CS245603B1

CS245603B1 - Flat pieces' parts etching method

Info

Publication number: CS245603B1
Application number: CS959782A
Authority: CS
Inventors: Tomas Bohacek
Original assignee: Tomas Bohacek
Priority date: 1982-12-23
Filing date: 1982-12-23
Publication date: 1986-10-16
Also published as: DD245786A3

Description

Vynález se týká způsobu leptání částí plochých dílců, např. otvorů nebo zářezů, výhodného zejména v těch případech, kdy je při leptání nutno dodržet s vysokým stupněm přesnosti alespoň některý z rozměrů.The invention relates to a method of etching portions of flat parts, such as openings or slots, particularly advantageous in those cases where at least some of the dimensions have to be kept with a high degree of accuracy.

Tak je tomu např. u clony fotoelektrického polohovadla stopmotoru určené pro snímání úhlové rychlosti otáčení hlavního hřídele šicího stroje a za tímto účelem obsahující značný počet, v praxi 120 nebo 240 otvorů obdélníkového průřezu uspořádaných ve cloně o tvaru kotouče paprskovitě a symetricky vůči středu kotouče, který je současně středem jeho otáčení.This is the case, for example, of a stopper motor photoelectric positioner intended for sensing the angular speed of rotation of the sewing machine main shaft and comprising, for this purpose, a large number of 120 or 240 rectangular cross-section apertures arranged radially and symmetrically in the disc. it is also the center of its rotation.

Z funkčních důvodů, které jsou pro podstatu předkládaného vynálezu bezvýznamné, musí být přitom dodržena s velmi úzkou tolerancí rozměrová přesnost jednak Šířky těchto otvorů, jednak šířky rozteče mezi každými dvěma sousedními otvory.For functional reasons which are irrelevant to the essence of the present invention, the dimensional accuracy of both the widths of these holes and the width of the spacing between every two adjacent holes must be observed with very narrow tolerances.

Překročení přípustných tolerancí šířky i jen jednoho z otvorů nebo i jen jedné z roztečí zde může mít za následek nevyhovující funkci celé clony. Přitom požadavky kladené na pevnost clony vynucují její zhotovení z materiálu relativně tlustého ve srovnání s šířkou otvorů, které mají být leptáním zhotoveny, např. z bronzového plechu o tloušťce 0,2 mm při požadované šířce otvorů 0,4 mm.Exceeding the permissible width tolerances of only one of the apertures or even of one of the pitches may result in an unsatisfactory operation of the entire aperture. At the same time, the requirements for the strength of the orifice force it to be made of a material which is relatively thick compared to the width of the apertures to be made by etching, for example of 0.2 mm thick bronze sheet at the desired aperture width of 0.4 mm.

Ke zhotovování otvorů tohoto druhu se v praxi používá zpravidla leptání. Dílec, v němž mají být otvory zhotoveny, se nejprve na obou stranách opatří maskou z materiálu odolného vůči leptacímu médiu, přičemž místa určená k proleptání zůstanou obnažena, načež se vystaví působení leptacího média, zejména ponořením do něho.In practice, etching is generally used to make holes of this kind. The panel in which the apertures are to be made is first masked on both sides with a material resistant to the etching medium, leaving the etching sites exposed and then exposed to the etching medium, in particular by immersion therein.

Protože leptací médium, které by bylo umístěno vůči leptanému dílci nepohyblivě, by se v blízkosti leptaných míst stále více nasycovalo odleptávaným materiálem, čímž by se účinnost leptání snižovala a doba potřebná k proleptání značně prodlužovala, používá se při praktickém provádění leptání způsobu, při němž leptací médium a leptaný dílec jsou bud neustále nebo přerušovaně ve vzájemném pohybu, např. tak, že se leptací médium stříká na leptaná místa nebo tak, že se leptaným dílcem pohybuje v lázni s leptacím médiem.Because the etching medium, which would be stationary relative to the etched panel, would become more and more saturated with the etched material near the etched sites, thereby reducing the etching efficiency and extending the etching time considerably, the etching method in which the etching is practically performed the medium and the etched panel are either continuously or intermittently moving relative to each other, for example by spraying the etching medium into the etched areas or by moving the etched panel in a bath with the etching medium.

