CS253772B1 - Electrolyte for cathodic deposition of cobalt alloys with phosphorus - Google Patents
Electrolyte for cathodic deposition of cobalt alloys with phosphorus Download PDFInfo
- Publication number
- CS253772B1 CS253772B1 CS239585A CS239585A CS253772B1 CS 253772 B1 CS253772 B1 CS 253772B1 CS 239585 A CS239585 A CS 239585A CS 239585 A CS239585 A CS 239585A CS 253772 B1 CS253772 B1 CS 253772B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- concentration
- water
- per
- electrolyte
- phosphorus
- Prior art date
Links
Landscapes
- Chemically Coating (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
Elektrolyt obsahuje anorganickou rozpustnou sůl kobaltu v koncentraci 100 až 300 g na 1 000 ml, rozpustnou sůl kyseliny sulfosalicylové, a to sodnou, draselnou nebo hořečnatou v koncentraci 100 až 300 g na 1 000 ml, vody, dále sloučeninu fosforu zvolenou ze skupiny obsahující fosfornan sodný a kyselinu fosforitou v koncentraci 1 až 40 g na 1 000 ml vody a konečně bromid draselný v koncentraci 1 až 50 g na 1 000 ml vody a anionaktivni smáčedlo v koncentraci 0,01 až 10 g na 1 000 ml vody.The electrolyte contains an inorganic soluble cobalt salt in a concentration of 100 to 300 g per 1,000 ml, a soluble salt of sulfosalicylic acid, namely sodium, potassium or magnesium, in a concentration of 100 to 300 g per 1,000 ml, water, a phosphorus compound selected from the group consisting of sodium phosphate and phosphorous acid in a concentration of 1 to 40 g per 1,000 ml of water, and finally potassium bromide in a concentration of 1 to 50 g per 1,000 ml of water and an anionic surfactant in a concentration of 0.01 to 10 g per 1,000 ml of water.
Description
Vynález se týká elektrolytu pro katodické vylučováni slitin kobaltu s fosforem.The invention relates to an electrolyte for cathodic deposition of cobalt-phosphorus alloys.
Dosud známé a v literatuře uváděné elektrolyty pro katodické vylučování slitiny kobaltu s fosforem používají jednoduchých anorganických kobaltnatých solí rozpustných ve vodě, například síranů, chloridů, fluoroboritanů a sloučenin fosforu ve formě jednovazné nebo trojvazné, například může jít o fosfornany nebo fosforitany. Tyto elektrolyty pracuji při nízkém pH 1 až 2. Nízká hodnota pH je také příčinou nízkého katodového proudového výtěžku a vysokého makropnutí, které způsobuje praskání povlaku zvláště při jeho velkých tlouštkách. Nízký katodový proudový výtěžek způsobuje změnu koncentrace kobaltu v elektrolytu zvláště při dlouhodobém pokovování.The prior art electrolytes for the cathodic deposition of a cobalt-phosphorus alloy use simple water-soluble inorganic cobalt salts, for example, sulfates, chlorides, fluoroborates and phosphorus compounds in the form of monovalent or trivalent, for example, hypophosphites or phosphites. These electrolytes operate at a low pH of 1 to 2. A low pH also causes low cathode current yield and high macro-tension, which causes the coating to crack, especially at high thicknesses. The low cathode current yield causes a change in the cobalt concentration in the electrolyte, especially during long term plating.
Výše uvedené nedostatky známých elektrolytů odstraňuje elektrolyt pro katodické vylučováni slitin kobaltu s fosforem podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že elektrolyt obsahuje anorganickou rozpustnou sůl kobaltu v koncentraci 100 až 300 g na 1 000 ml·, rozpustnou sůl kyseliny sulfosalicylové, a to sodnou, draselnou nebo horečnatou v koncentraci 100 až 300 g na 1 000 ml vody, dále sloučeninu fosforu zvolenou ze skupiny obsahující fosfornan sodný a kyselinu fosforitou v koncentraci 1 až 40 g na 1 000 ml vody a konečně bromid draselný v koncentraci 1 až 50 g na 1 000 ml vody a anionaktivni smáčedlo v koncentraci 0,01 až 10 g na 1 000 ml vody.The aforementioned drawbacks of the known electrolytes are eliminated by the electrolyte for the cathodic deposition of cobalt-phosphorus alloys according to the invention, characterized in that the electrolyte contains an inorganic soluble cobalt salt in a concentration of 100-300 g per 1000 ml, a soluble sulfosalicylic acid salt potassium or magnesium at a concentration of 100 to 300 g per 1 000 ml of water, a phosphorus compound selected from the group consisting of sodium hypophosphite and phosphorous acid at a concentration of 1 to 40 g per 1 000 ml of water and finally potassium bromide at a concentration of 1 to 50 g 1000 ml of water and anionic surfactant at a concentration of 0.01 to 10 g per 1000 ml of water.
