CZ169599A3 - Slévárenské pojivo - Google Patents
Slévárenské pojivo Download PDFInfo
- Publication number
- CZ169599A3 CZ169599A3 CZ19991695A CZ169599A CZ169599A3 CZ 169599 A3 CZ169599 A3 CZ 169599A3 CZ 19991695 A CZ19991695 A CZ 19991695A CZ 169599 A CZ169599 A CZ 169599A CZ 169599 A3 CZ169599 A3 CZ 169599A3
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- foundry binder
- groups
- foundry
- binder according
- sol
- Prior art date
Links
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 title claims abstract description 26
- 239000002114 nanocomposite Substances 0.000 claims abstract description 17
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims abstract description 8
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims abstract description 8
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims abstract description 6
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims abstract description 6
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims abstract description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- -1 SnC2 Chemical compound 0.000 claims description 9
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 5
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 4
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 4
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 claims description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N iron oxide Inorganic materials [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 235000013980 iron oxide Nutrition 0.000 claims description 2
- VBMVTYDPPZVILR-UHFFFAOYSA-N iron(2+);oxygen(2-) Chemical class [O-2].[Fe+2] VBMVTYDPPZVILR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 2
- RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N yttrium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Y+3].[Y+3] RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000007867 post-reaction treatment Methods 0.000 claims 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 abstract description 10
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 abstract description 10
- 239000004576 sand Substances 0.000 abstract description 10
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 abstract description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 11
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 2
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- FZENGILVLUJGJX-NSCUHMNNSA-N (E)-acetaldehyde oxime Chemical group C\C=N\O FZENGILVLUJGJX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- 241000220479 Acacia Species 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- HNUALPPJLMYHDK-UHFFFAOYSA-N C[CH]C Chemical compound C[CH]C HNUALPPJLMYHDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001060 Gray iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010643 Leucaena leucocephala Nutrition 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000218 acetic acid group Chemical group C(C)(=O)* 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005248 alkyl aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 125000000043 benzamido group Chemical group [H]N([*])C(=O)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000051 benzyloxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCLIHDJZGPCUBT-UHFFFAOYSA-N dimethylsilanediol Chemical compound C[Si](C)(O)O XCLIHDJZGPCUBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003586 protic polar solvent Substances 0.000 description 1
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002341 toxic gas Substances 0.000 description 1
- WOZZOSDBXABUFO-UHFFFAOYSA-N tri(butan-2-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].CCC(C)[O-].CCC(C)[O-].CCC(C)[O-] WOZZOSDBXABUFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
Předložené řešení popisuje slévárenské pojivo, kteréje
získatelné povrchovou modifikací a) koloidních
anorganických částic s b)jednímnebo více silany obecného
vzorce (I), kde (I)je FUSiA^, a kde radikály Ajsou
identické nebo odlišné ajsou to hydroxylové skupiny nebo
skupiny, které mohou být hydrolyticky odstraněny, kromě
methoxy skupiny, radikályRjsou identické nebo odlišné a
jsou to skupiny, které nemohou být odstraněny hydroliticky a
xje 0,1,2 nebo 3, kde x> 1 v alespoň 50 mol %silanů; při
podmínkách sol-gel procesu s nižšímnež stechiometrickým
množstvímvody, založenémna hydrolýze přítomných skupin,
stvorbou nanokompozitního sólu, další hydrolýzou a
kondenzací nanokompozitního sólu,je-li požadována, před
přivedením do kontaktu se slévárenským pískem.
Description
Slévárenské pojivo
Předmětný vynález se vztahuje ke slévárenskému pojivu, které lze připravit modifikací povrchu
a) koloidních anorganických částic s
b) jedním nebo více silany obecného vzorce (I)
Rx-Sí-A4-x (I) kde radikály A jsou identické nebo odlišné a jsou to hydroxylové skupiny nebo skupiny, které mohou být hydrolyticky odstraněny, kromě methoxy skupiny, radikály R jsou identické nebo odlišné a jsou to skupiny, které nemohou být odstraněny hydrolyticky a x je 0, 1,2 nebo 3, kde x > 1 v alespoň 50 mol % silanů;
při podmínkách sol - gel procesu s nižším než stechiometrickým množstvím vody, založeném na hydrolýze přítomných skupin, s tvorbou nanokompozitního sólu, další hydrolýzou a kondenzací nanokompozitového sólu, je-li požadována, před přivedením do kontaktu se slévárenským pískem.
