hladiska požiadavky hospodárnosti na minimalizáciu strát acetónu, používaného na absorpciu.

Pri výrobě etylénu nízkoteplotnou parciálno*u kondenzáciou a rektifikáciou aceton prechádza sústavou kondenzátorov a tepelných výmenníkov spolu s etylénom vo formě nekondenzujúcej hmly, takže týmto· sposobom získaný etylén obsahuje značné množstvo acetónu aj napriek predchádzajúcemu hlbokému ochladeniu. Príemerný obsah acetónu v etyléne je 300 ppm a pri vyššom zatažení výrobného zariadenia sa jeho obsah zvyšuje až na hodnotu blízku 0,1 % mól., čo je hodnota nepřijatelná pre výrobu kvalitného vinylchloridu. Obsah acetónu v etyléne, získavanom pomoeou absorpcie v ďalšom acetone spósobml, popísanými v čs. autorskom osvedčenie č. 211 020 alebo v čs. autorskom osvedčenie č. 232 632, závisí hlavně od teploty a tlaku etylénu po desorpcii z acetonu. Táto teplota sa obvykle pohybuje v rozmedzí 256 až 240 K pri tlaku okolo 0,8 MPa. '

Obsah acetónu rovnako, ako v predchádzajúcom nízkoteplotnom vydělovaní etylénu, převyšuje aj pri tomto spósobe teoretické množstvo·, vypočítané zo stavových podmienok a príslušnej tenzie pár acetónu a obvykle je vyšší ako 0,5 '% mól.

Etylén vyrobený uvedenými spósobmi, sa používá najmá na výrobu vinylchloridu cez

1,2-dichlóretán. Z hladiska tohto použitia vyplývajú aj přísné požiadavky na čo· najnižší obsah acetónu v etyléne, nakoíko pri syntéze 1,2-dichlóretánu chloráciou etylénu, obsahujúceho aceton a připadne vodu, sa vytvárajú látky, jednak nežiadúce pre syntézu 1,2-dichlóretánu a jednak látky, zdravotně závadné a nebezpečné.

Okrem toho vznikajú chlórované zlúčeniny acetónu, ktoré potom prechádzajú až do monoméru vinylchloridu. Ich obsah už v stopových množstvách sťažuje suspenznú polymerizáciu vinylchloridu, najmá výrobu náročných mikroporéznych typov suspenzného· polyvinylchloridu. To sú stručné uvedené hlavně dóvody, pre ktoré sa kladie přísná požiadavka na zníženie obsahu acetónu vo· vyrábanom etyléne.

Pri doterajších spůsoboch odstraňovania acetónu z etylénu sa využívá buď ochladenie a stlačenie etylénu s následujúcou adsorpciou na různých adsorbentoch alebo absorpcia vo vhodnom rozpúšťadle.

Kompresiou a nasledujúcim ochladením može sa odsírániť prevládajúca časť acetónu, ale pri požiadavke hlbokého odstránenie acetónu z etylénu je tento poměrně běžný a technicky lahko· dostupný postup málo účinný a súčasne velmi nákladný, najma v důsledku vyfeokej spotřeby energie na kompresiu a chladenie.

Vypieranie zostatkov acetónu z různých plynných prúdov, medzi inými i z prúdov etylénu, vodou alebo vodnými roztokmi acetónu je popísané v čs. autorskom osvedčeniu č. 219 179. Tento spůsob je účinný a hospodárný, ale nemůže sa použil na čistěme etylénu, určeného na výrobu 1,2-dichlčretánu, lebo etylén, odvádzaný na chloráciu musí byť suchý kvůli zamedzeniu korózie výrobnej aparatúry. Etylén pre tento účel nesmie obsahovat viac ako 10 ppm vody.

