CS253772B1 - Electrolyte for cathodic deposition of cobalt alloys with phosphorus - Google Patents

Electrolyte for cathodic deposition of cobalt alloys with phosphorus Download PDF

Info

Publication number
CS253772B1
CS253772B1 CS239585A CS239585A CS253772B1 CS 253772 B1 CS253772 B1 CS 253772B1 CS 239585 A CS239585 A CS 239585A CS 239585 A CS239585 A CS 239585A CS 253772 B1 CS253772 B1 CS 253772B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
concentration
water
per
electrolyte
phosphorus
Prior art date
Application number
CS239585A
Other languages
Czech (cs)
Inventor
Vladimir Holpuch
Jaromir Vitek
Pavel Nejedly
Original Assignee
Vladimir Holpuch
Jaromir Vitek
Pavel Nejedly
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Vladimir Holpuch, Jaromir Vitek, Pavel Nejedly filed Critical Vladimir Holpuch
Priority to CS239585A priority Critical patent/CS253772B1/en
Publication of CS253772B1 publication Critical patent/CS253772B1/en

Links

Landscapes

  • Chemically Coating (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

Elektrolyt obsahuje anorganickou rozpustnou sůl kobaltu v koncentraci 100 až 300 g na 1 000 ml, rozpustnou sůl kyseliny sulfosalicylové, a to sodnou, draselnou nebo hořečnatou v koncentraci 100 až 300 g na 1 000 ml, vody, dále sloučeninu fosforu zvolenou ze skupiny obsahující fosfornan sodný a kyselinu fosforitou v koncentraci 1 až 40 g na 1 000 ml vody a konečně bromid draselný v koncentraci 1 až 50 g na 1 000 ml vody a anionaktivni smáčedlo v koncentraci 0,01 až 10 g na 1 000 ml vody.The electrolyte contains an inorganic soluble cobalt salt in a concentration of 100 to 300 g per 1,000 ml, a soluble salt of sulfosalicylic acid, namely sodium, potassium or magnesium, in a concentration of 100 to 300 g per 1,000 ml, water, a phosphorus compound selected from the group consisting of sodium phosphate and phosphorous acid in a concentration of 1 to 40 g per 1,000 ml of water, and finally potassium bromide in a concentration of 1 to 50 g per 1,000 ml of water and an anionic surfactant in a concentration of 0.01 to 10 g per 1,000 ml of water.

Description

Vynález se týká elektrolytu pro katodické vylučováni slitin kobaltu s fosforem.The invention relates to an electrolyte for cathodic deposition of cobalt-phosphorus alloys.

Dosud známé a v literatuře uváděné elektrolyty pro katodické vylučování slitiny kobaltu s fosforem používají jednoduchých anorganických kobaltnatých solí rozpustných ve vodě, například síranů, chloridů, fluoroboritanů a sloučenin fosforu ve formě jednovazné nebo trojvazné, například může jít o fosfornany nebo fosforitany. Tyto elektrolyty pracuji při nízkém pH 1 až 2. Nízká hodnota pH je také příčinou nízkého katodového proudového výtěžku a vysokého makropnutí, které způsobuje praskání povlaku zvláště při jeho velkých tlouštkách. Nízký katodový proudový výtěžek způsobuje změnu koncentrace kobaltu v elektrolytu zvláště při dlouhodobém pokovování.The prior art electrolytes for the cathodic deposition of a cobalt-phosphorus alloy use simple water-soluble inorganic cobalt salts, for example, sulfates, chlorides, fluoroborates and phosphorus compounds in the form of monovalent or trivalent, for example, hypophosphites or phosphites. These electrolytes operate at a low pH of 1 to 2. A low pH also causes low cathode current yield and high macro-tension, which causes the coating to crack, especially at high thicknesses. The low cathode current yield causes a change in the cobalt concentration in the electrolyte, especially during long term plating.

Výše uvedené nedostatky známých elektrolytů odstraňuje elektrolyt pro katodické vylučováni slitin kobaltu s fosforem podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že elektrolyt obsahuje anorganickou rozpustnou sůl kobaltu v koncentraci 100 až 300 g na 1 000 ml·, rozpustnou sůl kyseliny sulfosalicylové, a to sodnou, draselnou nebo horečnatou v koncentraci 100 až 300 g na 1 000 ml vody, dále sloučeninu fosforu zvolenou ze skupiny obsahující fosfornan sodný a kyselinu fosforitou v koncentraci 1 až 40 g na 1 000 ml vody a konečně bromid draselný v koncentraci 1 až 50 g na 1 000 ml vody a anionaktivni smáčedlo v koncentraci 0,01 až 10 g na 1 000 ml vody.The aforementioned drawbacks of the known electrolytes are eliminated by the electrolyte for the cathodic deposition of cobalt-phosphorus alloys according to the invention, characterized in that the electrolyte contains an inorganic soluble cobalt salt in a concentration of 100-300 g per 1000 ml, a soluble sulfosalicylic acid salt potassium or magnesium at a concentration of 100 to 300 g per 1 000 ml of water, a phosphorus compound selected from the group consisting of sodium hypophosphite and phosphorous acid at a concentration of 1 to 40 g per 1 000 ml of water and finally potassium bromide at a concentration of 1 to 50 g 1000 ml of water and anionic surfactant at a concentration of 0.01 to 10 g per 1000 ml of water.

