CS271682B1 - Admixture for currentless copper plating bath - Google Patents

Admixture for currentless copper plating bath Download PDF

Info

Publication number
CS271682B1
CS271682B1 CS873149A CS314987A CS271682B1 CS 271682 B1 CS271682 B1 CS 271682B1 CS 873149 A CS873149 A CS 873149A CS 314987 A CS314987 A CS 314987A CS 271682 B1 CS271682 B1 CS 271682B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
copper
additive
addition
millilitres
fold
Prior art date
Application number
CS873149A
Other languages
Czech (cs)
Other versions
CS314987A1 (en
Inventor
Jiri Ing Koziorek
Zbynek Ing Kuhnl
Milos Ing Novotny
Josef Stepanek
Jiri Zaruba
Original Assignee
Jiri Ing Koziorek
Kuhnl Zbynek
Novotny Milos
Josef Stepanek
Jiri Zaruba
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jiri Ing Koziorek, Kuhnl Zbynek, Novotny Milos, Josef Stepanek, Jiri Zaruba filed Critical Jiri Ing Koziorek
Priority to CS873149A priority Critical patent/CS271682B1/en
Publication of CS314987A1 publication Critical patent/CS314987A1/en
Publication of CS271682B1 publication Critical patent/CS271682B1/en

Links

Landscapes

  • Chemically Coating (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

The additive is formed by the compounds according to the general formula<IMAGE>,where R1 = aliphatic alkyl with 1 to 12 carbons, R2 = H -, Na -, K -, x and y = integral number 1 to 10, which it contains separately or in mixtures. It is applied in the amount of 0.01 to 0.50 grams per 1,000 millilitres of the solution for the electroless elimination of the copper plates on the steel base material. The solution is based on cupric sulphide, sulphur acid, derivates of diaminodiphenylmethane, polyethylene glycols, and anionic tensides, which are prepared by sulphonation of aliphatic alcohols. The efficiency of the additive is further increased by the addition of chloride ions in the form of chlorides of the alkali metals in the amount of 3.0 to 10.0 grams per 1,000 millilitres. It has the ability to refine the microstructure of the eliminated copper and increase its adhesion so that it enables the four-fold to five-fold copper-plated steel wire drawing that is required.

Description

(57) Přísad© je tvořena sloučeninami podle obecného vzorca(57) The additive © consists of compounds of the general formula

- ch - (ch2)x - CH - CH - (сн2)у - coor2 0 - SO OH kde znamenají e alifatický alkyl o 1 až 12ti uhlících, R2 H -, Na -, К -, x а у » celé číslo 1 až* 10, jež obsahuje samotné nebo ve směsích. Aplikuje se v množství 0,01 až 0,50 g na 1000 ml lázně pro bezproudové vylučování měděných vrstev na ocelověn základním materiálu, jež je* založena na bázi síranu mědnatěho, kyseliny sírové, derivátů diaminodifenylmethenu, polyethylenglykolů a anionaktivních tenzidů připravených sulfonací alifatických alkoholů.- ch - (ch 2 ) x - CH - CH - (сн 2 ) у - coor 2 0 - SO OH where ε means aliphatic alkyl of 1 to 12 carbons, R 2 H -, Na -, К -, x а у »An integer of 1 to * 10, which it contains alone or in mixtures. It is applied in an amount of 0.01 to 0.50 g per 1000 ml bath for electroless deposition of copper layers on a steel base material based on copper sulfate, sulfuric acid, diaminodiphenylmethene derivatives, polyethylene glycols and anionic surfactants prepared by sulfonation of aliphatic alcohols.