Tyto známé způeeby však nevyhovují tam, kde se kladou vysoké nároky na vzájemnou rozměrovou přesnost leptaných úseků. V praxi totiž dochází k tzv. podleptávání, to je k leptání kovového materiálu do šířky pod zamaskovanou část sousedící s leptaným otvorem.However, these known processes do not meet the requirements of high dimensional accuracy of the etched sections. In practice, there is so-called etching, that is to etch metal material to the width below the masked part adjacent to the etched hole.

U velmi tenkých materiálů, např. u bronzových plechů o tloušťce řádově 0,05 mm, by ve shora uvedeném případu, to je při šířce otvoru 0,4 mm, toto podleptávání bylo zanedbatelné, neboť k proleptání celé tloušťky materiálu by zde došlo dříve, než-li by podleptávání překročilo přípustnou toleranci.For very thin materials, such as bronze sheets with a thickness of the order of 0.05 mm, in the above case, that is, at a hole width of 0.4 mm, this etching would be negligible, since the entire thickness of the material would be etched earlier, than the undercut would exceed the allowable tolerance.

U plechů o tloušťce řádově 0,2 mm však podle výsledků provedených zkoušek má toto podleptávání za následek nepřípustně velké odchylky od povolených tolerancí ve velmi značném procentu případů /více než 90 %/, a to i tehdy, když byl zaručen pohyb leptacího média vůči le^ptan^ému dHci, jímž se dobá potřebná ^k prole^ptání zkrátka řá^dov^ě na jednu ^tře^tinu doly, jíž bylo k proleptání zapotřebí při nehybném^leptacím médiu.However, for sheets with a thickness of the order of 0.2 mm, according to the results of the tests, this etching results in unacceptably large deviations from the permitted tolerances in a very large percentage of cases (more than 90%), even if movement of the etching medium relative to ^p tan ^é him DhCi, whereby the time required ^for ^pt prole or acronyms Ra ^d b ^s per ^ton PI ^t yne mines, which has been needed in the proleptání stationary-etching medium.

Pro dosažení vysoké přesnosti obrysu leptaného otvoru lze použít podstatně nákladnějšího způsobu výroby s použitím tzv. bimetalické masky. Při tomto · · -.způsobu se povrch dílce, v němž mají ' být vyleptány otvory, nejprve pokryje alespoň v jejich oblasti tenkou vrstvou jiného kovu nerozpustného nebo ve srovnání s kovem leptaného dílce podstatně méně rozpustného ve zvoleném leptacím médiu, např. 0,003 mm tenkou vrstvou niklu, tato tenká vrstva se pak zamaskuje s výjimkou místa přesně odpovídajícího poloze a rozměru otvoru, který má být vyleptán, načež se nezamaskovaná část tenké vrstvy niklu za velmi krátkou dobu proleptá na základní materiál, to je kov leptaného dílce, známým způsobem proleptá.In order to achieve a high precision of the etched hole contour, a considerably more expensive production method using a so-called bimetallic mask can be used. In this method, the surface of the panel in which the apertures are to be etched is initially coated with at least a region of a thin layer of another metal insoluble or substantially less soluble in the selected etching medium, e.g. 0.003 mm thin, compared to the metal of the panel. The nickel layer is then masked except at a location exactly matched to the position and size of the opening to be etched, after which the unmasked portion of the thin nickel layer is etched in a very short time to the base material, that is, the etched metal, in a known manner.

Po ukončení této operace představuje vrstva niklu vymezující okraj otvoru ostře ohraničenou konturu pro průchod světelného paprsku, nezávislou na rozsahu podleptání základního materiálu. 'Upon completion of this operation, the nickel layer delimiting the edge of the aperture is a sharply delimited contour for the passage of the light beam, independent of the extent of etching of the base material. '

Vzhledem k nákladnosti tohoto způsobu přihlašovatel odzkoušel různé jiné způsoby sledující účel omezení rozptylu podleptání na únosnou míru. Rozptylem podleptání se zde rpzumí rozdíl mezi nejmenším a největším rozsahem podleptání jednotlivých leptaných otvorů, nikoliv tedy samotný rozsah podleptání.Given the cost of this method, the Applicant has tried various other methods pursuing the purpose of limiting the scattering of undercutting to an acceptable level. Here, the scatter scattering is understood to mean the difference between the smallest and largest scattering range of the individual etched holes, and not the scattering range itself.