Nanokompozitní sol použitý podle předmětného vynálezu je připraven povrchovou modifikací koloidních anorganických částic (a) s jedním nebo více silany (b), je-li požadováno také v přítomnosti dalších aditiv (c), za podmínek sol - gel procesu.
Detaily sol - gel procesu jsou popsány v C.J. Brinker, G.W. Scherer: Sol - Gel Science -The Physics and Chemistry of Sol - Gel-Processing, Academie Press, Boston, San Diego, New York, Sydney (1990) a v DE 1941191, DE 3719339, DE 4020916 a DE 4217432.
Zde jsou podány příklady silanů (b), které mohou být použity podle předmětného vynálezu a radikálů A, které jsou hydrolyticky odstranitelné, a radikálů R, které nejsou hydrolyticky odstranitelné.
• ·« ·· «··· ·« »· ·* · · 0 0 0 0 0 · 0 • 0 000·· ···« • * ·· 0 ·· 000··· 0 0 0 0 0 · · ••0 000· ·· ·«· «· «·
Preferovanými příklady radikálů ze skupiny A, které jsou hydrolyticky odstranitelné, jsou vodík, halogen (F, Cl, Br a I, zvláště Cl a Br), alkoxy (zvláště C2-4-alkoxy, jako je ethoxy, n-propoxy, isopropoxy a butoxy), aryloxy (zvláště Có-io-aryloxy, jako je fenoxy), alkaryloxy (např. benzy loxy), acyloxy (zvláště Ci„4-acyloxy, jako je acetoxy a propyonyloxy) a alkylkarbonyl (např. acetyl). Radikály A, které jsou podobně vhodné, jsou amino skupiny (např. mono- nebo dialkyl-, -aryl- a -arylalkylamino, skupiny, které mají výše zmíněné alkyl, aryl a aryalkyl radikály), amidové skupiny (např. benzamido) a aldoximové a ketoximové skupiny. Dva nebo tři radikály A mohou také společně tvořit skupinu, která komplexuje Si atom, jako je tomu například v Si-polyolových komplexech odvozených od glykolu, glycerolu nebo pyrokatecholu. Zvláště preferovanými radikály A jsou C2-4-alkoxy skupiny, zvláště ethoxy skupina. Methoxy skupiny jsou méně vhodné pro účely předmětného vynálezu, protože mají příliš vysokou reaktivitu (krátký procesní čas nanokompozitního sólu).
Výše uvedené hydrolyzovatelné skupiny A mohou, je-li to požadováno, nést jeden nebo více obvyklých substituentů, například halogen nebo alkoxy skupinu.
Radikály R, které nejsou hydrolyticky odstranitelné, jsou přednostně vybrány ze skupiny obsahující alkyl (zejména Ci-4-alkyl, jako je methyl, ethyl, propyl a butyl), alkenyl (zejména C2-4-alkenyl, jako je vinyl, 1-propenyl, 2-propenyl a butenyl), alkynyl (zejména C2-4-alkynyl, jako je acetylenyl a propargyl), aryl (zejména Cé-io-aryl, jako je fenyl a naftyl) a odpovídající alkylaryl a arylalkyl skupiny. Tyto skupiny mohou mít také, je-li to vyžadováno, jeden nebo více obvyklých substituentů, například halogen, alkoxy, hydroxy, amino nebo epoxy skupiny.
Výše uvedené alkyl, alkenyl a alkynyl skupiny zahrnují odpovídající cyklické radikály, jako jsou cyklopropyl, cyklopentyl a cyklohexyl.
