CZ191994A3 - Povrchově zušlechtěný hliníkový materiál a způsob jeho výroby - Google Patents
Povrchově zušlechtěný hliníkový materiál a způsob jeho výroby Download PDFInfo
- Publication number
- CZ191994A3 CZ191994A3 CZ941919A CZ191994A CZ191994A3 CZ 191994 A3 CZ191994 A3 CZ 191994A3 CZ 941919 A CZ941919 A CZ 941919A CZ 191994 A CZ191994 A CZ 191994A CZ 191994 A3 CZ191994 A3 CZ 191994A3
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- aluminum
- substrate
- titanium
- coating
- elements
- Prior art date
Links
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 46
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 45
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 title 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 31
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 26
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 26
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 25
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 claims abstract description 12
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 17
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 16
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 abstract description 3
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 16
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 2
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 2
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000737 Duralumin Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- UQZIWOQVLUASCR-UHFFFAOYSA-N alumane;titanium Chemical compound [AlH3].[Ti] UQZIWOQVLUASCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000010410 dusting Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000006396 nitration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005289 physical deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
) Povrchově zušlechtěný materiál s vysokou otěruvzdorností,
a s nízkým koeficientem třeníje tvořen substrátem z hliníku
nebo hliníkových slitin, s titanovým povlakem o síle od
1 nm až do 400 .mi.m, spojeným s hliníkovým substrátem
interdifuzní vrstvou, obsahující jak prvky substrátu, tak
prvky povlaku. Při způsobu jeho výroby se nejprve
magnetronovým naprašováním nanese vrstva titanu, která
se pak zpracuje nitridací nebo žíháním.
Description
Povrchově zušlechtěný hliníkový materiál a způsob jeho výroby
Oblast techniky - .......
Vynález se týká povrchově zušlechtěného hliníkového materiálu, především hliníkové slitiny, popřípadě čistého hliníku, a spadá do technické oblasti povrchové úpravy kovových materiálů.
Dosavadní stav techniky
Nejčastějším případem zušlechťování povrchu hliníku a hliníkových slitin je zpevňování povrchu.
To se provádí nejčastěji pokrytím povrchu bucř oxidem hliníku anebo nitridem hliníku. Oba druhy pokrytí jsou keramické vrstvy, které jsou dobrými isolanty a vykazují řadu zajímavých vlastností, například vynikající fyzikální a chemickou stabilitu i při vysokých teplotách a vysokou tvrdost.
Vrstva oxidu hliníku AI2O3 se nejčastěji vytváří galvanicky a proces se nazývá eloxování.
Vrstva nitridu hliníku A1N se připravuje obvykle za sníženého tlaku iontovou nitridací. Třebaže iontová nitridace se běžně používá pro povrchové zpevňování ocelí, tento v podstatě vysokotlaký a nízkonapěťový proces nebyl dosud při vytváření vrstev nitridu hliníku A1N uspokojivě zvládnut. Tento neúspěch souvisí s přednostním vytvářením oxidu hliníku AI2O3 díky vyšší afinitě Al ke kyslíku ve srovnání s afinitou hliníku k dusíku. Nitrid hliníku A1N lze však úspěšně vytvářet v intenzitikovaném doutnavém výboji, který hoří při nízkých tlacích a při vysokých napětích substrátu, t.j. nitridovaného předmětu,
-2a vytváří ve srovnání s konvenční nitridací plazma s vysokým stupněm ionizace a vysokou energií iontů.
To umožňuje nepřetržitě rozprašovat povrchový oxid a nitridovat povrch. Hlavní nevýhodou zpevňování povrchu hliníkových materiálů nitridací je poměrně malá hloubka nitridované’ vrstvy cca 0,1 um, vytvořená za velmi dlouhou dobu cca 10 hodin při teplotě okolo 300°C.
Povrchové vrstvy oxidu hliníku a nitridu hliníku plní kromě zpevňování povrchu i další funkce, například dekorativní, a lze je využít i v řadě dalších aplikací. Jejich základní charakteristikou je, že obsahují hliník AI, který difunduje do prostředí, kapaliny nebo pevné látky, kterou obklopují. To je však v některých případech nežádoucí, například při aplikacích v potravinářském průmyslu. Rovněž velká drsnost oxidovaných a nitridovaných povrchů hliníkových materiálů je v některých případech použití značným nedostatkem.