Adsorpčné sposoby čistenia etylénu, napr. aluminou, silikagelom alebo aj aktívnym uhlím a podobnými sorbentami, sú účinné á dokážu odstránií aceton, vodu i ďalšie nežiadúce látky na požadovánu mieru. Ich prevádzka však bývá poměrně komplikovaná a nákladná. Najvačším nedostatkem adsorpčných spůsobov čistenia etylénu je možnost akumulácie sírnych a dusíkatých zlúčenín na použitých sorbentoch až do kritického množstva z hladiska nebezpečia výbuchu. Výhodou je, že adsorpčné sposoby čistenia etylénu umožňujú redukovat obsah nečistůt na mieru, vyhovujúcu i najnáročnejším požiadavkám na čistotu etylénu. Obvykle je však potřebné, aby obsah nečistot vo vstupnom etyléne do adsorpcie bol čo najnižší, aby sa dosiahla primeraná životnost poměrně drahých adsorbentov.

Podlá tohto vynálezu sa spůsob čistenia etylénu desorpciou z acetónu v· procese vydefovania etylénu z pyrolýznych plynov po·mocou absorpcie v· acetone, obsahujúceho aceton ako hlavnú nežiadúcu látku, vypieraním, uskutočňuje tak, že z acetónu desorbovaný etylén sa privádza do· prechodovej časti integrovanej absorpčno-desorpčnej sústavy, kde sa v absorpčnej časti sústavy vypiera 1,2-dichlóretánom pri tlaku 0,2 až 0,9 MPa a pri teplote 245 až 300 K a v idesorpčnej časti sústavy pracujúcej pri tep240510 lote 270 až 323 K sa desorbuje etylén a použitý 1,2-dichlóretán spolu s vypranými nečistotami, hlavně acetónom sa vedie do rektifikačnej sústavy, v ktorej sa získává regenerovaný acetón pomocou dvojstupňové j kondenzácie a vyvařením acetonu a ostatných vypraných nečistit zbavený 1,2-dichlóretán sa recykluje.

. Zariadenie na čistenie etylénu podfa vynálezu pozostáva z absorpčno-desorpčnej a rektifikačnej aparatury a pomocných zariadení, pričom. přívodně potrubie etylénu je zapojené do absorpčnej kolony, spojenej prostredníctvom absorpčno-desorpčného stupňa s desorpčným tepelným výmenníkom, ktorý je nástrekovým potrubím spojený s rektifikačnou kolonou, opatřenou jednak parciálnym kondenzátcrom a totálnym kondenzátorom a jednak varákom, spojeným potrubím vyvařeného dichlóretánu s desorpčným tepelným výmenníkom napojeným spojovacím potrubím na zásobník, opatřený prívodným potrubím čerstvého dichlóretánu a sacím potrubím připojeným do čerpadla, ktoré je spojené prostredníctvom prívodného potrubia dichlóretánu s absorpčnou kolónou, opatřenou v hornej časti potrubím čistého etylénu.

Pri postupe podlá tohto vynálezu sa získává etylén prakticky úplné zbavený acetonu s redukovaným obsahom metánu a etánu v závislosti od teplotných a tlakových podmienok v absorpčno-desorpčnej sústnve. Ukázalo* sa, že neobvyklým riešením tepelného výmenníka a jeho* konštrukčného spojenía s absorpčnou kolonou sa vytvoria priaznivé podmienky pre optimálně riadenie procesu podlá vopred zadaného kritéria optimality, zohfadňujúceho jednak požiadavku na minimalizácíu strát etylénu a jednak požiadavku na zníženie obsahu metánu a etánu v čistom etyléne. Ďalšie výhody nového spósobu možno pripísať spojeniu spomenutého efektívneho absorpčno-desorpčného* systému s regeneračnou rektifikačnou kolonou a taktiež neobvyklému riešeniu získavania regenerovaného acetonu pomocou dvojstupňovej kondenzácie v pareiálnom kondenzátore, chladenom chladiacou vodou a v totálnom kondenzátore, chladenom odpařováním kvapalného propylénu. Týmto spósobom sa dosiahne nielen vyššia hospodárnost prevádzky, ale aj vysoká výtažnosť regenerácie acetonu, obsiahnutého v etyléne, určenom na čistenie.