Zmíněný bromid draselný, který může být nahrazen chloridem sodným nebo kobaltnatým o stejné koncentraci, slouží pro zlepšeni rozpustnosti kobaltových elektrod.Said potassium bromide, which may be replaced by sodium or cobalt chloride of the same concentration, serves to improve the solubility of the cobalt electrodes.

Zmíněné anionaktivni smáčedlo v koncentraci 0,01 až 10 g na 1 000 ml vody slouží k odstranění vodíkového pittingu. Zvláště výhodné je pro tento účel použít alkylsulfonany nebo sulfonované estery kyseliny jantarové.Said anionic surfactant in a concentration of 0.01 to 10 g per 1000 ml of water serves to remove hydrogen pitting. It is particularly preferred to use alkylsulfonates or sulfonated succinic esters for this purpose.

Fosfor se do elektrolytu přidává ve formě rozpustného fosfornanu nebo kyseliny fosforité. Koncentrace, solí fosforu se pohybuje v rozmezí 1 až 40 g na 1 000 ml elektrolytu. Koncentrace sloučenin fosforu v elektrolytu je závislá na požadovaném obsahu fosforu v povlaku.Phosphorus is added to the electrolyte in the form of soluble hypophosphite or phosphorous acid. The phosphorus salt concentration is in the range of 1 to 40 g per 1000 ml of electrolyte. The concentration of phosphorus compounds in the electrolyte is dependent on the desired phosphorus content of the coating.

Elektrolytická lázeň pro vylučování slitiny kobalt-fosfor pracuje při vyšším pH 2,5 až 4. Katodový proudový výtěžek se pohybuje v rozmezí 85 až 90 %, obsah fosforu v povlaku se pohybuje v rozmezí 1 až 10 % hmotnostních v závislosti na obsahu fosforu v elektrolytu. Vyloučené povlaky jsou lesklé, hladké a pružné.The cobalt-phosphorous electrolysis bath operates at a higher pH of 2.5 to 4. The cathode current yield is between 85 and 90%, the phosphorus content of the coating is between 1 and 10% by weight, depending on the phosphorus content of the electrolyte . The deposited coatings are glossy, smooth and elastic.

Vynález bude osvětlen následujícími příklady.The invention will be illustrated by the following examples.

Příklad 1Example 1

Elektrolyt má následující složení:The electrolyte has the following composition:

000 ml voda000 ml water

250 g síran kobaltnatý250 g cobalt sulphate

180 g sulfosalicylan heřeěnatý g bromid draselný 30 g fosfornan sodný180 g magnesium sulphosalicylate g potassium bromide 30 g sodium hypophosphite

0,1 g diisopropylnaftalensulfonan sodný0.1 g of sodium diisopropylnaphthalenesulfonate

Elektrolytická lázeň pracuje při pH 3,1. Elektrolyt se mechanicky míchá. Katodová prou2 dová hustota je 3 A/dm . Obsah fosforu v povlaku je 9,5 % hmotnostních.The electrolytic bath operates at a pH of 3.1. The electrolyte is mechanically stirred. The cathode current density is 3 A / dm. The phosphorus content of the coating is 9.5% by weight.

Příklad 2Example 2

Elektrolyt má následující složení:The electrolyte has the following composition:

000 ml voda000 ml water

300 g chlorid kobaltnatý g bromid draselný 10 g kyselina fosforitá300 g cobalt chloride g g potassium bromide 10 g phosphorous acid

180 g sulfosalicylan hořečnatý g diisopropylnaftalensulfonan sodný180 g magnesium sulfosalicylan g g sodium diisopropylnaphthalenesulfonate

Oprava pH se provádí uhličitanem nikelnatým na hodnotu 4,0. Obsah fosforu v povlaku je 2The pH is corrected with nickel carbonate to 4.0. The phosphorus content of the coating is 2

3,6 % hmotnostních. Katodová proudová hustota je 5 A/dm .3.6% by weight. The cathode current density is 5 A / dm.