Účinnost přísady se ještě zvyšuje přídavkem chloridových iontů ve formě chloridů alkalických kovů v množství 3,0 až 10,0 g na 1000 ml. Má schopnost zjemňovat mikrostrukturu vyloučené mědi a zvyšovat její přilnavost tak,že umožňuje v praxi požadované čtyř až pětinásobné tažení poměděného ocelového drátu.The efficacy of the additive is further enhanced by the addition of chloride ions in the form of alkali metal chlorides in an amount of 3.0 to 10.0 g per 1000 ml. It has the ability to soften the microstructure of the deposited copper and to increase its adhesion so that it allows in practice the required four to five times the drawing of the copper-coated steel wire.

271 271 682 682 (11) Italy (11) (13) (13) B1 B1 (51) (51) Int. Cl.5 C 23 C 18/38Int. Cl. 5 C 23 C 18/38

CS 271682 BlCS 271682 Bl

Vynález ee týká přleady do bezproudová mádici lázně na bázi eiranu mádnatého, kyseliny sirové, derivátů diaminodefenylmathanu, polyethylenglykolů a aminoaktivnich tenzidů.The invention relates to the addition of a current-free bath based on cupric eiran, sulfuric acid, diaminodephenylmethane derivatives, polyethylene glycols and aminoactive surfactants.

Bezproudově vylučované mšděné vrstvy aa v největší míře využívají při tažení ocelových drátů průvlaky. Na přilnavoat a fyzikální vlaatnoati těchto vratev Jsou kladeny značná nároky, protože muaí baz poruěaní souvislosti povlaku pokrývat povrch drátu při několikanásobném tažení. Vratvy muaí být velmi pevně zakotveny na krystalové mřížce základního materiálu a dálo musí mít vhodnou mikrostrukturu, která rozhodujícím způsobem ovlivňuje fyzikální vlastnosti z hlediska tažení.Current-free copper layers and and most of all use dies for drawing steel wires. There are considerable demands on the adhesion and physical vlaatnoati of these gates, since the failure of the coherence of the coating to cover the surface of the wire during multiple drawing is required. The gates must be very firmly anchored to the crystal lattice of the base material, and must have a suitable microstructure that decisively affects the physical properties in terms of drawing.

Přilnavost měděných vratev získávaných cementací z roztoků síranu měčnatého a kyseliny sírové je nízká. Povlaky Jsou tvořeny relativně velkými krystality, což je způsobeno příliš vysokou rychlostí vylučování mědi v důsledku značného rozdílu mezi elektrochemickými potenciály železa a mědi. Proto se ionty dvojmocné mědi vážou do silných komplexů s organickými sloučeninami např* s deriváty diaminodifenylmethanu, které výrazně snižují rychlost vylučováni. To Je provázeno vzrůstem přilnavosti a vznikem jemně krystalické struktury. Zlepšení přináší i přídavky povrchově aktivních látek do roztoků např. polyethylenglykolů s anionaktivnich tenzidů připravených sulfonací alifatických alkoholů· I když зе tak přilnavost a fyzikální vlastnosti měděných vrstev výrazně zlepšuji, stále není možno s nimi realizovat vícenásobný tah.The adhesion of the copper gates obtained by cementing from solutions of cupric sulphate and sulfuric acid is low. Coatings are formed by relatively large crystallites, which is caused by too high a rate of copper deposition due to the considerable difference between the electrochemical potentials of iron and copper. Therefore, divalent copper ions bind to strong complexes with organic compounds such as diaminodiphenylmethane derivatives, which significantly reduce the rate of excretion. This is accompanied by an increase in adhesion and a fine crystalline structure. The addition of surfactants to solutions such as polyethylene glycols with anionic surfactants prepared by sulfonation of aliphatic alcohols also improves.

Popsané nedostatky odstraňuje přísada podle vynálezu, jejíž podstata spočívá v tom, že je tvořena sloučeninami obecného vzorceThe above-mentioned drawbacks are overcome by the additive according to the invention, which consists of the compounds of the general formula

Rr - CH - (CH2^ - CH - CH - (CH2) - C00R2,'R R - CH - (CH2 ^ - CH - CH - (CH2) - C00R 2 '

O - S020H kdeO - SO 2 0H where

R^ js alifatický alkyl o 1 až 12ti uhlících, R2 je H-, Na-, K,· x,y je celé Číslo 1 až 10, jež obsahuje samotné nebo ve směsích.R 1 is an aliphatic alkyl of 1 to 12 carbons, R 2 is H-, Na-, K, x, y is an integer of 1 to 10, which it contains alone or in mixtures.