Zvláště preferované radikály R jsou substituované nebo nesubstituované Ci-4-alkyl skupiny, zejména methyl nebo ethyl a substituované nebo nesubstituované Có-io-alkyl skupiny, zejména fenyl.
- ί *
• · · · * » • » • · »· • 4 • » ♦ 4« 4 • 4» ··« r
9 9 9 • 4 4 • 9 9 *·* ··« • 9
99
Je také preferováno, aby x ve výše uvedeném vzorci (I) bylo 0, 1 nebo 2, zvláště preferováno je x = 0 nebo 1. Je také preferováno, aby x = 1 v alespoň 60 mol %, zvláště v alespoň 70 mol % silanů vzorce (I). Ve speciálních případech může být dokonce výhodnější, aby x = 1 ve více než 80 mol % nebo dokonce ve více než 90 mol % (např. 100 mol %) silanů vzorce (I).
Slévárenské pojivo podle předmětného vynálezu může být připraveno například z čistého methyltriethoxysilanu (MTEOS) nebo ze směsi MTEOS a tetraethoxysilanu (TEOS) jako komponenty (b).
Konkrétními příklady silanů obecného vzorce (I) jsou sloučeniny následujících struktur:
Si(OC2H5)4, Si(O-n- or iso-C3H7)4, Si(OC4H9)4z SiCl4z SÍ(OOCCH3)4, CH3-SíC13, CH3-Sí (OC2Hs)3/ C2H5-SíC13, 15 C2H5-SÍ(OC2H5)3, C3H7-S1 (OC2H5) 3, C6H5-Si-(OC2H5) 3,
CgHs-Si (OC2H5) 3, (C2H5O) 3-sí-c3h6-ci, (CH3)2SÍC12, (CH3)2SÍ (OC2H5)2, (CH3)2Sí (OH)2/ (C6Hs)2SÍC12, (C6H5)2SÍ(OC2H5)2, (C6H5) 2Si (OC2H5) 2, (ÍSO-C3H7) 3S1OH, CH2=CH-Si(OOCCH3)3, CH2=CH-SíC13, CH2=CH-Sí (OC2H5) 3/ HSÍCI3,
CH2=CH-Si (OC2H4OCH3) 37 CH2=CH-CH2-Si (OC2H5) 3,
CH2=CH-CH2-Si (OOCCH3) 3/ CH2=C (CH3) COO-C3H7-Sí- (OC2H5) 3,
CH2=C (CH3) -COO-C3H7-Sí (OC2H5) 3, n-C6Hi3-CH2-CH2-Si (OC2H5) 3, n-C8Hi7-CH2-CH2-Si (OC2H5) 3, (C2H5O) 3SÍ- (CH2) 3-O-CH2-CH-CH2.
O
Tyto silany mohou být připraveny známou metodou; W. Noll, Chemie und Technologie der Silikone [Chemistry and Technology of Silicones], Verlag Chemie GmbH, Weinhem/Bergstrasse, Germany (1968).
Založeno na výše uvedených komponentách (a), (b) a (c), podíl komponenty (b) je obvykle od 20 do 95 hmot. %, přednostně od 40 do 90 hmot. % a zejména od 70 do 90 hmot. %, vyjádřeno jako polysiloxan vzorce: RxSiO(2.o,5-x), který vzniká kondenzací.
BB • · • « • « B
-Ť * ·· ·· · • · • · * • Β «Β Β «ΒΒΒ ·· ··«« • r · • B · · · • · · • · B
999
A
9 9 9
99 9
Silany obecného vzorce (I) použité podle předmětného vynálezu mohou být použity zcela nebo částečně ve formě prekondenzátů, tj. sloučenin produkovaných částečnou hydrolýzou silanu vzorce (I), buď samostatně nebo ve směsi s jinými hydrolyzovatelnými sloučeninami. Takovéto oligomery, preferovaně rozpustné v reakčním mediu, mohou být kondenzáty s rovným řetězcem nebo cyklické nízkomolekulární kondenzáty (polyorganosiloxany) s vysokým stupněm kondenzace, např. od 2 do 100, zejména od 2 do 6.