Příklad 3Example 3

Elektrolyt má následující složeníThe electrolyte has the following composition

000 ml voda000 ml water

250 g síran kobaltnatý 180 g sulfosalicylan sodný g bromid draselný 30 g fosfornan sodný250 g cobalt sulphate 180 g sodium sulfosalicylate g potassium bromide 30 g sodium hypophosphite

0,1 g diisopropylnaftalensulfonan sodný0.1 g of sodium diisopropylnaphthalenesulfonate

P ř í k 1 < Example 1 < a d and d 4 4 Elektrolyt Electrolyte has následující složení following composition 1 000 1 000 ml ml voda water 250 250 g G síran kobaltnatý cobalt sulphate 180 180 g G sulfosalicylan draselný potassium sulfosalicylate 10 10 g G bromid draselný potassium bromide 30 30 g G fosfornan sodný sodium hypophosphite

0,1 g diisopropylnaftalensulfonan sodný0.1 g of sodium diisopropylnaphthalenesulfonate

Claims (1)

Elektrolyt pro katodické vylučování slitin kobaltu s fosforem, vyznačující se tím, že obsahuje anorganickou rozpustnou sůl kobaltu v koncentraci 100 až 300 g na 1 000 ml vody, rozpustnou sůl kyseliny sulfosalicylové, a to sodnou, draselnou nebo hořečnatou v koncentraci 190 až 300 g na 1 000 ml vody, dále sloučeninu fosforu zvolenou ze skupiny obsahující fosfornan sodný a kyselinu fosforitou v koncentraci 1 až 40 g na 1 000 ml vody a konečně bromid draselný v koncentraci 1 až 50 g na 1 000 ml vody a anionaktivní smáčedlo v koncentraci 0,01 až 10 g na 1 000 ml vody.Electrolyte for the cathodic deposition of cobalt-phosphorus alloys, characterized in that it contains an inorganic soluble cobalt salt in a concentration of 100 to 300 g per 1 000 ml of water, a soluble salt of sulphosalicylic acid, namely sodium, potassium or magnesium in a concentration of 190 to 300 g 1000 ml of water, a phosphorus compound selected from the group consisting of sodium hypophosphite and phosphorous acid at a concentration of 1-40 g per 1000 ml of water, and finally potassium bromide at a concentration of 1-50 g per 1000 ml of water, and an anionic surfactant at 0, 01 to 10 g per 1 000 ml of water.
CS239585A 1985-04-01 1985-04-01 Electrolyte for cathodic deposition of cobalt alloys with phosphorus CS253772B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS239585A CS253772B1 (en) 1985-04-01 1985-04-01 Electrolyte for cathodic deposition of cobalt alloys with phosphorus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS239585A CS253772B1 (en) 1985-04-01 1985-04-01 Electrolyte for cathodic deposition of cobalt alloys with phosphorus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS253772B1 true CS253772B1 (en) 1987-12-17

Family

ID=5360977

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS239585A CS253772B1 (en) 1985-04-01 1985-04-01 Electrolyte for cathodic deposition of cobalt alloys with phosphorus

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS253772B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
MD4331C1 (en) * 2014-07-02 2015-09-30 Институт Прикладной Физики Академии Наук Молдовы Process for preparing an aqueous gluconate electrolyte for deposition of nanocrystalline Co-W coatings

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
MD4331C1 (en) * 2014-07-02 2015-09-30 Институт Прикладной Физики Академии Наук Молдовы Process for preparing an aqueous gluconate electrolyte for deposition of nanocrystalline Co-W coatings

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1339116C (en) Process for electroplating pt onto a substrate
US3580820A (en) Palladium-nickel alloy plating bath
US4066517A (en) Electrodeposition of palladium
JP3135915B2 (en) Cyanide-free plating bath for electrodeposition of tin-zinc alloys
US3637474A (en) Electrodeposition of palladium
US2658032A (en) Electrodeposition of bright copper-tin alloy
GB2179676A (en) Zinc alloy electroplating
US4478692A (en) Electrodeposition of palladium-silver alloys
US3500537A (en) Method of making palladium coated electrical contacts
US4543167A (en) Control of anode gas evolution in trivalent chromium plating bath
US3892638A (en) Electrolyte and method for electrodepositing rhodium-ruthenium alloys
GB2046794A (en) Silver and gold/silver alloy plating bath and method
US4048023A (en) Electrodeposition of gold-palladium alloys
US4465563A (en) Electrodeposition of palladium-silver alloys
US20040031694A1 (en) Commercial process for electroplating nickel-phosphorus coatings
CS253772B1 (en) Electrolyte for cathodic deposition of cobalt alloys with phosphorus
US4422908A (en) Zinc plating
EP0088192B1 (en) Control of anode gas evolution in trivalent chromium plating bath
US4615774A (en) Gold alloy plating bath and process
US4411744A (en) Bath and process for high speed nickel electroplating
GB2094836A (en) A bath for the electrolytic deposition of a palladium-nickel alloy
CS253773B1 (en) Electrolyte for the cathodic deposition of alloys of cobalt with phosphorus
CA1050471A (en) Electroplating of rhodium-ruthenium alloys
US3867267A (en) Chromium plating
US20040050712A1 (en) Acid dip for zinc-manganese alloy electrodeposition