Přitom z hfadiska hospodárnosti prevádzky absorpčno-desorpčnej sústavy je dóležité, že příslušný efekt sa dosahuje využitím entalpie vyvařeného 1,2-dichlóretánu, ktorý sa potom prakticky može bez ďalšej úpravy, po doplnění čerstvým 1,2-dichlóretánom, znovu použit ako účinné absorpčně činidlo.

Dalším dóležitým prvkom vyvinutého spósobu čistenia etylénu je, že pri ňom prakticky nevznikajú straty absorpčného činidla

1,2-dichlóretánu — keď neuvažujeme běžné manipulačně straty — sa jedná o látku, vznikajúcu ako produkt pri následnej chlorácii etylénu. Pravda, má to aj nevýhodu v tom, že tento -sposob čistenia etylénu je výlučné vyvinutý pře specifické požiadavky čistenia etylénu, určeného na syntézu

1,2-dichlóretánu. Pri postupe podfa tohto* vynálezu sa aceton odstraňuje z etylénu s vysokou účinnosťou aj napriek tomu, že sa jedná o relativné nízké vstupné koncentrácie. Pozitívnym prvkom nového spósobu je. aj velmi nízké zataženie absorpčnej kolony kvapalným 1,2-dichlóretánom, čo· umožňuje podstatné znížiř náklady na zariadenie regeneračnej časti aparatury.

Čistenie etylénu absorpciou v dichlóretáne a účinná regenarácia acetonu sa dosahu*jú na zariadení, znázornenom na priloženom obrázku.

Do čiastiaceho zariadenia sa privádza etylén, odoberaný z desorpčnej kolony v prevádzkovom súbore vydefovania etylénu z pyrolýznych plynov absorpciou v acetone (na priloženej schéma nezakreslené), obsahujúci ccetón ako hlavní’ nečistotu z hfaďiska ďalšieho použitia etylénu na syntézu

1,2-dichlóretánu. Obsah acetonu je obvykle okolo 0,7 až 0,9 % obj. a nemal by přesahovat hodnotu 4,0 % obj. Etylén uvedenej proveniencle ďalej obsahuje priemerne 0,8 % obj. metánu, 0,9 % obj. etánu a 0,05 pere. obj. oxidu ubofnatého. Etylén sa privádza prívodným potrubím 1 do spodnej časti absorpčnej veže 2, vybavenej eíážami sitovej konštrukcie. Možu sa však použit i iné typy etáží s podobnou účinnosťou. Aceton sa z etylénu vypiera prakticky úplné protiprúdne stekajúcim 1,2-dichJóretánom, privádzaným do hornej časti kolony prívodným potrubím 4 dichlóretánu.

Ďalšie příměsi, ako metán a etán sa vypierajú čiastočne v závislosti od teplotných a tlakových podmienok v absorpčnej koloně 2 a v desorpčnom výmenníku 8. Vyčištěný etylén sa odvádza potrubím 3 čistého; etylénu. Spodná časť absorpčnej kolony je spojená prostredníctvom absorpčno-desorpč* ného stupňa 5 kolony s desorpčným výmenníkom B, v ktorom sa 1,2-dichlóretán s vypraným acetónom, metánom a etánom zohrieva regenerovaným 1,2-dichlóretánom privádzaným z varáka 24 potrubím vyvařeného dichlóretánu 2.5 a odváďzaným spojovacím potrubím 26 do zásobníka 28.

Funkcia absorpčno-desorpčného stupňa 5 kolony spočívá v stabilizácii primeraných teplotných a !ým aj koncentračných proíilov desorpčnej a absorpčnej časti systému podfa zadaných požiadaviek ha čistotu etylénu a hospodárnost procesu. Po konštrukčnej stránke sa jedná o zariadenie válcového tvaru s etážami, umožňujúcimi intenzívny styk kvapaliny ,a desorbovaných plynov.