Bylo zjištěno, že tato přísada má schopnost se v roztocích s obsahem síranu měčnatého, kyseliny sírové, derivátů diaminodifenylmsthanu, polyethylenglykolů a anionaktivnich tenzidů připravených eulfonací alifatických alkoholů sorbovat na aktivní centra krystalové mřížky podkladního kovu, a tak účinně bránit okamžitému přístupu komplexních iontů mědi. Výsledkem Je snížení rychlosti chemické reakce. Účinnost přísady se Ještě zvyšuje přídavkem chloridových alkalických kovů, které spolu s kyselinou sírovou a přísadou podle vynálezu způsobují rozmnoženi počtu aktivních center a tím výrazné zjemněni mikrostruktury vyloučené mědi. Měděné povlaky pak vykazují přilnavost a fyzikální vlastnosti dostatočné к tomu, aby s takto upravenými ocelovými dráty bylo možno realizovat v praxi požadované Čtyř ež pětinásobné tažení. Přísadu j© vhodné do roztoků dávkovat v množství 0,01 až 0,5 g chloridové ionty v množství 3,0 až 10,0 g na 1 000 ml. Podrobné vysvětleni je podáno na následujících příkladech.It has been found that this additive has the ability to adsorb to active centers of the crystal lattice of the parent metal to effectively inhibit the immediate access of complex copper ions in solutions containing cupric sulfate, sulfuric acid, diaminodiphenylmethane derivatives, polyethylene glycols and anionic surfactants prepared by eulfonation of aliphatic alcohols. The result is a reduction in the chemical reaction rate. The efficiency of the additive is further enhanced by the addition of alkali metal chloride, which together with the sulfuric acid and the additive according to the invention cause an increase in the number of active centers and thus a marked refinement of the microstructure of the deposited copper. The copper coatings then exhibit adhesion and physical properties sufficient to achieve in practice the required four- to five-fold drawing with the steel wires thus treated. It is suitable to add 0.01 to 0.5 g of chloride ions to the solutions in amounts of 3.0 to 10.0 g per 1000 ml. A detailed explanation is given in the following examples.

Přiklad 1Example 1

Válcovaný ocelový drát o průměru 5,6 mm byl poměděn v lázni pro bezproudové vylučováni měděných povlaků o složení 25 g síranu mědnatého, 70 g kyseliny sirové, 1,2 g tetrámethyldiaminodifenylmethaqu,l 0,25 g polyethylenglykolu o m. h. 400, 1,5 g polyethylenglykolu o m. h. 4 000, 0,15 g anionaktivního tenzidu připraveného sulfonací alifatického alkoholu o 13 až 15ti uhlících na 1 000 ml vodného roztoku při teplotě 50 °C a expoziční době 5 minut. Takto připravený drát byl čtyřikrát tažen průvlaky o průměrech 4,00, 4,17, 3,55 a 3,08 mm. Oiž při druhém tahu se měděné vrstva projevila jako nepevná a málo přilnavá a došlo к jejímu místnímu odlupování. Do lázně bylo přidáno 0/5 g přísady podle vynálezu,· kds R^ - CH3(CH2)5 -, R2 Na x - 1, у - 7 a 10 g chloridu sodného. Válcovaný ocelový drát byl poměděn a tažen za shcdných podmínek jako v předchozím případě. I po čtvrtém tahu byl povrch drátu pokryt souvislou, pevně lnoucí vrstvou mědi.Rolled steel wire of diameter 5.6 mm was copper plated in a bath for electroless copper coatings secretion of 25 g of copper sulfate, 70 g of sulfuric acid, 1.2 g tetrámethyldiaminodifenylmethaqu l 0.25 g of polyethylene glycol of MW 400, 1.5 g of polyethylene glycol of 4000, 0.15 g of anionic surfactant prepared by sulfonation of an aliphatic alcohol of 13 to 15 carbons per 1000 ml of an aqueous solution at 50 ° C and an exposure time of 5 minutes. The wire prepared in this way was pulled four times with dies of 4.00, 4.17, 3.55 and 3.08 mm in diameter. Already in the second stroke, the copper layer proved to be unstable and poorly adhering and there was a local peeling. 0/5 g of the additive according to the invention were added to the bath, kd R R - CH 3 (CH 2 ) 5 -, R 2 Na x - 1, у - 7 and 10 g of sodium chloride. The rolled steel wire was copper-plated and drawn under the same conditions as in the previous case. Even after the fourth stroke, the wire surface was covered with a continuous, firmly adhering layer of copper.