Množství vody použité pro hydrolýzu a kondenzaci silanů vzorce (I) je preferovaně od 0,1 do 0,9 mol a zvláště preferovaně od 0,25 do 0,75 mol vody na mol přítomných hydrolyzovatelných skupin.
Specifickými příklady koloidních anorganických částic (a) jsou soli a prášky dispergovatelné na nano úrovni (velikost částice preferovaně až do 300 nm, zejména až do 100 nm a speciálně až do 50 nm) S1O2, TÍO2, ZrO2, AI2O3, Y2O3, CeO2, SnO2, ZnO, oxidy železa nebo uhlík (saze a grafit), zejména SÍO2.
Podíl složky (a), založené na obsahu složek (a), (b) a (c), je obvykle od 5 do 60 hmot.%, přednostně od 10 do 40 hmot.% a zejména od 10 do 20 hmot. %.
Pro přípravu nanokompozitů mohou být použity jako komponenty (c) podle volby další aditiva v množství až do 20 hmot. %, přednostně do 5 hmot. %; příkladem jsou tvrdící katalyzátory, jako jsou soli kovů a alkoxidy kovů (například alkoxidy odvozené od hliníku, titanu a zirkonu), organická pojivá, jako je polyvinylacetát, škrob, polyethylenglykol a arabská guma, pigmenty, barviva, zpomalovače hoření, sloučeniny prvků tvořících skla (např. kyselina boritá, estery kyseliny borité, methoxid sodný, octan sodný, sec-butoxid hlinitý, atd.).
Hydrolýza a kondenzace je uskutečněna za podmínek sol - gel v přítomnosti kyselých kondenzačních katalyzátorů (např. kyseliny chlorovodíkové) při pH přednostně od 1 do 2, dokud vzniká viskózní sol.
Φ· ·_. ·
I
-r__ ·_. · • ··*· ·· ···· • · · • · ··· • · · · • · · ·· ··· ·· ν» • · · · • · · · ··· ··· • · ·· «·
Je preferováno nepoužívat další rozpouštědlo kromě rozpouštědla vznikajícího při hydrolýze alkoxy skupin. Je-li to však vyžadováno, mohou být použita například alkoholická rozpouštědla, jako je ethanol, další polární, protická nebo aprotická rozpouštědla, jako je tetrahydrofuran, dioxan, dimethylformamid nebo butylglykol.
Aby bylo dosaženo příznivé morfologie částic sólu a viskozity sólu, je vznikající nanokompozitní sol preferovaně podroben speciálnímu po-reakčnímu kroku, ve kterém je reakční směs zahřívána na teplotu od 40 od 120°C po dobu od několika hodin do několika dní. Zejména preferováno je skladování při pokojové teplotě po dobu jednoho dne nebo zahřívání při 60 až 80°C po dobu několika hodin. Takto je získán nanokompozitní sol s viskozitou přednostně od 5 do 500 mPas, zejména od 10 do 50 mPas. Viskozita sólu může být samozřejmě nastavena pro specifické aplikace na vhodné hodnoty přidáváním rozpouštědel nebo odstraněním vedlejších produktů reakce (například alkoholů). Po-reakční krok může být přednostně spojen s redukcí obsahu rozpouštědla.
Nanokompozitní sol a slévárenský prášek jsou kombinovány alespoň po prvotní hydrolýze složky (b) a v každém případě před závěrečným vytvrzováním. Před přidáním písku je nanokompozitní sol přednostně aktivován přidáním dalšího množství vody.
Pro produkci slévárenských forem a jader je nanokompozitní gel nanesen na slévárenské formy nebo písek jádra v obvyklých množstvích, například v množství od 0,1 do 0,2 hmot. %.
Je-li to vyžadováno, mohou být použita běžná slévárenská aditiva, jako jsou například ztužovací oleje, jaderní oleje, uvolňovací činidla nebo konvenční jaderná pojivá.