Desorpčný výmenník 6 je spojený pomocou nástrekového potrubia 7 s rektifikač240510 nou kolóno-u 8, z ktorej odchádzajú páry ce?.·!!·! ako prchavejšej zložky spolu s desorbovanými plynmi potrubím 0 do parciály.ip ko .dsuzátora 10, opatřeného potrubím cil oiacej vody, odvodným potrubím 14 purne fázy 14 a potrubím 11 kondenzátu, kterým sa z parciálneho kondenzátora od• ádz skondenzovsný aceton při kondenzačiej teplote okolo 303 K. Parciálny kondenzáror 10 slúži jednak na vytvorenie potřebné' o refluxného toku, privádzaného do· rektifikačnej kolony refluxným potrubím 12 λ jednak na kondenzáciu odpovedajúceho podielu pár acetónu pri teplote 309 K, o’oher é' o potrubím kvapalného acetónu A

P rciálny kondenzátor 10 je spojený odvodným, potrubím 14 parnej fázy s totálnym kondenzátorom 18, opatřeným prívodným potrubím 18 kvapalného propylénu, potru’ ím 1^€! plynného propylénu, odplyňovscím potrubím 17 a odvodným potrubím 20 kondenzátu. Totálny kondenzátor slúži na praktickú úplnú kondenzáciu pár acetónu, v dósledku čoho· sa dosahuje velmi vysoká výažnoeť regenerácie acetónu. Regenerovaný acetón, pozostávajúci z kondenzátu z parciálneho kondenzátora a kondenzátu z to'álneho kondenzátora, sa odvádza na ďalšie použitie potrubím 21 regenerovaného acetónu. Spodná časť rektifikačnej koleny je priamo· spojená s varákom 24, opatřeným parným potrubím 22, potrubím parného kondenzátů 23 a potrubím 25 vyvařeného dichlóretánu, spájajúcim vařák 24 s desorpčným tepelným výmenníkom 8 a prostredníctvom spojovacieho potrubia 28 so zásobníkom 28. Zásobník 2S je opatřený prívodným potrubím 27 čerstvého dichlóretánu a je spojený sacím potrubím 29 s čerpadlom 30, napojeným prostredníctvom prívodného potrubia 1 etylénu na absorpčnú kolonu 2. Takto je vytvořený uzavretý cyklus vypierania acetónu-a regenerácie tak vypraného acetónu, ako aj 1,2-dichlóretánu.

Schéma zariadenia na priloženom obrázku obsahuje základné zariadenia a ich prepojenie potřebné na vytvorenie uzavretého svstému. Nie sú na nej znázorněné pomocné zariadenia, meracie a indikačně přístroje, ako aj armatúry, áko sú například regulačně alebo· uzatváracie ventily, lebo nie sú charakteristické pre vyvinuté zariadenie a sú závislé od roznych technicko-ekonomických podmienok a od výkonu výrobného z ri: do: ia ^cp6soh zariadenie podlá tohto vynálezu umožňuji prakticky úplné odstránenie pár ucetúuu z etylénu, odoberaného z desorpčnej kolony v procese vydelovania ety^:éu·· z pyrolýznych plynov pomocou abuci-- v ”cet ne. Súčasne umožňujú jednoduchý spůsob regenerácie oddesleného ac?tónu o čistotě vyhovujúcej pre jeho opatovu é použitie v procese vydelovania etylénu absorpciou v acetóne. .

Výhodou tohto nového· sposobu, uskutečňovaného na popísanom zariadení je, že pri vypieraní 1,2-dichlóretánom sa nezavádza do čistého etylénu žiadna cudzia látka z hladiska nadvazujúcej chlorácie etylénu na 1,2-dichlóretán, pričom okrem acetonu sa vypierajú aj ďalšie látky, napr. metán, etán a aj zbytky oxidu uholnatého, čím sa ešte viac zvyšuje čistota etylénu. Důležité je, že pri tomto novom sposohe nehrozí nebezpečenstvo preniknutia acetónu vo formě hmly, ako je to běžné u systémov s ochladením na hlboké teploty, ani nebezpečensívo akumulácie nebezpečných pyroforických látok, čo tento nový proces čistenia etylénu velmi zvýhodňuje oproti ostatným, doteraz používaným.

Ďalej uvedené příklady ilustrujú, ale nevymedzujú spůsob použitia.