Přiklad 2Example 2

Válcovaný ocelový drát byl poměděn v lázni jako v přikladu 1 a přídavkem 0,05 g přísady, kde R^ - снз(сн2)5 R2 * Na ** x У 7 e 0#01, 9 P^ady, kde R^ -2-ethylhexyl, Rg ~,K -, x - 4, у - 7 a 10 g chloridu sodného· Teplota lázně byla 50 °C, expoziční doba 5 minut· Tažen byl za shodných podmínek jako v příkladu 1· I po čtvrtém tahu byl povrch drátu pokryt eouvielou, dobře přilnavou vrstvou mědi·Rolled steel wire has been copper plated in the bath as in Example 1 and 0.05 g of additive, wherein R ^ - сн з (сн 2) 5 2 * R ** Na x У 7 e # 0 01 9 P-series, wherein R-2-ethylhexyl, Rg-, K-, x-4, у-7 and 10 g of sodium chloride · bath temperature was 50 ° C, exposure time 5 minutes · drawn under the same conditions as in example 1 · after on the fourth stroke, the wire surface was covered with an eouviel, well adhering copper layer ·

Přiklad 3Example 3

Válcovaný ocelový drát byl poměděn v lázni jako v přikladu 1 e přídavkem 0,05 g přísady, kde R^ - CH3(CHg)5 Rj * Na x * У * 7 a °·03 9 přísady, kdo R^ - izobutyl, Rg -, Na -, x - 2, у - 2 a 10 g chloridu sodného· Teplota lázně byla 50 °C, expoziční doba 5 minut· Tažen byl za shodných podmínek jako v přikladu 1· Povrch drátu byl i po čtvrtém tahu pokryt souvislou, pevně lnoucí vretvou mědi·The rolled steel wire was copper-plated in the bath as in Example 1e by the addition of 0.05 g of the additive, where R ^ - CH 3 (CHg) 5 Rj * Na x * У * 7 and ° · 03 9 additive, who R ^ - isobutyl, Rg -, Na -, x - 2, у - 2 and 10 g of sodium chloride · The bath temperature was 50 ° C, the exposure time was 5 minutes · It was pulled under the same conditions as in example 1 · , firmly adhering by copper layer ·

Vynález Je možno využívat v hutních a strojírenských podnicích, kde ae provádí taženi drátu, případně další aplikace, při kterých sa uplatňují bezproudově vyloučené měděné povlaky.The invention can be used in metallurgical and mechanical engineering plants, where it performs wire drawing or other applications in which electrolessly deposited copper coatings are applied.

