CS271682B1 - Admixture for currentless copper plating bath - Google Patents
Admixture for currentless copper plating bath Download PDFInfo
- Publication number
- CS271682B1 CS271682B1 CS873149A CS314987A CS271682B1 CS 271682 B1 CS271682 B1 CS 271682B1 CS 873149 A CS873149 A CS 873149A CS 314987 A CS314987 A CS 314987A CS 271682 B1 CS271682 B1 CS 271682B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- copper
- additive
- addition
- millilitres
- fold
- Prior art date
Links
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 21
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 21
- 239000010949 copper Substances 0.000 title claims abstract description 21
- 238000007747 plating Methods 0.000 title 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims abstract description 8
- -1 aliphatic alcohols Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 claims description 5
- 229910001514 alkali metal chloride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910003251 Na K Inorganic materials 0.000 claims 1
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 claims 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 abstract description 12
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 abstract description 12
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 abstract description 10
- 239000010959 steel Substances 0.000 abstract description 10
- 239000002585 base Substances 0.000 abstract description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 abstract description 3
- 238000005491 wire drawing Methods 0.000 abstract description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 abstract 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 abstract 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 abstract 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 abstract 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 abstract 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 abstract 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 3
- 238000006277 sulfonation reaction Methods 0.000 description 3
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 229910000366 copper(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000029142 excretion Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011089 mechanical engineering Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000028327 secretion Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Chemically Coating (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
Description
(57) Přísad© je tvořena sloučeninami podle obecného vzorca(57) The additive © consists of compounds of the general formula
- ch - (ch2)x - CH - CH - (сн2)у - coor2 0 - SO OH kde znamenají e alifatický alkyl o 1 až 12ti uhlících, R2 H -, Na -, К -, x а у » celé číslo 1 až* 10, jež obsahuje samotné nebo ve směsích. Aplikuje se v množství 0,01 až 0,50 g na 1000 ml lázně pro bezproudové vylučování měděných vrstev na ocelověn základním materiálu, jež je* založena na bázi síranu mědnatěho, kyseliny sírové, derivátů diaminodifenylmethenu, polyethylenglykolů a anionaktivních tenzidů připravených sulfonací alifatických alkoholů.- ch - (ch 2 ) x - CH - CH - (сн 2 ) у - coor 2 0 - SO OH where ε means aliphatic alkyl of 1 to 12 carbons, R 2 H -, Na -, К -, x а у »An integer of 1 to * 10, which it contains alone or in mixtures. It is applied in an amount of 0.01 to 0.50 g per 1000 ml bath for electroless deposition of copper layers on a steel base material based on copper sulfate, sulfuric acid, diaminodiphenylmethene derivatives, polyethylene glycols and anionic surfactants prepared by sulfonation of aliphatic alcohols.
Účinnost přísady se ještě zvyšuje přídavkem chloridových iontů ve formě chloridů alkalických kovů v množství 3,0 až 10,0 g na 1000 ml. Má schopnost zjemňovat mikrostrukturu vyloučené mědi a zvyšovat její přilnavost tak,že umožňuje v praxi požadované čtyř až pětinásobné tažení poměděného ocelového drátu.The efficacy of the additive is further enhanced by the addition of chloride ions in the form of alkali metal chlorides in an amount of 3.0 to 10.0 g per 1000 ml. It has the ability to soften the microstructure of the deposited copper and to increase its adhesion so that it allows in practice the required four to five times the drawing of the copper-coated steel wire.
CS 271682 BlCS 271682 Bl
Vynález ee týká přleady do bezproudová mádici lázně na bázi eiranu mádnatého, kyseliny sirové, derivátů diaminodefenylmathanu, polyethylenglykolů a aminoaktivnich tenzidů.The invention relates to the addition of a current-free bath based on cupric eiran, sulfuric acid, diaminodephenylmethane derivatives, polyethylene glycols and aminoactive surfactants.
Bezproudově vylučované mšděné vrstvy aa v největší míře využívají při tažení ocelových drátů průvlaky. Na přilnavoat a fyzikální vlaatnoati těchto vratev Jsou kladeny značná nároky, protože muaí baz poruěaní souvislosti povlaku pokrývat povrch drátu při několikanásobném tažení. Vratvy muaí být velmi pevně zakotveny na krystalové mřížce základního materiálu a dálo musí mít vhodnou mikrostrukturu, která rozhodujícím způsobem ovlivňuje fyzikální vlastnosti z hlediska tažení.Current-free copper layers and and most of all use dies for drawing steel wires. There are considerable demands on the adhesion and physical vlaatnoati of these gates, since the failure of the coherence of the coating to cover the surface of the wire during multiple drawing is required. The gates must be very firmly anchored to the crystal lattice of the base material, and must have a suitable microstructure that decisively affects the physical properties in terms of drawing.