Tak např. byla clona polohovadla se symetricky uspořádanými a rozměrově navzájem shodnými úseky určenými k proleptání do tvaru výše popsaných otvorů ponořena v horizontální poloze do leptacího média.For example, the positioner diaphragm with the symmetrically arranged and dimensionally identical sections to be etched into the shape of the holes described above was immersed in a horizontal position into the etching medium.

Teoreticky přitom měly být všechny otvory proleptány za stajnoú dobu a tedy i se stejným rozsahem podleptání, to je s nulovým rozptylem podleptání. V praxi však byly přitom zjištěny velmi podstatné rozdíly v proleptací době jednotlivých otvorů, jdoucí na vrub patrně jinak téměř nepostřehnutelných rozdílů v tloušťce a homogenitě jednotlivých úseků materiálů, směru jejich válcování a snad i dalších vlivů.Theoretically, all openings were to be etched in the same time and hence with the same amount of undercut, i.e. with zero undercut scatter. In practice, however, very substantial differences were found in the etching time of the individual holes, due to the apparently otherwise almost imperceptible differences in the thickness and homogeneity of the individual sections of materials, the direction of their rolling and possibly other influences.

Zlepšení se nepodařilo dosáhnout ani intensivním nuceným prouděním leptacího média vůči leptanému dílci. Tím se pouze zvýšila rychlost proleptání, nesnížil se však rozptyl podleptání. Zcela nevyhovujících výsledků bylo dosaženo při periodicky se opakujícím svislém vratném pohybu leptaného dílce, a to bez ohledu na ' to, zda přitom dílec zůstával celý v leptacím médiu nebo zda přitom byl z něho vyjímán.Improvements could not be achieved even by intense forced flow of the etching medium towards the etched panel. This only increased the rate of etching, but did not reduce the scattering of the etchings. Completely unsatisfactory results were obtained with a periodically repeating vertical reciprocating movement of the etched panel, regardless of whether the panel remained in the etching medium or was removed therefrom.

U obou popsaných způsobů byla s negativním výsledkem odzkoušena též jejich kombinace s elektrochemickým působením, při němž leptaný dílec sloužil jako anoda, kdežto do leptacího média byla ponořena elektroda, na níž se usazoval odleptávaný kov.In both of the described processes, their combination with an electrochemical treatment was also tested with negative results, in which the etched part served as an anode, while an electrode was deposited into the etching medium on which the etched metal settles.

Tímto opatřením se sice podstatně zkrátila doba proleptání, avšak rozptyl podleptání _ese snížil jen nepatrně, takže celkový výsledek opět nevyhověl stanoveným podmínkám.Although this measure significantly reduce the time proleptání but undercut _e scattering decreased slightly, so that the overall result again failed to comply with the requirements.

Podstata způsobu leptání částí plochých dílců podle vynálezu spočívá v tom, že dílec se ^pono^ří do leptacího média alespoň ^částí svého objemu^, a to v ^úhlu 30° a^ž 90° v^ůči hladně leptacího média a jejím klidovém stavu, a že v průběhu leptání je mu udílen otáčivý pohyb okolo osy kolmé k stěnám dílce.The method for etching the portions of flat panels according to the invention is characterized in that the panel is ^P it ^ri to the etching medium at least ^parts of its ^volume, in ^ú HLU 30 ° ^and 90 ° ^against hladno etching media and its quiescent state and that during etching, it is given a rotational movement about an axis perpendicular to the walls of the workpiece.

Úhlem dílce je zde míněn úhel, který s hladinou leptacího média svírají stěny dílce. Jako nejvýhodn^ěj^ší se ^při zkou^škách u^káza^{l úh}el 90°. U dHce touhovK^o pr^ůřezu se projevHo jako nejúčinnější jeho ponoření do leptacího média jednou polovinou jeho výšky.By the angle of the panel is meant here the angle between the walls of the panel and the etching medium. A most ^of the ^Si j ^Pr I tests with ^N sPectrum ^kA ^l el ^diagonals 90 DEG. With longitudinal ^cross- sectional desires, it is most effective to immerse it in the etching medium by one half of its height.

Při leptaných otvorech umístěných paprskovině a navzájem symetricky vůči středu dílce kruhovitého průřezu se ukázalo výhodným uspořádání, při němž osa otáčení dílce, kolmá ke stěnám dílce, prochází středem dílce.With etched openings located beamlike and symmetrical to each other in the center of the panel of circular cross-section, it has proved to be advantageous in which the axis of rotation of the panel perpendicular to the walls of the panel passes through the center of the panel.