Claims (1)

P R E D M E T VYNALEZUP R E D M E T Přísada do bezproudově mědící lázně na bázi síranu měňnatého, kyseliny sírové, derivátů diaminodifenylmethanu, polyethylenglykolů a anionaktivnich tenzidů připravených sulfonaoí alifatických alkoholů e přídavkem chloridových iontů vo formě chloridů alkalických kovů, vyznačená tím, že se skládá ze sloučenin obecného vzorceAddition to the electroless copper bath based on cupric sulphate, sulfuric acid, diaminodiphenylmethane derivatives, polyethylene glycols and anionic surfactants prepared by sulphonates of aliphatic alcohols and by the addition of chloride ions in the form of alkali metal chlorides, characterized in that it consists of compounds of the general formula Rx - CH - (CHg)x - CH « CH - (CHg)y - COORgR x - CH - (CH g) x - CH n CH - (CH g ) y - COOR g 0 - SOgOH kde Rj je alifatický alkyl o 1 až 12ti uhlících, Rg je H Na К x,y je celé číslo 1 až 10, jež obsahuje eamotné nebo ve směsích·0 - SOgOH where R 1 is an aliphatic alkyl of 1 to 12 carbons, R g is H Na K x, y is an integer of 1 to 10, containing eamotic or in mixtures ·
CS873149A 1987-05-05 1987-05-05 Admixture for currentless copper plating bath CS271682B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS873149A CS271682B1 (en) 1987-05-05 1987-05-05 Admixture for currentless copper plating bath

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS873149A CS271682B1 (en) 1987-05-05 1987-05-05 Admixture for currentless copper plating bath

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CS314987A1 CS314987A1 (en) 1990-03-14
CS271682B1 true CS271682B1 (en) 1990-11-14

Family

ID=5370734

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS873149A CS271682B1 (en) 1987-05-05 1987-05-05 Admixture for currentless copper plating bath

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS271682B1 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
CS314987A1 (en) 1990-03-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69404496T2 (en) Cyanide free plating solution for monovalent metals
DE69808497T2 (en) CYANIDE-FREE, MONOVALENT COPPER ELECTRIC COATING SOLUTION
DE969005C (en) Process for the production of high-gloss copper coatings on base metals
US2830014A (en) Electroplating process
DE19629658C2 (en) Cyanide-free galvanic bath for the deposition of gold and gold alloys
DE10026680C1 (en) Electrolyte and method for depositing tin-silver alloy layers and use of the electrolyte
CH682823A5 (en) Platierungszusammensetzungen and procedures.
EP1190118B1 (en) Bath system for galvanic deposition of metals
US3238112A (en) Electroplating of metals using mercapto-metal complex salts
NL8000586A (en) ELECTROLYTIC COATING BATH AND METHOD FOR PRODUCING GLOSSY, HIGHLY SOLID ELECTROLYTIC NICKEL IRON DEPOSITS.
EP0143919A1 (en) Alkaline cyanide bath for the electrodeposition of copper-tin-alloy layers
CS271682B1 (en) Admixture for currentless copper plating bath
ES476909A1 (en) Electroplating bath and process
DE2346616B2 (en) BATH FOR ELECTRONIC DEPOSITION OF DUCTILE COPPER
US4253920A (en) Composition and method for gold plating
DE2943833A1 (en) NON-CHROMATE CONVERSION COATINGS
DE1496823B1 (en) Process for the galvanic deposition of corrosion-resistant, three-layer nickel or nickel-cobalt alloy coatings on metals
JPS6029482A (en) Tin and tin alloy electroplating liquid
DE1072449B (en) Cyanide bath for the galvanic deposition of complete copper coatings
DE4040526C3 (en) Bath for the galvanic deposition of gold alloys
US20040082489A1 (en) Aqueous solutions containing dithionic acid and /or metal dithionate for metal finishing
DE1496908C3 (en) Galvanic nickel bath. Note »M&amp;T Chemicals Inc., New York, N.Y. (V.StA.)
AT202828B (en) Process for the production of shiny electroplated metal coatings
DE1806081A1 (en) Plating compound for electroless copper plating
JPH03153879A (en) Substitution type electroless tin or solder plating method