Vytvrzování může být provedeno při pokojové teplotě, ale tepelné zpracování je preferováno při teplotách nad 50°C, přednostně nad 100°C a zejména při 150°C nebo výše. Vytvrzování může být podle volby uskutečněno v inertní atmosféře.
Srovnáním s konvenčně vázanými jádry bylo zjištěno, že je emitováno významně nižší množství koncového plynu a že forma může být uvolněna od pískového depozitu
I
9
9 9 9
9 9 9 9
9999 9 99
9 9 9 99 • · · · 9 9 ·
9 99 pomocí standardních postupů. Významně menší množství plynu bylo pozorováno během lití, což má rozhodující význam v praxi, protože je tím dosaženo vysoce kvalitního povrchu a mohou býťódlévány jemnější struktury.
Následující příklady dále ilustrují předmětný vynález.
Silika sol používaný v následujících příkladech je vodný silika sol vyráběný firmou BAYER (Levasil 300/30) s obsahem tuhého podílu 30 hmot. % a velikostí částice od 7 do 10 nm. Následující zkratky jsou dále používány v příkladech:
MTEOS = Methyltriethoxysiían
TEOS = Tetraethoxysilan
PTEOS = Fenyltriethoxysilan
ETEOS = Ethyltriethoxysilan
Příklad 1
Je smícháno 51,3 ml MTEOS (odpovídající 60 mol %), 19,1 ml TEOS (odpovídající 20 mol %) a 15,0 ml PTEOS (odpovídající 20 mol %) a polovina této směsi je silně míchána s 11,7 ml silika sólu (odpovídá 14,3 hmot. % podílu silika sólu) a 0,386 ml koncentrované kyseliny chlorovodíkové. Po 5 minutách je k navážce přidána druhá část alkoxidové směsi a směs je míchána dalších 5 minut. Vzniklý sol je potom zpracováván v po-reakěním kroku (míchání 12 h při 60°C).
K sólu je před použitím přidáno přibližně 2,5 ml vody, aby bylo dosaženo obsahu vody 0,5 mol vody na mol hydrolyzovatelné skupiny. Vzniklý sol je smíchán s pískem o velikosti částic přibližně 1 mm tak, aby písek představoval přibližně 84% celkové hmotnosti. Materiál je upěchován do formy a vytvrzen při 100°C po dobu 20 minut za vzniku mechanicky pevného vytvarovaného jádra, které neztrácí tvar dokonce při vystavení teplotě 500°C pod dobu 1 hodiny.
Příklad 2
Použitím metody popsané v příkladu 1 je připraveno pojivo písku jádra ze 184 ml MTEOS, 51,4 ml TEOS, 62,8 ml silika sólu a 1,71 ml 37% kyseliny chlorovodíkové.
Pojivo je připraveno k použití po 15 minutách po-reakčního zpracování. Obsah tuhé látky je 327 g/1.
Suchý písek jádra je smíchán s pojivém v množství odpovídajícím obsahu 1,5 hmot. % tuhého pojivá. Vlhký materiál je stlačen pěchovadlem po dobu 30 minut za tlaku 100 kN a poté vytvrzen při 40°C po dobu 1 hodiny za vzniku anorganicky vázaného jádra, které neuvolňuje žádné toxické plyny při zahřívání do 500°C a může být dezintegrováno pomocí ultrazvuku.
Příklad 3
1. Příprava standardního pojivá A
Baňka je naplněna 655 g MTEOS, 191 g TEOS, 142 g vodného silika sólu a bezprostředně poté je ke vzniklé směsi přidáno za intenzivního míchání 9 ml kyseliny sírové (40 hmot. %). Po přibližně 1 minutě intenzivního míchání začne exotermní reakce (teplota vzroste na přibližně 60°C). Aby disperze vyzrála, je držena při pokojové teplotě přes noc nebo je refluxována 1 hodinu před jejím dalším použitím.