Praktické zkoušky s tímto provedením podle vynálezu prokázaly prakticky stoprocentní účinnost ve smyslu dodržení úzkých tolerancí rozptylu podleptání. V kombinaci s o sobě známým elektrochemickým působením bylo zjištěno zachování těchto úzkých tolerancí rozptylu podleptání, přičemž došlo též k očekávanému zkrácení doby proleptání ve srovnání s leptáním bez elektrochemického- působení.Practical tests with this embodiment of the invention have shown practically 100% efficacy in terms of maintaining narrow scattering tolerances. In combination with the known electrochemical treatment, it was found that these narrow tolerances of the scattering of the undercutting were observed, while the expected etching time was also shortened compared to etching without the electrochemical treatment.

Na připojených vyobrazeních značí obr. 1 schematický nárysný pohled na plochý dílec, z něhož má být pletáním zhotoven kotouč s vyleptanými otvory, obr. 2 schematické znázornění základního principu zařízení k provádění způsobu podle vynálezu.In the accompanying drawings, FIG. 1 is a schematic elevational view of a flat part from which a disc with etched holes is to be knitted; FIG. 2 is a schematic representation of the basic principle of the apparatus according to the invention.

Plochý dílec 2 podle obr. 1 je zhotoven např. z bronzového plechu o tloušťce 0,2 ‘ mm, čtvercového průřezu o délce strany 50 mm, a je z obou stran opatřen maskou ponechávající odkrytá · m^jta ' £, ' . _ atd. určená . k proleptání.The flat panel 2 according to FIG. 1 is made, for example, of 0.2 mm thick bronze sheet with a 50 mm side cross-section and has a mask on both sides leaving the cover open. _ etc. for etching.

Těchto míst je v plochém dílci £ celkem 120» další nejsou na obr. 1 vyznačena, neboť jsou rozměrově shodná a umístěna obdobné na obvodu roztečné kružnice 5. Rozměr každého z těchto míst 2_,' 2» · ·4, atd. činí 0,45 mm x 3 mm.1, these are not indicated in FIG. 1 because they are identical in size and placed similarly on the circumference of the pitch circle 5. The dimension of each of these points 2, 2 ', 4, etc. is 0, 45 mm x 3 mm.

V plochém dílci £ jsou dále ponechána maskou nezakrytá místa £, £, £ určená pro další otvory potřebné pro řádnou funkci polohovadla stopmotoru, která zde není blíže vysvětlována, neboť se jí předkládaná přihláška vynálezu netýká.The openings 8, 8, 6 are further left in the flat panel 6 for other openings necessary for the proper operation of the stopmotor positioner, which is not explained here in detail, since the present invention is not concerned with it.

V plochém dílci £ je dále ponecháno nezakryté mezikruží £3, jehož proleptáním se z plochého dílce' 1 vytvoří vlastní kotouč £4. Přibližně ve středu kotouče 14 je vyražen pomocný otvor 2 určený k nasazení kotouče ' 14 na hřídel' £0, obr. 2, a mající průměr např. 3 mm.Furthermore, an annular ring (3) is left uncovered in the flat panel (4), the etching of which results in a flat disk (4) being etched from the flat panel (1). Approximately in the center of the disc 14, an auxiliary bore 2 is punched for inserting the disc 14 onto the shaft 40 of FIG. 2, having a diameter of, for example, 3 mm.

Okolo tohoto otvoru' 2 jsou ponechána nezakrytá místa ' 11 určená k tomu, aby po jejich vyleptání bylo možno vylomením můstků 12 vytvořit otvor přesně soustředný vůči místům ·ρο proleptání otvorům 2/ 2,' ' atd. a určený k nasazení kotouče ' 14 na funkční hřídel polohovadla.The openings 2 are left around this opening 2 and are intended to be able, after etching, to break out the bridges 12 to make a hole exactly concentric to the locations of the etching of the openings 2/2, 1 ' positioner shaft.

Účinnost způsobu leptání podle předkládaného vynálezu není závislá na konstrukčním uspořádání zařízení, jehož se při něm použije. Na obr. 2 je proto jen schematicky znázorněn základní princip jednoho z možných zařízení vhodných k provádění způsobu podle vynálezu.The efficiency of the etching method of the present invention is not dependent on the design of the apparatus used therein. In FIG. 2, the basic principle of one of the possible devices suitable for carrying out the process according to the invention is therefore only schematically illustrated.

