CS244094B1 - Způsob měření záznamů na fotochemických materiálech - Google Patents

Abstract

Řešení se týká měření záznamů na fotochemických materiálech, zejména ve vrstvách fotorezistů, zvláště při měření jejich vlastnosti a při hodnocení výsledků technologických operaci· Při měřeni podobných záznamů je obvykle nutné měřit tloušřku vrstvy zpracovaného fotochemického materiálu, nebo rozdíly v tlouětce. Užívané přístroje jsou nákladné a měření bývá časově náročné· Podstatou vynálezu je využiti skutečnosti, že rozloženi intenzity světla v difraktogramech, vznikajících ohybem světla na ekvidistantnioh obrazových prvcích, se podstatným způsobem mění při změně tloustky (popř. absorpce) těchto obrazových prvků. ' Při postupu podle vynálezu se na vrstvu fotochemického materiálu naexponuje obrazec, obsahujíci ekvidietantni prvky, exponovaný .materiál se zpracuje a vzniklý obraz se vloží do difraktometru. Změří se hodnoty charakterizující intenzitu zářeni v ohybových maximech, příslušejících ekvldistantnim prvkům obrazu (zejména hodnoty úměrné těmto intenzitám ? opř. jejioh logaritmům) a početním posupem se stanoví výška reliéfu tvořeného obrazovými prvky, popř. i střídá tohoto reliéfu. Přednosti postupu podle vynálezu je možnost měřit relativně rychle a s použitím méně nákladné aparatury i velmi malé tlouštky obrazových záznamu·

Description

Řešení se týká měření záznamů na fotochemických materiálech, zejména ve vrstvách fotorezistů, zvláště při měření jejich vlastnosti a při hodnocení výsledků technologických operaci· Při měřeni podobných záznamů je obvykle nutné měřit tloušřku vrstvy zpracovaného fotochemického materiálu, nebo rozdíly v tlouětce. Užívané přístroje jsou nákladné a měření bývá časově náročné· Podstatou vynálezu je využiti skutečnosti, že rozloženi intenzity světla v difraktogramech, vznikajících ohybem světla na ekvidistantnioh obrazových prvcích, se podstatným způsobem mění při změně tloustky (popř. absorpce) těchto obrazových prvků. '

Při postupu podle vynálezu se na vrstvu fotochemického materiálu naexponuje obrazec, obsahujíci ekvidietantni prvky, exponovaný .materiál se zpracuje a vzniklý obraz se vloží do difraktometru.

Změří se hodnoty charakterizující intenzitu zářeni v ohybových maximech, příslušejících ekvldistantnim prvkům obrazu (zejména hodnoty úměrné těmto intenzitám ?opř. jejioh logaritmům) a početním posupem se stanoví výška reliéfu tvořeného obrazovými prvky, popř. i střídá tohoto reliéfu. Přednosti postupu podle vynálezu je možnost měřit relativně rychle a s použitím méně nákladné aparatury i velmi malé tlouštky obrazových záznamu·

244 094

244 094

Vynález ee týká měření záznamů na fotochemických materiálech, zejména ve vrstvách fotorezietů, zvláště při měření jejich vlastností a při hodnocení výsledků technologických operací

Některé fotochemické materiály, zejména fotorezisty, poskytují po ozáření a následujícím zpracování ve vhodném plynném nebo častěji kapalném prostředí (tzv. vývojce) obraz, tvořený oblastmi, jejichž tloušťka závisí na ozáření. V praxi jsou nejběžnější případy, kdy záznam (obraz) tvoří dílem oblasti s odhalenou podložkou, dílem oblasti pokryté vrstvou zpracovaného fotochemického materiálu; tyto vrstvy chcá rí podložku při leptání apod. Při měřeni vlastností těchto materiálů (zejména eenzitometrickém a mikrosenzitometrickém) a dále při technologických aplikacích, je nezbytné nebo účelné, měřit tlouštku vrstev vzniklých zpracováním fotochemického materiálu, popř. rozdíly v tloušťce na různě exponovaných místech. K tomu se užívají zejména mechanické, interferometrické a elipsometrické metody. Potřebná zařízení jsou zpravidla složitá a nákladná a měření je obvykle časově náročné. Zvlᚊ obtížné je měření vrstev s velmi malou tloušťkou (např. několik desetin mikrometru a méně).