Přilnavost měděných vratev získávaných cementací z roztoků síranu měčnatého a kyseliny sírové je nízká. Povlaky Jsou tvořeny relativně velkými krystality, což je způsobeno příliš vysokou rychlostí vylučování mědi v důsledku značného rozdílu mezi elektrochemickými potenciály železa a mědi. Proto se ionty dvojmocné mědi vážou do silných komplexů s organickými sloučeninami např* s deriváty diaminodifenylmethanu, které výrazně snižují rychlost vylučováni. To Je provázeno vzrůstem přilnavosti a vznikem jemně krystalické struktury. Zlepšení přináší i přídavky povrchově aktivních látek do roztoků např. polyethylenglykolů s anionaktivnich tenzidů připravených sulfonací alifatických alkoholů· I když зе tak přilnavost a fyzikální vlastnosti měděných vrstev výrazně zlepšuji, stále není možno s nimi realizovat vícenásobný tah.The adhesion of the copper gates obtained by cementing from solutions of cupric sulphate and sulfuric acid is low. Coatings are formed by relatively large crystallites, which is caused by too high a rate of copper deposition due to the considerable difference between the electrochemical potentials of iron and copper. Therefore, divalent copper ions bind to strong complexes with organic compounds such as diaminodiphenylmethane derivatives, which significantly reduce the rate of excretion. This is accompanied by an increase in adhesion and a fine crystalline structure. The addition of surfactants to solutions such as polyethylene glycols with anionic surfactants prepared by sulfonation of aliphatic alcohols also improves.
Popsané nedostatky odstraňuje přísada podle vynálezu, jejíž podstata spočívá v tom, že je tvořena sloučeninami obecného vzorceThe above-mentioned drawbacks are overcome by the additive according to the invention, which consists of the compounds of the general formula
Rr - CH - (CH2^ - CH - CH - (CH2) - C00R2,'R R - CH - (CH2 ^ - CH - CH - (CH2) - C00R 2 '
O - S020H kdeO - SO 2 0H where
R^ js alifatický alkyl o 1 až 12ti uhlících, R2 je H-, Na-, K,· x,y je celé Číslo 1 až 10, jež obsahuje samotné nebo ve směsích.R 1 is an aliphatic alkyl of 1 to 12 carbons, R 2 is H-, Na-, K, x, y is an integer of 1 to 10, which it contains alone or in mixtures.
Bylo zjištěno, že tato přísada má schopnost se v roztocích s obsahem síranu měčnatého, kyseliny sírové, derivátů diaminodifenylmsthanu, polyethylenglykolů a anionaktivnich tenzidů připravených eulfonací alifatických alkoholů sorbovat na aktivní centra krystalové mřížky podkladního kovu, a tak účinně bránit okamžitému přístupu komplexních iontů mědi. Výsledkem Je snížení rychlosti chemické reakce. Účinnost přísady se Ještě zvyšuje přídavkem chloridových alkalických kovů, které spolu s kyselinou sírovou a přísadou podle vynálezu způsobují rozmnoženi počtu aktivních center a tím výrazné zjemněni mikrostruktury vyloučené mědi. Měděné povlaky pak vykazují přilnavost a fyzikální vlastnosti dostatočné к tomu, aby s takto upravenými ocelovými dráty bylo možno realizovat v praxi požadované Čtyř ež pětinásobné tažení. Přísadu j© vhodné do roztoků dávkovat v množství 0,01 až 0,5 g chloridové ionty v množství 3,0 až 10,0 g na 1 000 ml. Podrobné vysvětleni je podáno na následujících příkladech.It has been found that this additive has the ability to adsorb to active centers of the crystal lattice of the parent metal to effectively inhibit the immediate access of complex copper ions in solutions containing cupric sulfate, sulfuric acid, diaminodiphenylmethane derivatives, polyethylene glycols and anionic surfactants prepared by eulfonation of aliphatic alcohols. The result is a reduction in the chemical reaction rate. The efficiency of the additive is further enhanced by the addition of alkali metal chloride, which together with the sulfuric acid and the additive according to the invention cause an increase in the number of active centers and thus a marked refinement of the microstructure of the deposited copper. The copper coatings then exhibit adhesion and physical properties sufficient to achieve in practice the required four- to five-fold drawing with the steel wires thus treated. It is suitable to add 0.01 to 0.5 g of chloride ions to the solutions in amounts of 3.0 to 10.0 g per 1000 ml. A detailed explanation is given in the following examples.