V některých průmyslových aplikacích je třeba opatřit povrch hliníkového materiálu otěruvzdorným povlakem, který má nízký koeficient tření a lze ho bez silné degradace vystavit působení silného mechanického namáhání. Takový požadavek je běžný například při povrchové úpravě součástí moderních textilních strojů. Řeší se tak, že se na povrch hliníku nebo hliníkových slitin deponuje otěruvzdorný povlak, například povlak nitridu titanu TiN. Spojení povlaku se substrátem však vykazuje ostré rozhraní obou vrstev. Ostré rozhraní mezi povlakem a substrátem omezuje životnost povlakovaných hliníkových a duralových materiálů, zejména při takovém použití, kdy dochází k mechanickému a tepelnému namáhání. To je za současného stavu techniky značný problém. Také zpevňování a zušlechťování povrchu hliníku a hliníkových
-3slitin pro letecký průmysl je velmi žádoucí a není dosud uspokojivě vyřešeno.
Podstata vynálezu
Popsané nedostatky dosavadních povrchově zušlechtěných materiálů z hliníku a jeho slitin řeší povrchově zušlechtěný hliníkový materiál podle vynálezu, jehož podstatou je, že hliníkový substrát, například hliníková slitina, má na povrchu tenkou titanovou vrstvu o tlouštce v rozmezí 1 nm až 400 pm, spojenou se substrátem interdifuzní vrstvou, obsahující jak prvky titanu tak prvky substrátu.
Podstatou způsobu výroby povrchově zušlechtěného hliníkového materiálu podle vynálezu je, že se na očištěný hliníkový substrát nanese známým způsobem tenká titanová vrstva o tlouštce v rozmezí 1 nm až 400 pm a pak se hliníkový substrát s nanesenou tenkou titanovou vrstvou povrchově zpracuje v druhém kroku buď nitridací nebo žíháním ve vakuu nebo v definované atmosféře.
Díky tomuto postupu ve dvou krocích se v druhém kroku rozběhne proces silné vzájemné interdifuze prvků hliníkového substrátu a titanového povlaku.
Přehled obrázků na výkresech
Na výkresu jsou tři diagramy hloubkového prvkového profilu povrchově zušlechtěného hliníkového materiálu, vztahující se k oběma dále popsaným příkladům provedení vynálezu, změřené metodou GDOS (Glow discharge optical spectroscopy) s použitím spektrometru Lečo SPD-750.
Na obr.l je diagram hloubkového prvkového profilu hliníkového materiálu s naprášenou titanovou
-4vrstvou o tloušťce 4,5 pm před povrchovým zpracováním v druhém kroku.
Na obr.2 je diagram hloubkového prvkového profilu hliníkového materiálu s naprášenou titanovou vrstvou o tloušťce 4,5 pm po povrchovém zpracování v druhém kroku2 spočívajícím v tomto případě, popsaném dále jako první příklad provedení vynálezu, v nitridaci.
Na obr.3 je diagram hloubkového prvkového profilu hliníkového materiálu s naprášenou titanovou vrstvou o tloušťce 4,5 pm po povrchovém zpracování v druhém kroku, spočívajícím v tomto případě, popsaném dále jako druhý příklad provedení vynálezu, ve vakuovém žíhání.
Příklady provedení vynálezu
Dvěma příklady provedení vynálezu jsou dva laboratorně odzkoušené povrchově zušlechtěné hliníkové materiály s tenkou povlakovou titanovou vrstvou a způsoby jejich výroby podle vynálezu.
Příklad 1
Na hliníkový substrát o čistotě 99,8 atomových % o rozměrech 27x12x3 mm, jehož povrch se očistil standartním postupem běžně používaným před fyzikální depozicí vrstev, se naprášila stejnosměrným magnetronem, opatřeným titanovým terčem o průměru 60 mm, tenká titanová vrstva. Při depozici se substrát umístil ve vzdálenosti 45 mm od povrchu rozprašovaného titanového terče, ohřál na teplotu 200°C a polarizoval vůči uzemněné ocelové depoziční nádobě záporným napětím -100 V.
-5Naprašování se provádělo v argonu při výbojovém proudu 1,34 A a tlaku 0,6 Pa po dobu 15 minut. Takto vytvořená vrstva titanu měla tlouštku cca 4,5 um. Tím se skončil první krok postupu.