Toto zařízení obsahuje nádobu' 15 zhotovenou ze skla nebo z jiného materiálu odolného vůči leptacímu médiu, jímž je např. k tomuto účelu běžně používaný vodný roztok chloridu železitého o hu^stotě např. 32 ^oBé^, jímž je ná^do^ba' ’ 15 na^plněna ^do vý^šky umo^žňuj^íc^í zasazen^ídílce £ ůo leptacího média alespoň jednou polovinou jeho povrchu v poloze svislé.This device comprises a vessel '15 made of glass or another material resistant to the etching medium, which is e.g. for this purpose, normally used an aqueous solution of ferric chloride of hu ^with totem e.g. 32 ^for ^BE, which is to ^D for ^b and' 15 ^pl on the above NENA ^d ^{on foot} allows ^Zn uj ^s c ^s ^and partial set £ uo etching medium at least one half of its surface in the vertical position.

Při vnitřních stěnách nádoby' ' 15 jsou upevněny katody 16 zhotovené z elektricky vodivého materiálu relativně odolného ·· vůči působení vodného roztoku chloridu železitého, např. z nerez plechu, a vodivě spojené vedením 17 se záporným pólem regulovatelného zdroje' '18 stejnosměrného proudu, jehož kladný pól je přes ampérmetr ' 19 propojen vedením' 20 na hřídel’ 10, zhotovený z elektricky vodivého materiálu a vytvořený jako jeden kus s klikou' 21, jejíž rukojeť by popř. mohla být opatřena pryžovou objímkou pro účely elektrické izolace.At the inner walls of the vessel 15 are mounted cathodes 16 made of an electrically conductive material relatively resistant to the action of an aqueous solution of ferric chloride, such as stainless steel, and conductively connected by a line 17 to the negative pole of a controllable direct current source 18. the positive pole is connected via an ammeter '19 to a shaft' 10 by means of a line 20, made of an electrically conductive material and formed in one piece with a crank '21, the handle of which, if any, is to be used. could be fitted with a rubber sleeve for electrical insulation purposes.

Hřídel ' ' 10 je svým od kliky 21 odvráceným koncem' ' 10a uložen ve vedení 22 vytvořeném na vnitřní straně stěny ' 15a nádoby’ 25, kdežto v protilehlé stěně 15b nádoby '15 je uložen ve výkyvném ložisku 23, které je opatřeno neznázorněným těsněním.The shaft 10 is supported by its crank 21 end 10a in a guide 22 formed on the inner side of the container wall 15a, while in the opposite wall 15b of the container 15 it is supported in a pivot bearing 23 which is provided with a seal (not shown).

Hřídel ' 10 je vytvořen z materiálu odolného vůči použitému leptacímu'médiu a jeho průměr umožňuje nasadit na něj plochý dílec ' 2 3 vůlí nepostačující jejich vzájemnému protáčení při otáčení kliky 21 hřídele' 10.The shaft 10 is made of a material resistant to the etching medium used, and its diameter makes it possible to fit on it a flat clearance element 23 which is insufficient to rotate each other when the crank handle 21 rotates.

V případě potřeby by bylo možno použít hřídele s příčným průřezem jiným než kruhovým, např. trojúhelníkovým, a přiměřeně tomu upravit tvar pomocného otvoru 2· Pro nasunutí plochého dílce' 2 na hřídel 10 se hřídel 10 pohybem kliky 21 ve směru šipky A vysune z vedení £2 a pak přemístí do polohy znázorněné čárkovaně se vztahovými značkami' ' 10,' 21 , v níž se na něj nasadí plochý dílec 2» který přitom dosedne na čelo nákružku' 10b vytvořeného na hřídeli ' 10.If necessary, shafts with a cross-section other than circular, eg triangular, could be used and the shape of the auxiliary bore 2 adapted accordingly. To slide the flat part 2 onto the shaft 10, the shaft 10 moves out of the guide by moving the crank 21. 2, and then moves to the position shown in dashed lines with reference numerals 10, 21 in which a flat part 2 'is placed on it, which in this case bears on the face of the collar 10b formed on the shaft 10.

