CS256328B1

CS256328B1 - Additive to weakly acid galvanizing baths and containing organic keto compounds

Info

Publication number: CS256328B1
Application number: CS864016A
Authority: CS
Inventors: Jiri Coller; Zbynek Kuehnl; Milos Novotny; Jiri Zaruba
Original assignee: Jiri Coller; Zbynek Kuehnl; Milos Novotny; Jiri Zaruba
Priority date: 1986-06-02
Filing date: 1986-06-02
Publication date: 1988-04-15
Also published as: CS401686A1

Abstract

Přísada složena ze sloučenin obecného vzorce 1, kde znamená R^-fenyl, mono-, dinebo tri-methylfenyl, mono-, di- nebo tri- -hydroxifenyl, mono-, di- nebo tri-methoxyfenyl, mono-, di- nebo tri-ethoxyfenyl, furfuryl, pyridyl, Rg-alkyl, alkenyl, alkoxyl o počtu uhlíků 1 až 12, -CH=CH-C&H5, R - (CH - CH) - C - (X) n-0 nebo 1, jež obsahuje samotné nebo ve X n M směsích. Působí jako účinný inhibitor ved- N - OH lejších chemických a elektrochemických reakcí, při kterých dochází k degradaci organických ketosloučenin, jež jako součást leskutvorných přísad zajištují technické parametry zinkových povlaků, vylu- >· ■ čovaných ze slabě kyselých lázní. Optimální koncentrace přísady je 0,0005 až 0,05 g na 1 000 ml lázně.An additive composed of compounds of the general formula 1, where R^ means -phenyl, mono-, di- or tri-methylphenyl, mono-, di- or tri- -hydroxyphenyl, mono-, di- or tri-methoxyphenyl, mono-, di- or tri-ethoxyphenyl, furfuryl, pyridyl, Rg-alkyl, alkenyl, alkoxyl with a number of carbons from 1 to 12, -CH=CH-C&H5, R - (CH - CH) - C - (X) n-0 or 1, which is contained alone or in X n M mixtures. It acts as an effective inhibitor of secondary chemical and electrochemical reactions, during which organic keto compounds are degraded, which as part of gloss-forming additives ensure the technical parameters of zinc coatings deposited from weakly acidic baths. The optimal concentration of the additive is 0.0005 to 0.05 g per 1,000 ml of bath.

Description

Vynález se týká přísady do galvanických slabé kyselých zinkovacích lázní s obsahem amonných solí, tj. na bázi chloridu nebo síranu zinečnatého, chloridu nebo octanu amonného, případ™ ne. obou, nebo bez amonných solí, tj. na bázi chloridu nebo síranu zinečnatého, chloridu sodného nebo draselného a kyseliny boříte a s obsahem leskutvorných přísad založených na bázi organických ketosloučenin.The invention relates to an additive for galvanic weak acid zinc baths containing ammonium salts, i.e. based on zinc chloride or zinc sulfate, ammonium chloride or acetate, optionally. both, or without ammonium salts, i.e. based on zinc chloride or sulfate, sodium or potassium chloride and acid, and with a content of brightening agents based on organic keto compounds.

Pro zajištění vhodných technických parametrů zinkových povlaků vylučovaných ze slabě kyselých lázní, tj. vyrovnávání, lesku, vnitřního pnutí, tažnosti atd. byla v minulosti navržena cel á řada organických látek spolu s účinnými tenzidy, jež zajištují jejich emulgaci v roztoku. Jako nejefektivnější z těchto látek se jeví ketosloučeníny, při jejichž použití se dosahuje nejvýhodnějších hodnot parametrů povlaků. Obvykle jsou zakomponovány spolu s tenzidy a dalšími organickými látkami do leskutvorných přísad, jež se do galvanické lázně dávkují na základě prošlého elektrického náboje a velikosti výnosu na zboží. Během pokovování se sorbují na aktivní centra kovového povrchu a přispívají tak k rozmnožení krystalizačních center, což je podmínkou vzniku jemně krystalických depozitů,a současně brzdí vylučování na vrcholech mikronerovností, tj. jsou příčinou vyrovnávacího efektu. Následně dochází k jejich elektrochemické degradaci a odplavení rozkladných produktů do roztoku.In order to provide suitable technical parameters of zinc coatings excreted from weakly acidic baths, ie leveling, gloss, internal stress, ductility, etc., a number of organic substances have been proposed in the past together with effective surfactants to ensure their emulsification in solution. The ketone compounds appear to be the most effective of these substances, which use the most advantageous coating parameter values. They are usually incorporated, together with surfactants and other organic substances, into brighteners, which are dosed into the galvanic bath on the basis of the electrical charge passed through and the amount of product yield. During plating, they become adsorbed to the active centers of the metal surface, thus contributing to the multiplication of crystallization centers, which is a precondition for the formation of finely crystalline deposits, and at the same time inhibit the deposition at the peaks of micronerities, i.e. they cause a smoothing effect. Subsequently, their electrochemical degradation occurs and the decomposition products are washed away into solution.