Přikladl

Etylén, pcchódzajúci z desorpčného stupňa procesu izolácie etylénu z pyrolýznych plynov absorpciou v acetóne, sa čistí ďalej popísaným sposobom na zariadení schematicky znázornenom na priloženom obrázku.

Etylén, určený na čistenie, sa podlá fotíte sposobu najprv privádza prívodným potrubím 1 etylénu do absorpčnej kolony 2, v ktorej sa acetón a čiasíočne aj ďalšie nežisdáce látky, ako napr. CIL·, a C₂H_G, vypierajú malým množstvom protiprúdne stekajúceho 1,2-dichlóretánu, privádzaného do absorpčně' kolony prívodným potrubím 4 dichlóretánu. Vyčištěný etylén odchádza z absorpčnej kolony potrubím 3 čistého etylénu, napojeným na hlavu absorpčnej kolony 2.

Etylén, určený na čistene, má nasledujúce priemerné zloženie: 97.75 % obj. CiH₄, 0,95 0/o obj. CII₄, 0,69 % obj. C₂H₆, 0,61 % obj. acetón a stopy oxidu uholnatého. Teplot,· privádzaného etylénu je 253 K. Tlak v miesíe přívodu etylénu do· absorpčnej kolony je 0,8 MPa. Celkové množstvo privádzanej plynnej zmesi hora uvedeného zloženia je 115,5 kmol. h~ *.

Prevládajúca časf acetónu a časť metánu a otánu sa vypierajú protiprúdne stekajúcim dichlóretánom, privádzaným na hlavu absorpčnej kolony 2 o teplote 293 K v množstve 3,9 kmol.h·¹. Vyčištěný etylén odchádza pri tlaku 0,77 MPa a pri teplote 256,4 K. Kvapalný dichlóretán, odchádzajúci zo spodku absorpčnej kolony 2 prechádza absorpčno-desorpčným stupňom kolony 5' do desorpčného výmenníka fi, v ktorom sa oteplí z teploty 259 K na teplotu 313 K 1,2-dichlóretánom, odchádzajúcim z varáka 24 rektifikačnej koleny 8. Toto spojenie desorpčného·' tepelného výmenníka 8 a absorpčnej kolony 2 prostredníctvom absorpčno-desorpčného stupňa kolóny 5 vytvára priaznivé předpoklady pre nastave240510 ⁹ nie teplotného profilu, vhodného' buď pre účinné vypieranie zbytkov metánu a aj etánu z čistého etylenu, alebo v opačnom případe, vhodného z hiadiska minimalizácie strát etylénu, rozpuštěného v dichlóretáne pri stékaní absorpčnou kolonou. Kvapalná zmes 1,2-dichlóretánu s rozpustným acetónom a s nedesorbovanými plynmi sa potom privádza nástrekovým potrubím 7 do rektifíkačnej kolony 3, určenej na regeneráciu 1,2-dichlóretánu a acetonu. Hlava rektifíkačnej kolony 8 je spojená potrubím s parciálnym kondenzátorem 10, opatřeným prívodným a cdvódným potrubím 13 chladla eeí vody, potrubím 11 kondenzátu a odvodným potrubím 14 parnej fázy, ktorým sa odvádzajú nokondenzujúce plyny s obsahem acetonu na totálnu kondenzáciu.

Kondenzácia v parciálnom kondenzátore prebieha pri atmosférickém tlaku a teplote 303 K. Převážná časť pri týchto podmienkach skondenzovaného acetonu sa vracia spát do rektifíkačnej kolmý refluxným potrubím 12 a mehšia časť sa odvádza ako regenerát potrubím 15 kvapalného ácetónu. Použitý reflutný poměr je 5 : 1.