Nato se hřídel ' 10 uvede nazpět do polohy, při níž je jeho konec ' 10a zaveden do vedení 22, a při níž je tedy plochý dílec' 2 ve svislé poloze částí svého objemu ponořen do leptacího média, jehož hladina v nezčeřeném, klidovém vztahu je označena vztahovou značkou’ '24.Thereafter, the shaft 10 is brought back to a position where its end 10a is inserted into the guide 22, and in which the flat part 2 is vertically immersed in a part of its volume in an etching medium whose level in an undisturbed, resting relationship is indicated by the reference numeral ''24.

Pak již lze ručním otáčením kliky '21, rychlostí např. 20 až 30 ot/min, provádět způsob leptání podle tohoto vynálezu, přičemž smysl otáčení může být po celou dobu otáčení zachován nebo může být v průběhu otáčení libovolně střídán, a to po alespoň jedné úplné otáčce o 360°. Otáčivým pohybem v definici předmětu vynálezu je proto míněn jak pohyb neustále téhož smyslu tak i pohyb s popsaným střídáním smyslu otáčení.Then, the etching method of the present invention can be carried out by manually rotating the crank 21 at a speed of, for example, 20 to 30 rpm, wherein the sense of rotation can be maintained throughout the rotation or can be rotated arbitrarily during rotation, after at least one 360 ° full rotation. By rotary motion in the definition of the subject matter of the invention is therefore meant both a movement of the same sense and a movement with the described rotation of rotation.

Při obou těchto alternativách dochází к tomu, že leptací médium stéká z částí plochého dílce _1 při jejich vynořování nad hladinu 24 leptacího média, takže při svém opětnéip ponoření se tyto části plochého dílce 1_ dostávají do styku s jiným úsekem leptacího média, který _ je relativně méně nasycen kovem odleptaným z plochého dílce 1_.In both of these alternatives, the etching medium flows down from the parts of the sheet 1 as they emerge above the level of the etching medium 24, so that upon re-immersion these parts of the sheet 1 come into contact with another section of the etching medium which is relatively less saturated with metal etched from the flat panel 7.

Praktické zkoušky však ukázaly, že i při úplném ponoření plochého dílce 1. do leptacího média dochází к rovnoměrnému proleptávání míst £, 2, 2 atd. nekrytých maskou. Zkouškami bylo rovněž zjištěno, že i při šikmé poloze plochého dílce 2 vůči hladině 24 leptacího média má otáčivý pohyb plochého dílce 2 ve stavu částečného nebo úplného ponoření do leptacího média okolo osy kolmé к plochému dílci £ a umístěné symetricky vůči poloze leptaných míst 2, 3, 4 atd. za následek velmi nízký rozptyl podleptání otvorů, které se v místech 2^ 2' — ^atc^· pr o1ep t án ím vytvoř í.Practical tests have shown, however, that even when the flat panel 1 is fully immersed in the etching medium, even the points not covered by the mask are uniformly etched. Tests have also shown that even at an inclined position of the sheet 2 relative to the etching medium level 24, the rotating movement of the sheet 2 is in a state of partial or complete immersion in the etching medium about an axis perpendicular to the sheet 6 and symmetrically positioned relative to the etched positions 2, 3. 4 etc. results in a very low dispersion undercut apertures which in places 2 ^ 2 '- ^ATC ^ · t pr o1ep Erasing COMES created even.

Bez újmy na této přesnosti, to je bez zvýšení rozptylu podleptání otvorů v místech 3, 2 atd., lze u způsobu leptání podle vynálezu leptání urychlit tím, že v průběhu leptání protéká leptacím médiem leptací proud.Without prejudice to this accuracy, i.e. without increasing the scattering of the etchings of the holes at the locations 3, 2, etc., in the etch method according to the invention the etch can be accelerated by flowing the etch stream during the etch.

Za tímco účelem nastavíme zdroj 18 stejnosměrného proudu na požadovanou hodnotu, v případě uvedeném výše přibližně na hodnotu 1 A. Působením leptacího média a elektrolysy nastává intenzívní odleptávání ploch otáčejícího se plochého dílce 2r které nejsou kryty maskou.To this end, we set the direct current source 18 to the desired value, in the case mentioned above, to approximately 1 A. The etching medium and electrolysis are subjected to intense etching of the surfaces of the rotating flat panel 2r which are not masked.