Vedle tohoto procesu, který přímo souvisí s vylučováním povlaků, probíhají v roztoku vedlejší chemické a elektrochemické reakce, při kterých dochází k degradaci ketosloučenin, sniž by se podílely na vlastním pokovení. Tyto reakce způsobují ztráty účinné' látky a současně zvyšují koncentrsci nežádoucích rozkladných produktů, jež se musí z lázně periodicky odstraňovat.In addition to this process, which is directly related to the deposition of coatings, side chemical and electrochemical reactions take place in the solution, in which the keto compounds are degraded, reducing their contribution to the actual plating. These reactions cause losses of the active ingredient and at the same time increase the concentration of undesirable decomposition products, which must be periodically removed from the bath.

vin

Popsané nedostatky odstraňuje přísada podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že přísada je tvořena sloučeninamiThe described drawbacks are overcome by the additive according to the invention, which consists in that the additive consists of compounds

- 2 256 328 obecného vzorce «- 2 256 328 of the general formula «

R, - (CH = CH) - G - R₉, x η μ - c.R, - (CH = CH) - G - R ₉ , x η μ - c.

N - OH kde znamená R^ - fenyl, mono-, di- nebo tri-methylfenyl, mono-, di- nebo tri-hydroxifenyl, mono-, di- nebo tri-methoxyfenyl, mono-, di- nebo tri-ethoxyfenyl, furfuryl, pyridyl.N-OH wherein R 1 is phenyl, mono-, di- or tri-methylphenyl, mono-, di- or tri-hydroxiphenyl, mono-, di- or tri-methoxyphenyl, mono-, di- or tri-ethoxyphenyl, furfuryl, pyridyl.

Rg - alkyl, alkenyl, alkoxyl o počtu uhlíků 1 až 12R 8 is alkyl, alkenyl, alkoxy having a carbon number of 1 to 12

-ch=ch-c₆h₅.-CH = CH-C ₆ H _fifth

n - 0 nebo 1, jež obsahuje samotné nebo ve směsích.n - 0 or 1, which contains alone or in mixtures.

Bylo zjištěno, že tato přísada má schopnost působit jako inhibitor vedlejších chemických a elektrochemických reakcí, které účinně potlačuje. Aplikace přísady do zinkovácí lázně se projevuje efektivnějším využitím organických ketosloučenin při galvanickém pokovení. Tento efekt se zvláště výrazně projevuje v lázních s velkým proudovým zatížením, kde podíl vedlejších reakcí silně narůstá. Optimální koncentrace přísady je 0,0005 až 0,05 g na 1000 ml lázně. Je vhodné ji nadávkovat přímo do doplňovací leskutvorné přísady s obsahem ketosloučenin a tak zajistit udržování její koncentrace v doporučeném rozmezí.It has been found that this additive has the ability to act as an inhibitor of side chemical and electrochemical reactions that it effectively suppresses. Application of the additive to the galvanizing bath results in a more efficient use of organic keto compounds in the electroplating. This effect is particularly pronounced in spas with a high current load, where the proportion of side reactions increases strongly. The optimum additive concentration is 0.0005 to 0.05 g per 1000 ml bath. It is advisable to dispense it directly into a ketone-containing shining additive to ensure that its concentration is maintained within the recommended range.

Podrobné vysvětlení je podáno na následujících příkladech.A detailed explanation is given in the following examples.