2. Příprava standardního pojivá B
Baňka je naplněna 621 g MTEOS, 181 g TEOS a 185 g vodného silika sólu (Levasil 50/50; obsah tuhého SÍO2 50 hmot. %, vyrobeného firmou BAYER) a okamžitě poté je ke vzniklé směsi přidáno za intenzivního míchání 10,3 ml kyseliny sírové (40 hmot. %). Po přibližně 1 minutě intenzivního míchání začne exotermní reakce (teplota vzroste na přibližně 60°C). Aby disperze vyzrála, je držena při pokojové teplotě přes noc a nebo refluxována 1 hodinu před jejím použitím.
• ••ftft ί• · · · · ft • · · ft · · · ·
.. /.
• ftft · • ftft · • · · · · ·
3. Příprava standardního pojivá C
Baňkaje naplněna 463 g MTEOS, 180 g TEOS a 180 g dimethyldiethoxysilanu, 5 poté je přidáno 267 g vodného silika sólu a ke vzniklé směsi je okamžitě přidáno za intenzivního míchání 6,06 . ml . HCI (37% hmotnostně). Po přibližně 1 minutě intenzivního míchání začne exotermní reakce (teplota roste na přibližně 60°C). Disperze může být použita přímo po jejím ochlazení na laboratorní teplotu.
4. Výroba písku jádra pro odlévání
Standardní pojivo A (10 kg, obsah tuhé látky: 34 hmot. %) je koncentrováno v rotační odparce do obsahu tuhého podílu 60 hmot. %. K 1 kg uvedené koncentrované pojivové disperse je po kapkách přidáno 90 ml vody za intenzivního míchání a směs je intenzivně míchána 10 minut. 200 g uvedené směsi je intenzivně mícháno s 10 kg písku jádra ve vibrační míchačce 3 minuty a poté je směs převedena do zásobníku vstřelovacího stroje na jádra, běžně používaného ve slévárenském průmyslu.
Pomocí uvedeného vstřelovacího stroje na jádra jsou formy nastřeleny podle Hot-Box procesu při teplotě formy 200°C, tlaku 6,5 bar a intervalu 1,5 s. Po 60 s jsou vzniklá písková jádra dostatečně vytvrzená pro oddělení z formy. Jádra jsou odlévána šedým licím železem a mosazí.
Claims (9)
- Patentové nároky1. Slévárenské pojivo, které lze připravit povrchovou modifikací 5 a) koloidních anorganických částic sb) jedním nebo více sílaný obecného vzorce (I)Rx-Si-A4-x (I) kde radikály A jsou identické nebo odlišné a jsou to hydroxylové skupiny nebo skupiny, které mohou být hydrolyticky odstraněny, kromě methoxy skupiny,10 radikály R jsou identické nebo odlišné a jsou to skupiny, které nemohou být odstraněny hydrolyticky a x je 0, 1,2 nebo 3, kde x > 1 v alespoň 50 mol% silanů;1. Slévárenské pojivo podle nároku 1 charakteristické tím, že modifikace povrchu byla provedena v přítomnosti kyselého kondenzačního katalyzátoru při pH od 1 do 2.
- 2. Slévárenské pojivo podle nároků 1 a 2 charakteristické tím, že nanokompozitní sol byl podroben po-reakčnímu zpracování při teplotách od pokojové teploty do 120°C.
- 3. Slévárenské pojivo podle kteréhokoli z nároků 1 až 3 charakteristické tím, že 20 koloidní anorganické částice (a) jsou vybrány ze skupiny obsahující soli a dispergovatelné prášky s nanorozměry S1O2, TÍO2, ZrO2, AI2O3, Y2O3, CeO2, SnC>2, ZnO, oxidy železa nebo uhlík.
- 4. Slévárenské pojivo podle kteréhokoli z nároků 1 až 4 charakteristické tím, že pro25 přípravu nanokompozitního sólu byla použita další aditiva (c), například vytvrzovací katalyzátory, organická pojivá a/nebo sloučeniny prvků tvořících skla.
- 5. Slévárenské pojivo podle kteréhokoli z nároků 1 až 5 charakteristické tím, že pro přípravu nanokompozitního sólu bylo použito od 5 do 60 hmot. %, přednostně od 1030 do 40 homt. a zejména od 10 do 20 hmot. % komponenty (a).