Průchodem elektrického proudu se leptací médium zahřívá, což má přídavný příznivý vliv na rychlost leptání. Jakmile se leptáním vytvoří v plochém dílci 2 dílčí otvory, počne hodnota stejnosměrného proudu klesat. S pokračujícím zvětšováním otvorů tato hodnota klesá dále, až při jejich konečném proleptání se ustálí na konečné, empiricky zjistitelné hodnotě, v daném případě asi na 0,3 A, jejímž dosažením je signalizováno ukončení leptacího procesu.The passage of electric current heats the etching medium, which has an additional beneficial effect on the etching rate. As soon as 2 part holes are formed in the flat part by etching, the value of the direct current starts to decrease. As the apertures continue to grow, this value decreases further until it settles at the final, empirically detectable value, in this case about 0.3 A, at which time the etching process is signaled to completion.

Můstky 12 lze účelně dimensovat tak, že na konci leptacího procesu, a€ již s elektrolysou nebo bez ní, jsou pouze zeslabeny natolik, že ještě drží kotouč 14, vyleptaný z plochého dílce 2/ ^na hřídeli 10.The webs 12 may conveniently be sized such that, at the end of the etching process, with or without electrolysis, they are only weakened to the point that they still hold the disk 14 etched from the flat panel 2 / ^{onto the} shaft 10.

Po sejmutí kotouče 14 z hřídele 10, které se provede obdobně jako jeho nasazení na hřídel 10 popsané výše, se zbytky můstků 12 odstraní prostým vylomením.After removal of the disc 14 from the shaft 10, which is carried out similarly to its mounting on the shaft 10 described above, the remnants of the bridges 12 are removed simply by breaking them out.

Z povahy věci vyplývá, že způsobem podle vynálezu lze s vysokým stupněm přesnosti, to je s nízkým rozptylem podleptání, nejen proleptávat otvory v daném dílci nýbrž též zhotovovat nové dílce požadovaného tvaru, např. dílce 25, obr. 1.By the nature of the invention, it is possible to not only etch openings in the panel with a high degree of accuracy, i.e. with low scattering, but also to produce new panels of the desired shape, e.g. panel 25, FIG. 1.

Na rozdíl od míst 2__f 3__f 4, 6, 7, 8 a 13 budou tyto dílce 25 před zahájením leptání pokryty maskou, která bude přerušena pouze v liniích požadovaného obrysu.dílců 25 po obou stranách plochého dílce 2·Unlike sites 2_ _f 3 _f 4, 6, 7, 8 and 13, these elements 25 are covered before starting the etching mask, which is interrupted only at the desired obrysu.dílců lines 25 on both sides of the flat element 2 ·

I zde bude rozptyl podleptání tím nižší, čímž přesněji budou linie požadovaného obrysu dílců 25 uspořádány na plochém dílci 2 symetricky vůči jeho ose otáčení, to je vůči ose hřídele 10.Here again, the undercut scattering will be lower, the more precisely the lines of the desired contour of the panels 25 will be arranged on the flat panel 2 symmetrically with respect to its axis of rotation, i.e. with respect to the axis of the shaft 10.

Claims

A method of etching portions of flat panels, in particular openings therein, in which the etched sheet is provided with a mask of an etching medium resistant material and covering the entire surface of the sheet except the etching sites, at least partially immersed in the etching medium, characterized in that the flat element / 1 / occupies relative to the surface / 24 / of the etching m ^EDI and ^h is about ^to where ^d aligns correctly state ÚHE ^l in rozmezil of ^d 30 ° ^d to 90% and ^from EN PR ^ůběh by asking them at his ^part en rotational movement around an axis perpendicular to the walls.

Etching method according to claim 1, characterized in that the etching part (2, 3, 4) of the flat separator (1) is arranged symmetrically about its axis of rotation.

The etching method according to claim 1 or 2, characterized in that the flat part (1) is immersed in the etching medium by one half of its volume.

4. A method of etching according to any one of claims 1 to 3, characterized in that the flat element / 1 / M, ^and attracts ^and ^teaches at ^p ovrchu / 24 / OM etching ^¹H ^EDI and V is ^H ^silence condition s ^s m ^l e ^diagonals ⁹⁰ °.

An etching method according to any one of claims 1 to 4, characterized in that an electrical current flows through the etching medium during the etching.