Přiklad 1Example 1
Válcovaný ocelový drát o průměru 5,6 mm byl poměděn v lázni pro bezproudové vylučováni měděných povlaků o složení 25 g síranu mědnatého, 70 g kyseliny sirové, 1,2 g tetrámethyldiaminodifenylmethaqu,l 0,25 g polyethylenglykolu o m. h. 400, 1,5 g polyethylenglykolu o m. h. 4 000, 0,15 g anionaktivního tenzidu připraveného sulfonací alifatického alkoholu o 13 až 15ti uhlících na 1 000 ml vodného roztoku při teplotě 50 °C a expoziční době 5 minut. Takto připravený drát byl čtyřikrát tažen průvlaky o průměrech 4,00, 4,17, 3,55 a 3,08 mm. Oiž při druhém tahu se měděné vrstva projevila jako nepevná a málo přilnavá a došlo к jejímu místnímu odlupování. Do lázně bylo přidáno 0/5 g přísady podle vynálezu,· kds R^ - CH3(CH2)5 -, R2 Na x - 1, у - 7 a 10 g chloridu sodného. Válcovaný ocelový drát byl poměděn a tažen za shcdných podmínek jako v předchozím případě. I po čtvrtém tahu byl povrch drátu pokryt souvislou, pevně lnoucí vrstvou mědi.Rolled steel wire of diameter 5.6 mm was copper plated in a bath for electroless copper coatings secretion of 25 g of copper sulfate, 70 g of sulfuric acid, 1.2 g tetrámethyldiaminodifenylmethaqu l 0.25 g of polyethylene glycol of MW 400, 1.5 g of polyethylene glycol of 4000, 0.15 g of anionic surfactant prepared by sulfonation of an aliphatic alcohol of 13 to 15 carbons per 1000 ml of an aqueous solution at 50 ° C and an exposure time of 5 minutes. The wire prepared in this way was pulled four times with dies of 4.00, 4.17, 3.55 and 3.08 mm in diameter. Already in the second stroke, the copper layer proved to be unstable and poorly adhering and there was a local peeling. 0/5 g of the additive according to the invention were added to the bath, kd R R - CH 3 (CH 2 ) 5 -, R 2 Na x - 1, у - 7 and 10 g of sodium chloride. The rolled steel wire was copper-plated and drawn under the same conditions as in the previous case. Even after the fourth stroke, the wire surface was covered with a continuous, firmly adhering layer of copper.
Přiklad 2Example 2
Válcovaný ocelový drát byl poměděn v lázni jako v přikladu 1 a přídavkem 0,05 g přísady, kde R^ - снз(сн2)5 R2 * Na ** x У 7 e 0#01, 9 P^ady, kde R^ -2-ethylhexyl, Rg ~,K -, x - 4, у - 7 a 10 g chloridu sodného· Teplota lázně byla 50 °C, expoziční doba 5 minut· Tažen byl za shodných podmínek jako v příkladu 1· I po čtvrtém tahu byl povrch drátu pokryt eouvielou, dobře přilnavou vrstvou mědi·Rolled steel wire has been copper plated in the bath as in Example 1 and 0.05 g of additive, wherein R ^ - сн з (сн 2) 5 2 * R ** Na x У 7 e # 0 01 9 P-series, wherein R-2-ethylhexyl, Rg-, K-, x-4, у-7 and 10 g of sodium chloride · bath temperature was 50 ° C, exposure time 5 minutes · drawn under the same conditions as in example 1 · after on the fourth stroke, the wire surface was covered with an eouviel, well adhering copper layer ·
Přiklad 3Example 3
Válcovaný ocelový drát byl poměděn v lázni jako v přikladu 1 e přídavkem 0,05 g přísady, kde R^ - CH3(CHg)5 Rj * Na x * У * 7 a °·03 9 přísady, kdo R^ - izobutyl, Rg -, Na -, x - 2, у - 2 a 10 g chloridu sodného· Teplota lázně byla 50 °C, expoziční doba 5 minut· Tažen byl za shodných podmínek jako v přikladu 1· Povrch drátu byl i po čtvrtém tahu pokryt souvislou, pevně lnoucí vretvou mědi·The rolled steel wire was copper-plated in the bath as in Example 1e by the addition of 0.05 g of the additive, where R ^ - CH 3 (CHg) 5 Rj * Na x * У * 7 and ° · 03 9 additive, who R ^ - isobutyl, Rg -, Na -, x - 2, у - 2 and 10 g of sodium chloride · The bath temperature was 50 ° C, the exposure time was 5 minutes · It was pulled under the same conditions as in example 1 · , firmly adhering by copper layer ·
Vynález Je možno využívat v hutních a strojírenských podnicích, kde ae provádí taženi drátu, případně další aplikace, při kterých sa uplatňují bezproudově vyloučené měděné povlaky.The invention can be used in metallurgical and mechanical engineering plants, where it performs wire drawing or other applications in which electrolessly deposited copper coatings are applied.