Příklad 1Example 1

0, OOlá^oximu acetofenonu bylo nadávkováno do slabě kyselé zinkovácí lázně s obsahem 70 g chloridu zinečnatého, 30 g kyseliny borité, 175 δ chloridu draselného, 3 g 4-methoxybenzoanu sodného, 12 g neionogenního tenzidu (5 ethoxylových skupin v molekule), 3 g kopolymeru ethylen a propylenoxidu (m.h. 2500), 0,03 g methylnaftylketonu a 0,2 g benzylidenacetonu v 1000 ml. Lázeň byla zatížena stejnosměrným proudem až do průchodu náboje 150 A.h na 1000 ml. Během této doby byl po průchodu 10 A.h na 1000 ml periodicky doplňován methylnaftylketon a benzylidenaceton v příslušném poměru tak, aby bylo dosaženo shodné úrovně lesku vylučovaných povlaků, jako na začátku pokusu. Srovnání bylo provedeno na zkušebních panelech pokovených v HullověAcetophenone oxime (1.0) was charged into a weakly acid zinc bath containing 70 g of zinc chloride, 30 g of boric acid, 175 δ of potassium chloride, 3 g of sodium 4-methoxybenzoate, 12 g of non-ionic surfactant (5 ethoxy groups per molecule), 3 g of ethylene-propylene oxide copolymer (MW 2500), 0.03 g of methyl naphthyl ketone and 0.2 g of benzylideneacetone in 1000 ml. The bath was charged with a direct current until a charge of 150 A.h per 1000 ml was passed. During this time methyl naphthyl ketone and benzylideneacetone were periodically replenished after passing 10 A.h per 1000 ml to give the same gloss level of the deposited coatings as at the start of the experiment. The comparison was made on test panels plated in Hull

- 3 256 328 cele. Shodná zkouška byla provedena v lázni bez obsahu oximu acetofenonu. Spotřeba ketosloučenin byla v lázni s nadávkovaným oximem o 8 až ícjfc nižší.- 3 256 328 cells. The same test was performed in an acetophenone oxime-free bath. The ketone consumption was 8 to 10% lower in the oxime feed bath.

Přiklad 2Example 2

0,0005 g oximu acetofenonu a 0,0005 g oximu benzylidenacetonu bylo nadávkováno do zinkovací lázně podle příkladu 1, jež byla zatížena stejnosměrným proudem shodně jako v příkladu 1, Spotřeba ketosloučenin byla v lázni s nadávkovanou směsí oximů o 12 až 15t& nižší.0.0005 g of acetophenone oxime and 0.0005 g of benzylideneacetone oxime were metered into the zinc bath of Example 1, which was charged with a direct current as in Example 1. The ketone compound consumption was 12 to 15 < t >

Příklad 3Example 3

0,001 g oximu benzylidenacetonu bylo nadávkováno do zinkovací lázně podle příkladu 1, jež byla zatížena stejnosměrným proudem shodně jako v příkladu 1.0.001 g of benzylideneacetone oxime was metered into the galvanizing bath of Example 1, which was charged with a direct current as in Example 1.

Spotřeba ketosloučenin byla v lázni s nadávkovaným oximem o 6 až 8p nižší.The consumption of keto compounds was 6 to 8p lower in the oxime dosed bath.

nich. družstev.them. cooperatives.

Claims

BACKGROUND OF THE INVENTION 256 328 A malt acid zinc bath additive with a content of organic ketone compounds, which is crucially involved in the formation of excreted coating parameters, ie, leveling, gloss, internal stress, ductility, and galvanic bath, ie. depth efficiency and hiding power having the ability to act as an inhibitor of side chemical and electrochemical reactions, characterized in that it consists of compounds of the formula R-, - (CH = CH) - C - R9, ± n 'N - OH wherein R 4 is phenyl, mono-, di- or trimethylphenyl, mono-, di- or tri-hydroxyphenyl, mono-, di- or tri-methoxyphenyl, mono-, di- or triethoxyphenyl, furfuryl, pyrrolidine, R8-alkyl, alkenyl, alkoxy of 1 to 12, -CH = CH-OgH5, n-0 or 1, containing alone or in mixtures.