Regenerovaný acetón, skondenzovaný v parciálnom kondenzátore obsahuje 99 % mél. acetonu a prismerne 0,97 % mól. etylénu. Množstvo Oídoberaného regenerovaného acetonu je 0,514 kmol.h^-1. Neskondenzovaný acetón v parciálnom kondenzátore a nekondezujúce plyny, ako sú etylén a připadne metán a etán, odchádzaiú z parciálneho kondenzátora vodovodným potrubím 14 parnej fázy do totálneho kondenzátora 16, opatřeného prívodným potrubím 18 kvapalného propylenu a potrubím 19 plynného propylénu. V totálncm kondenzátore vykondenzuje prakticky všetok acetón, ktorý ešte obsahovala plynná zmes, odchádzajúca z parciálneho kondenzátora.

Teplota kondenzácie ;'e 248 K. Propylén, použitý na chladenie, sa odpařuje pri teplote 236 K Vzniklý kondenzát acetonu odchádza z totálneho kondenzátora odvodným potrubím 20 kondenzátu a po spojení s regenerátora, odvádzaným z parciálnej kondenzácie potrubím 15 kvapalného acetonu, sa všetok týmto sposobom získaný acetón odvádza potrubím 21 regenerovaného' acetonu na ďalšie použitie v procese vydelovania etylénu z pyrolýznych plynov pomocou absorpcie v acetone. Kondenzát z totálneho· kondenzátora v celkovom množstve 0,171 kmol.h^-1 obsahuje 97,0 % mól. acetonu a 2,92 % mól. rozpuštěného etylénu. Spojením s prúdom regenerátu z parciálneho kondenzátora sa získává po přepočítaní na čistý aceton 0,65 kmol.h^-1 čistého acetonu, čo představuje výše 95 %-nú výřažnosť regenerácie. Straty acetonu cdplynom činia velmi zanedbatelné množstvo 0,02 kmol. . h^-1. .

Manipulačně straty sú cca 0,01 kmol. . ti^-1. Odplyn z totálneho kondenzátora obsahuje priemerne 96,7 % mól. etylénu a asi

1,5 % mól. acetónu. Zbytek sú metán a etán. Vyšší obsah scatónu Oproti teoretickým předpokladem pri daných stavových podmienkach · (teplota 248 K, atmosferický tlak) je zrejme spósobený obsahom acetónu vo formě braly, ktorá sa v kondenzátore bežnej konštrukcie nedá oddělil.

Z varáka 24 rektifíkačnej kolony 8 sa kontinuálně odeberá horúci 1,2-dichlóretán, prakticky úplné zbavený acetónu. Vařák 24 je opatřený parným potrubím 22, potrubím parného kondenzátu a potrubím 23 vyvařeného dichlóretánu, ktorým sa odvádza horáci 1,2-dichlíretán do desorpčného výmenníka 6. Teplota vyvařeného 1,2-dichlóretánu je 353 K. Obsah acetónu vo' vyvarenom

1,2-dichlóretáne e menší ak 0,01 % mól. V tepelnom výmenníku cchladený 1,2-dichlóretán sa odvádza spojovacím potrubím 26 do zásobníka 28, do ktorého sa podřa potřeby načerpá čerstvý 1,2-dichlóretán cez přívodně potrubie čerstvého dichlóretánu 27. Nakoniec sa 1,2-dichlóretán čerpá čerpadlem 30, spojeným sacím potrubím 29 so zásobníkem 28 a dávkuje sa prívodným potrubím dichlóretánu spal do absorpčně] kolony 2. Popísané zariadenie je opatřené potřebnými aparaturami a regulačnými prístrojmi na reguláciu tlaku, prietoku a hladiny, ktoré nie sú v schéme zakreslené, ale sú bezpodmienečne potřebné pre stabiluý chod prevádzky. Týmto sposobom na popísanom zariadení sa získává etylén prakticky úplné zbavený acetónu a čiastočné zbav.ený aj zostatkov metánu a etánu z predcháďzďjúcich výrobných operách. Priemerné zloženie čistého etylénu je nasedujúce: 93,65 % mól C₂H₄, 0,15 % mól. dichlóretán, 0,008 % mól. acetón, 0,65 % mól. CH₄ a 0,53 % mól. etán.