Claims (1)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS873149A CS271682B1 (en) | 1987-05-05 | 1987-05-05 | Admixture for currentless copper plating bath |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS873149A CS271682B1 (en) | 1987-05-05 | 1987-05-05 | Admixture for currentless copper plating bath |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS314987A1 CS314987A1 (en) | 1990-03-14 |
| CS271682B1 true CS271682B1 (en) | 1990-11-14 |
Family
ID=5370734
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS873149A CS271682B1 (en) | 1987-05-05 | 1987-05-05 | Admixture for currentless copper plating bath |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS271682B1 (en) |
-
1987
- 1987-05-05 CS CS873149A patent/CS271682B1/en unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CS314987A1 (en) | 1990-03-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE69404496T2 (en) | Cyanide free plating solution for monovalent metals | |
| DE69808497T2 (en) | CYANIDE-FREE, MONOVALENT COPPER ELECTRIC COATING SOLUTION | |
| DE969005C (en) | Process for the production of high-gloss copper coatings on base metals | |
| US2830014A (en) | Electroplating process | |
| DE19629658C2 (en) | Cyanide-free galvanic bath for the deposition of gold and gold alloys | |
| DE10026680C1 (en) | Electrolyte and method for depositing tin-silver alloy layers and use of the electrolyte | |
| CH682823A5 (en) | Platierungszusammensetzungen and procedures. | |
| EP1190118B1 (en) | Bath system for galvanic deposition of metals | |
| US3238112A (en) | Electroplating of metals using mercapto-metal complex salts | |
| NL8000586A (en) | ELECTROLYTIC COATING BATH AND METHOD FOR PRODUCING GLOSSY, HIGHLY SOLID ELECTROLYTIC NICKEL IRON DEPOSITS. | |
| EP0143919A1 (en) | Alkaline cyanide bath for the electrodeposition of copper-tin-alloy layers | |
| CS271682B1 (en) | Admixture for currentless copper plating bath | |
| ES476909A1 (en) | Electroplating bath and process | |
| DE2346616B2 (en) | BATH FOR ELECTRONIC DEPOSITION OF DUCTILE COPPER | |
| US4253920A (en) | Composition and method for gold plating | |
| DE2943833A1 (en) | NON-CHROMATE CONVERSION COATINGS | |
| DE1496823B1 (en) | Process for the galvanic deposition of corrosion-resistant, three-layer nickel or nickel-cobalt alloy coatings on metals | |
| JPS6029482A (en) | Tin and tin alloy electroplating liquid | |
| DE1072449B (en) | Cyanide bath for the galvanic deposition of complete copper coatings | |
| DE4040526C3 (en) | Bath for the galvanic deposition of gold alloys | |
| US20040082489A1 (en) | Aqueous solutions containing dithionic acid and /or metal dithionate for metal finishing | |
| DE1496908C3 (en) | Galvanic nickel bath. Note »M&T Chemicals Inc., New York, N.Y. (V.StA.) | |
| AT202828B (en) | Process for the production of shiny electroplated metal coatings | |
| DE1806081A1 (en) | Plating compound for electroless copper plating | |
| JPH03153879A (en) | Substitution type electroless tin or solder plating method |