Obr.1 znázorňuje hloubkový prvkový profil hliníkového materiálu po skončení tohoto prvního kroku. Na svislé ose diagramu je měřítko koncentrace prvků v %, na vodorovné ose diagramu je měřítko hloubky v pm ve směru od povrchu povlaku směrem do substrátu. Plná čára i značí prvek hliníku AI, plná čára 2 značí prvek titanu Ti, přerušovaná čára 4 značí prvek uhlíku C a tečkovaná čára 5 značí prvek kyslíku 0.
Rozsahy citlivosti pro jednotlivé prvky na obr.1 jsou tyto:
AI (100*), Ti (100*), 0 (10*), C (0,5*).
Po skončení popsaného prvního kroku se provedl druhý krok, spočívající v tomto prvním příkladu provedení v nitridaci ve vysokotlakém doutnavém výboji hořícím ve směsi dusíku a vodíku v poměru 1:1 při tlaku 1067 Pa po dobu 4 hodin. Při nitridaci se teplota hliníkového materiálu udržovala na hodnotě 550°C. Během nitridace došlo k mimořádně silné vzájemné interdifuzi prvků hliníkového substrátu a titanového povlaku, jak dokazuje hloubkový prvkový profil hliníkového materiálu po skončení tohoto druhého kroku, znázorněný na obr.2.
Význam os diagramu na obr.2 je stejný jako na obr.1. Rovněž vztahové značky mají stejný význam jako na obr.1, avšak v důsledku nitridace je v diagramu na obr.2 navíc plná čára 3 značící prvek dusíku N. Rozsahy citlivosti pro jednotlivé prvky na obr.2 jsou tyto:
AI (100*), Ti (100*), N (10*), 0 (5*), C (0,2*).
Srovnání diagramů na obr.1 a na obr.2 názorně ukazuje důležitost druhého kroku posupu, t.j. v tomto případě nitridace, pro rozběhnutí procesu silné vzájemné interdifuze prvků hliníkového substrátu a tita„ nového povlaku a vytvoření intermetalické sloučeniny hliníku a titanu AI3TÍ. Vytvoření této intermetalické • sloučeniny prokázala rtg difrakční analýza pro hliníkový substrát pokrytý titanovou vrstvou naprášenou za výše uvedených podmínek, při teplotě 550°C po dobu 10 hodin.
Příklad 2
První krok byl tentýž jako v prvním příkladu provedení vynálezu, tedy jeho výsledkem byl hliníkový substrát s naprášenou tenkou titanovou vrstvou o tlouštce cca 4,5 μιη.
Po skončení prvního kroku se provedl druhý krok, spočívající v tomto druhém příkladu provedení ve vakuovém žíhání při teplotě 600°C po dobu 5,5 hodiny. Také během vakuového žíhání došlo k mimořádně silné vzájemné interdifuzi prvků hliníkového substrátu a titanového povlaku, jak dokazuje hloubkový prvkový profil hliníkového materiálu po skončení druhého kroku v tomto druhém příkladu provedení, znázorněný na obr.3.
Osy diagramu, jakož i vztahové značky na obr.3, mají stejný význam jako na obr.l.
Rozsahy citlivosti pro jednotlivé prvky na obr.3 jsou tyto:
Al (100%), Ti (100%), 0 (10%), C (0,5%).
Srovnání diagramů na obr.l a na obr.3 názorně ukazuje důležitost druhého kroku postupu, t.j. v tomto případě vakuového žíhání, pro rozběhnutí procesu silné vzájemné interdifuze prvků hliníkového substrátu a titanového povlaku.
-ΊPrůmyslová využitelnost
Povrchově zuálechtěný hliníkový materiál podle vynálezu je použitelný všude tam, kde je zapotřebí hliníkových materiálů s vyšším otěruvzdorným povrchem, vyšší povrchovou tvrdostí, nebo podrobovaných vyššímu mechanickému nebo tepelnému namáhání, nebo kde je zapotřebí zamezit difúzi hliníku do prostředí, které obklopují, tedy zejména v leteckém a kosmickém průmyslu, pro výrobu součástí textilních strojů, v potravinářském průmyslu, ale i pro dekorativní účely·
Způsob výroby podle vynálezu je použitelný v kovoprůmyslu, vyrábějícím materiály pro uvedené obory.