- 6. Slévárenské pojivo podle kteréhokoli z nároků 1 až 6 charakteristické tím, že pro přípravu nanokompozitního sólu bylo použito od 20 do 95 hmot. %, přednostně od • · · · • · · · «-Po — • · · ··40 do 90 hmot. % a zejména od 70 do 90% hmot. % složky (b), vyjádřené jako polysiloxan vzorce: RxSiO(2-o.5-x),·
- 7. Slévárenské pojivo podle kteréhokoli z nároků 5 až 7 charakteristické tím, že pro 5 přípravu nanokompozitního sólu bylo použito ne více než 20 hmot. %, přednostně ne více než 10 hmot. % a zejména ne více než 5 hmot. % dalších aditiv (c).
- 8. Slévárenské pojivo podle kteréhokoli z nároků 1 až 8 charakteristické tím, že modifikace povrchu byla uskutečněna použitím od 0,1 do 0,9 mol, přednostně od10 0,25 do 0,75 mol vody na mol přítomných hydrolyzovatelných skupin.
- 9. Proces produkce slévárenských forem a jader charakteristický tím, že bylo použito slévárenské pojivo ve schodě s jakýmkoli z nároků 1 až 9.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CZ19991695A CZ169599A3 (cs) | 1997-11-14 | 1997-11-14 | Slévárenské pojivo |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CZ19991695A CZ169599A3 (cs) | 1997-11-14 | 1997-11-14 | Slévárenské pojivo |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CZ169599A3 true CZ169599A3 (cs) | 2000-05-17 |
Family
ID=5463677
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CZ19991695A CZ169599A3 (cs) | 1997-11-14 | 1997-11-14 | Slévárenské pojivo |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CZ (1) | CZ169599A3 (cs) |
-
1997
- 1997-11-14 CZ CZ19991695A patent/CZ169599A3/cs unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6378599B1 (en) | Foundry binder | |
| AU736612B2 (en) | Composite materials | |
| CN1168850C (zh) | 使金属表面具备玻璃质层的方法 | |
| CN110869145B (zh) | 用于制造铸模、型芯和由其再生的模制基本料的方法 | |
| US3898090A (en) | Foundry mold and core compositions | |
| US20070082190A1 (en) | Insulation material | |
| KR20060052701A (ko) | 비철금속의 다이캐스팅용 내구성이 있는 bn 몰드 분리층 | |
| KR950017809A (ko) | 내화물 성형품의 제조방법 및 내화물 성형품용 바인더 | |
| US5328645A (en) | Gel promoters for silica sols | |
| CN103857480A (zh) | 包含甲酸甲酯的用于无机的铸模和芯的覆层料及其应用 | |
| KR101287146B1 (ko) | 이중 코팅공정을 통한 주형재료, 주형, 주형품, 주형재료의 제조방법 및 주형의 제조방법 | |
| CZ169599A3 (cs) | Slévárenské pojivo | |
| JP6746538B2 (ja) | 水溶液の作製方法 | |
| JP5036560B2 (ja) | 固結剤、ならびに加水分解安定な成形部材およびコーティングを製造するためのその使用 | |
| JPH0947840A (ja) | 鋳型成型用組成物 | |
| US3093494A (en) | Preparation of molded articles | |
| JP3115518B2 (ja) | 鋳型用粘結剤組成物、鋳型組成物および鋳型の製造方法 | |
| KR102906231B1 (ko) | 다이캐스팅용 코어 | |
| KR101199857B1 (ko) | 이중 코팅공정을 통한 주형 및 주형의 제조방법 | |
| US20040092189A1 (en) | Method for producing a composite | |
| MXPA99004099A (en) | Composite materials | |
| JPH02248356A (ja) | 金属アルコキシドの加水分解速度の制御法 | |
| MXPA99004142A (en) | Composite materials based on vegetable materials |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PD00 | Pending as of 2000-06-30 in czech republic |