Obsah metánu a etánu je závislý najma od ich obsahu vo vstupnom etyléne, určenom na čistenie. Přitom pri používaní etylénu na výrobu vinylchloridu cez 1,2-dichlóretán sa 1,2-dichlóretán v etyléne nepovažuje za nečistotu, takže skutečná čistota etylénu je ešte vyššia ako 98,65 % obj. Příklad 2

Na čistenie etylénu je použitý rovnaký postup ako v příklade 1. Rozdiel spočívá v tom, že abserpčno-desorpčný stupeň kolony 5 a desorpčný výmenník sú vyřaděné z prevádzky, takže teplota .1,2-dichlóretánu, odchádzsjúceho z absorpčně) koleny 2 <e 259 K. Ostatně teplotně a tlakové podmienky sú rovnaké ako v příklade 1 a rovnaké je aj príeíokové zafaženie aparatúry. V dQsledku toho, absorpcia i regenerácia acetónu majú stabilný chod. neodlišujúci sa od chodu prevádzky na zariadení, popísanom v příklade 1. Výsledkom tejto úpravy zariadenia je vyššie množstvo etylénu, odchádzajúceho odplyňovacím potrubím 17 z totálneho kondenzátora 16 chladeného odparo240510 váním pr opylenu pri teplote okolo 236 K. Množstvo etylénu v odplyne v tomto případe činí 0,7 kmol.tr¹. To značí, že straty etylénu odplynom sú vyššie o 0,42 kmol. . h^_1 oproti stratám v příklade 1 (0,28 kmol. . h^_1). Aj straty acetónu sú vyššie ako v příklade 1 (0,013 kmol. li¹ oproti 0,005 kmol.h^-1). Na druhej straně sa zlepšila čistota etylénu, odchádzajúceho z absorpčnej kolony 2 potrubím 3 čistého etylénu do výrobně 1,2-dtchlóretánu. Celkové množstvo metánu a etánu sa pri týchto podmienkach znížilo v priemere o 30 % oproti příkladu

Claims (2)

PREDMET

1,2-dichlóretánom pri tlaku 0,2 až 0,9 MPa a pri teplote 245 až 300 K a v desorpčnej časti sústavy pracujúcej pri teplote 270 až 323 K sa desorbuje etylén a použitý 1,2-dichlóretán spolu s vypranými nečistotami, hlavně acetónom sa vedie do rektifikačnej sústavy, v ktorej sa získává regenerovaný aceton pomocou dvojstupňovej kondenzácie a vyvařením acetónu a ostatných vypraných nečistót zbavený 1,2-dichlóretán sa recykluje.

1. Sposob čistenia etylénu, získaného· desorpciou z acetónu v procese vydelovania etylénu z pyrolýznych plynov pomocou absorpcie v acetone, obsahujúceho aceton ako hlavnú nežiadúcu látku, ’ vypieraním, vyznačujúci sa tým, že z acetónu desorbovaný etylén sa privádza do prechodovej časti integrované] absorpčno-desorpčnej sústavy, kde sa v absorpčněj časti sústavy vypiera

2. Zariadenie na uskutočňovanie spósobu podlá bodu 1, pozostávajúce z absorpčVYNALEZU no-desorpčnej a rektifikačnej aparatúry a pomocných zariadení, vyznačujúce sa tým, že přívodně potrubie (1) etylénu je zapojené do absorpčně] kolóny (2), spojenej prostredníctvom absorpčno-desorpčného stupňa (5) s desorpčným tepelným výmenníkom (6), ktorý je nástrekovým potrubím (7) spojený s rektifikačnou kolonou (8), opatrenou jednak parciálnym kondenzátorom (10) a totálnym kondenzátor om (16) a jednak varákom (24), spojeným potrubím (25) vyvařeného dichlóretánu s desorpčným tepelným výmenníkom (6), napojeným spojovacím potrubí (26) na zásobník (28), opatřený pří vodným potrubím (27) čerstvého dichlóretánu a sacím potrubím (29), připojeným na čerpadlo (30), ktoré je prostredníctvom prívodného potrubia (4) dichlóretánu spojené s absorpčnou kolónou (2j, opatřenou v hornej časti potrubím (3) čistého etylénu.