Uvedené nedostatky nemá postup podle vynálezu, jehož podstatou je postup umožňující využít skutečnosti, že rozložení intenzity zářeni v difraktogramech, vznikajících ohybem světla na ekvidistantních obrazových prvcích, se podstatným způsobem mění při změně tloušlky (popřípadě absorpce) těchto obrazových prvků.

Přednosti postupu podle vynálezu spočívají především v tom, že k uskutečnění postupu postačí i relativně jednoduchý a málo nákladný difraktometr a že měření i vyhodnocení výsledků měření

244 094 je rychlé. Pro měření a vyhodnoceni lze použit automatizovaných postupů. Způsob měření podle vynélezu je zvlášť vhodný pro měření malých tlouětěk nebo rozdílů v tloušťce.

Írí&t3.<i

Při měření záznamu, vytvářeného ve vratvě fotochemického materiálu na nosné podložce, ae aktinickým zářením na Vrstvu materiálu naexponuje obrazec, obsahující soustavu ekvidistantnlch prvků. K tomu se použije buS zvláštní zkušební obrazec (např. při senzitometrickém měření; pak je zvláště vhodný obrazec tvořený soustavou rovnoběžných světlých a tmavých čar), nebo obrazec používaný k technologickým operacím, které mají být kontrolovány, apod. (jestliže obrazec bud sám obsahuje ekvidietatní prvky, nebo je možné takové prvky do něj pro měření zařadit). Ozářený materiál se zpracuje způsobem, který je pro něj předepsán nebo zvolen a podložka a takto vzniklým záznamem ae umístí do difraktoraetru. Změří ae hodnoty (absolutní či relativní) intenzity zářeni v difrakčnich maximech, odpovídajících ekvidiatantním obrazovým prvkům. Tyto hodnoty aamy mohou být mírou dosaženého výsledku (např. při zjišťování, zda opakování technologická operace poskytlo shodný výsledek), nebo ae z nich početně stanoví tloušťka (výška) reliéfu tvořícího záznam, popřípadě táž střída tohoto reliéfu. Měřeni závislosti výšky reliéfu na expozici či jeho logaritmu charakterizuje aenzitometrické vlastnosti měřeného fotochemického materiálu, analogická závislost střídy obsahuje informaci o mikroaenzitometrických vlastnostech materiálu.

Postupu podle vynálezu lze využít zejména při měření vlaatnoa tí fotochemických materiálů a při hodnoceni vlastností záznamů, vytvořených z těchto materiálů, zvláště při měřeni tloušťky fotorezietových masek apod·, pro kontrolu a optimalizaci technologických postupů. Postupu podle vynálezu lze použit i k měřeni záznamů na materiálech, které na změny v expozici reagují změnami absorpce světla. Zde lze postupu využít zejména k měřeni atřidy obrazu ekvidiatantních prvků při hodnocení mikroaenzitometrických vlastností materiálů.

Claims (1)

1. PŘEDMĚT

   VYNÁLEZU

   244 094

   Způsob měření záznamů na fotochemických materiálech, vyznačený tím, že na vrstvu fotochemického materiálu se aktinickým zářením exponuje obrazec obsahující ekvidistantní obrazové prvky, záznam ee po zpracování exponované vrstvy fotochemického materiálu umístí do difraktometru a stanoví se veličiny charakterizující intenzitu záření v difrakčních maximech odpovídajících ekvidistantní» obrazovým prvkům.