Claims (4)
- PA TENTOVE NÁROKY1. Povrchově zušlechtěný hliníkový materiál vyznačený tím, že hliníkový substrát, například hliníková slitina, má na povrchu tenkou titanovou vrstvu o tlouštce v rozmezí 1 nm až400 pm , spojenou se substrátem interdifuzní vrstvou, obsahující jak prvky titanu tak prvky substrátu.
- 2. Způsob výroby materiálu podle nároku 1 vyznačující se tím, že se nejprve na očištěný hliníkový substrát nanese známým způsobem tenká titanová vrstva o tlouštce v rozmezí1 nm až 400 pm, například naprášením titanu stejnosměrným magnetronem v argonu, a pak se hliníkový substrát s nanesenou tenkou titanovou vrstvou povrchově zpracuje v druhém kroku .
- 3. Způsob výroby podle nároku 2 vyznačující se tím, že povrchovým zpracováním ve druhém kroku je nitridace, například ve vysokotlakém doutnavém výboji hořícím ve směsi dusíku a vodíku.
- 4. Způsob výroby podle nároku 2 vyznačující se tím, že povrchovým zpracováním ve druhém kroku je žíhání ve vakuu nebo v definované atmosféře.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CZ941919A CZ191994A3 (cs) | 1994-08-09 | 1994-08-09 | Povrchově zušlechtěný hliníkový materiál a způsob jeho výroby |
| PCT/CZ1995/000017 WO1996005332A2 (en) | 1994-08-09 | 1995-08-07 | Coated material and method of its production |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CZ941919A CZ191994A3 (cs) | 1994-08-09 | 1994-08-09 | Povrchově zušlechtěný hliníkový materiál a způsob jeho výroby |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CZ191994A3 true CZ191994A3 (cs) | 1996-06-12 |
Family
ID=5464045
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CZ941919A CZ191994A3 (cs) | 1994-08-09 | 1994-08-09 | Povrchově zušlechtěný hliníkový materiál a způsob jeho výroby |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CZ (1) | CZ191994A3 (cs) |
-
1994
- 1994-08-09 CZ CZ941919A patent/CZ191994A3/cs unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0242100B1 (en) | Coated article and method of producing same | |
| JP2816786B2 (ja) | Al−Ti系又はAl−Ta系耐摩耗性硬質膜及びその製造方法 | |
| EP3670696A1 (en) | Corrosion resistant carbon coatings | |
| Zlatanović | Deposition of (Ti, Al) N coatings on plasma nitrided steel | |
| US5560993A (en) | Oxide-coated silicon carbide material and method of manufacturing same | |
| EP3417084B1 (en) | Cutting tool | |
| Stoiber et al. | Plasma-assisted pre-treatment for PACVD TiN coatings on tool steel | |
| EP1226030B1 (en) | Forming members for shaping a reactive metal and methods for their fabrication | |
| US5156725A (en) | Method for producing metal carbide or carbonitride coating on ceramic substrate | |
| CN107034465A (zh) | 层体系以及用于制造层体系的涂覆方法 | |
| US5262202A (en) | Heat treated chemically vapor deposited products and treatment method | |
| JP2823169B2 (ja) | コイルばねとその製造方法 | |
| US4873152A (en) | Heat treated chemically vapor deposited products | |
| CZ191994A3 (cs) | Povrchově zušlechtěný hliníkový materiál a způsob jeho výroby | |
| US5927727A (en) | Sealing element, particularly for shut-off and regulating valves, and process for its production | |
| US12331397B2 (en) | Coated forming tools with enhanced performance and increased service life | |
| He et al. | Improving the anticorrosion and mechanical behaviour of PACVD TiN | |
| Sanchette et al. | Single cycle plasma nitriding and hard coating deposition in a cathodic arc evaporation device | |
| EP0187791A1 (de) | Verfahren zur herstellung von hochverschleissfesten titannitrid-schichten. | |
| WO1996005332A2 (en) | Coated material and method of its production | |
| JPH04301084A (ja) | 耐摩耗性部材およびその製造法 | |
| JP2016053195A (ja) | 成形品及びその製造方法 | |
| RU2784959C1 (ru) | Способ получения слоистого композиционного материала Ti-TiN трибологического назначения | |
| Sridharan et al. | Ion beam enhanced deposition of titanium-nitride on INCONEL 718 | |
| Tanabe et al. | Effects of post quenching on mechanical properties of TiN film coated on steel substrate |