Zmíněný bromid draselný, který může být nahrazen chloridem sodným nebo kobaltnatým o stejné koncentraci, slouží pro zlepšeni rozpustnosti kobaltových elektrod.Said potassium bromide, which may be replaced by sodium or cobalt chloride of the same concentration, serves to improve the solubility of the cobalt electrodes.
Zmíněné anionaktivni smáčedlo v koncentraci 0,01 až 10 g na 1 000 ml vody slouží k odstranění vodíkového pittingu. Zvláště výhodné je pro tento účel použít alkylsulfonany nebo sulfonované estery kyseliny jantarové.Said anionic surfactant in a concentration of 0.01 to 10 g per 1000 ml of water serves to remove hydrogen pitting. It is particularly preferred to use alkylsulfonates or sulfonated succinic esters for this purpose.
Fosfor se do elektrolytu přidává ve formě rozpustného fosfornanu nebo kyseliny fosforité. Koncentrace, solí fosforu se pohybuje v rozmezí 1 až 40 g na 1 000 ml elektrolytu. Koncentrace sloučenin fosforu v elektrolytu je závislá na požadovaném obsahu fosforu v povlaku.Phosphorus is added to the electrolyte in the form of soluble hypophosphite or phosphorous acid. The phosphorus salt concentration is in the range of 1 to 40 g per 1000 ml of electrolyte. The concentration of phosphorus compounds in the electrolyte is dependent on the desired phosphorus content of the coating.
Elektrolytická lázeň pro vylučování slitiny kobalt-fosfor pracuje při vyšším pH 2,5 až 4. Katodový proudový výtěžek se pohybuje v rozmezí 85 až 90 %, obsah fosforu v povlaku se pohybuje v rozmezí 1 až 10 % hmotnostních v závislosti na obsahu fosforu v elektrolytu. Vyloučené povlaky jsou lesklé, hladké a pružné.The cobalt-phosphorous electrolysis bath operates at a higher pH of 2.5 to 4. The cathode current yield is between 85 and 90%, the phosphorus content of the coating is between 1 and 10% by weight, depending on the phosphorus content of the electrolyte . The deposited coatings are glossy, smooth and elastic.
Vynález bude osvětlen následujícími příklady.The invention will be illustrated by the following examples.
Příklad 1Example 1
Elektrolyt má následující složení:The electrolyte has the following composition:
000 ml voda000 ml water
250 g síran kobaltnatý250 g cobalt sulphate
180 g sulfosalicylan heřeěnatý g bromid draselný 30 g fosfornan sodný180 g magnesium sulphosalicylate g potassium bromide 30 g sodium hypophosphite
0,1 g diisopropylnaftalensulfonan sodný0.1 g of sodium diisopropylnaphthalenesulfonate
Elektrolytická lázeň pracuje při pH 3,1. Elektrolyt se mechanicky míchá. Katodová prou2 dová hustota je 3 A/dm . Obsah fosforu v povlaku je 9,5 % hmotnostních.The electrolytic bath operates at a pH of 3.1. The electrolyte is mechanically stirred. The cathode current density is 3 A / dm. The phosphorus content of the coating is 9.5% by weight.
Příklad 2Example 2
Elektrolyt má následující složení:The electrolyte has the following composition:
000 ml voda000 ml water
300 g chlorid kobaltnatý g bromid draselný 10 g kyselina fosforitá300 g cobalt chloride g g potassium bromide 10 g phosphorous acid
180 g sulfosalicylan hořečnatý g diisopropylnaftalensulfonan sodný180 g magnesium sulfosalicylan g g sodium diisopropylnaphthalenesulfonate
Oprava pH se provádí uhličitanem nikelnatým na hodnotu 4,0. Obsah fosforu v povlaku je 2The pH is corrected with nickel carbonate to 4.0. The phosphorus content of the coating is 2
3,6 % hmotnostních. Katodová proudová hustota je 5 A/dm .3.6% by weight. The cathode current density is 5 A / dm.
Příklad 3Example 3
Elektrolyt má následující složeníThe electrolyte has the following composition
000 ml voda000 ml water
250 g síran kobaltnatý 180 g sulfosalicylan sodný g bromid draselný 30 g fosfornan sodný250 g cobalt sulphate 180 g sodium sulfosalicylate g potassium bromide 30 g sodium hypophosphite
0,1 g diisopropylnaftalensulfonan sodný0.1 g of sodium diisopropylnaphthalenesulfonate
0,1 g diisopropylnaftalensulfonan sodný0.1 g of sodium diisopropylnaphthalenesulfonate
Claims (1)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS239585A CS253772B1 (en) | 1985-04-01 | 1985-04-01 | Electrolyte for cathodic deposition of cobalt alloys with phosphorus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS239585A CS253772B1 (en) | 1985-04-01 | 1985-04-01 | Electrolyte for cathodic deposition of cobalt alloys with phosphorus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS253772B1 true CS253772B1 (en) | 1987-12-17 |
Family
ID=5360977
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS239585A CS253772B1 (en) | 1985-04-01 | 1985-04-01 | Electrolyte for cathodic deposition of cobalt alloys with phosphorus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS253772B1 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| MD4331C1 (en) * | 2014-07-02 | 2015-09-30 | Институт Прикладной Физики Академии Наук Молдовы | Process for preparing an aqueous gluconate electrolyte for deposition of nanocrystalline Co-W coatings |
-
1985
- 1985-04-01 CS CS239585A patent/CS253772B1/en unknown
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| MD4331C1 (en) * | 2014-07-02 | 2015-09-30 | Институт Прикладной Физики Академии Наук Молдовы | Process for preparing an aqueous gluconate electrolyte for deposition of nanocrystalline Co-W coatings |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA1339116C (en) | Process for electroplating pt onto a substrate | |
| US3580820A (en) | Palladium-nickel alloy plating bath | |
| US4066517A (en) | Electrodeposition of palladium | |
| JP3135915B2 (en) | Cyanide-free plating bath for electrodeposition of tin-zinc alloys | |
| US3637474A (en) | Electrodeposition of palladium | |
| US2658032A (en) | Electrodeposition of bright copper-tin alloy | |
| GB2179676A (en) | Zinc alloy electroplating | |
| US4478692A (en) | Electrodeposition of palladium-silver alloys | |
| US3500537A (en) | Method of making palladium coated electrical contacts | |
| US4543167A (en) | Control of anode gas evolution in trivalent chromium plating bath | |
| US3892638A (en) | Electrolyte and method for electrodepositing rhodium-ruthenium alloys | |
| GB2046794A (en) | Silver and gold/silver alloy plating bath and method | |
| US4048023A (en) | Electrodeposition of gold-palladium alloys | |
| US4465563A (en) | Electrodeposition of palladium-silver alloys | |
| US20040031694A1 (en) | Commercial process for electroplating nickel-phosphorus coatings | |
| CS253772B1 (en) | Electrolyte for cathodic deposition of cobalt alloys with phosphorus | |
| US4422908A (en) | Zinc plating | |
| EP0088192B1 (en) | Control of anode gas evolution in trivalent chromium plating bath | |
| US4615774A (en) | Gold alloy plating bath and process | |
| US4411744A (en) | Bath and process for high speed nickel electroplating | |
| GB2094836A (en) | A bath for the electrolytic deposition of a palladium-nickel alloy | |
| CS253773B1 (en) | Electrolyte for the cathodic deposition of alloys of cobalt with phosphorus | |
| CA1050471A (en) | Electroplating of rhodium-ruthenium alloys | |
| US3867267A (en) | Chromium plating | |
| US20040050712A1 (en) | Acid dip for zinc-manganese alloy electrodeposition |