CZ2008395A3 - Zpusob ochrany stríbrných a medených povrchu proti korozi - Google Patents
Zpusob ochrany stríbrných a medených povrchu proti korozi Download PDFInfo
- Publication number
- CZ2008395A3 CZ2008395A3 CZ20080395A CZ2008395A CZ2008395A3 CZ 2008395 A3 CZ2008395 A3 CZ 2008395A3 CZ 20080395 A CZ20080395 A CZ 20080395A CZ 2008395 A CZ2008395 A CZ 2008395A CZ 2008395 A3 CZ2008395 A3 CZ 2008395A3
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- silver
- copper
- protection
- copper surfaces
- corrosion
- Prior art date
Links
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 50
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims abstract description 50
- 239000010949 copper Substances 0.000 title claims abstract description 24
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 23
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 22
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 title claims abstract description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 8
- UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N borane Chemical compound B UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 229910010277 boron hydride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims abstract 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 5
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- -1 boron hydride compound Chemical class 0.000 claims description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 7
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 abstract 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 45
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 16
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 6
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 4
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 150000003378 silver Chemical class 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052946 acanthite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- XUARKZBEFFVFRG-UHFFFAOYSA-N silver sulfide Chemical compound [S-2].[Ag+].[Ag+] XUARKZBEFFVFRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940056910 silver sulfide Drugs 0.000 description 2
- PGWMQVQLSMAHHO-UHFFFAOYSA-N sulfanylidenesilver Chemical compound [Ag]=S PGWMQVQLSMAHHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910014311 BxHy Inorganic materials 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000085 borane Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- BUMGIEFFCMBQDG-UHFFFAOYSA-N dichlorosilicon Chemical compound Cl[Si]Cl BUMGIEFFCMBQDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000010301 surface-oxidation reaction Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/58—After-treatment
- C23C14/584—Non-reactive treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/58—After-treatment
- C23C14/5873—Removal of material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
- C23F11/08—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
- C23F11/18—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using inorganic inhibitors
- C23F11/182—Sulfur, boron or silicon containing compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
Ochrana stríbrných a medených povrchu je zajištena pomocí navázané monomolekulární vrstvy klastrových sloucenin hydridu bóru majících na svých atomech bóru vázanou alespon jednu funkcní skupinu obsahující síru. Takto upravený povrch stríbra nebo medi je v agresivním prostredí zpusobující korozi stálý.
Description
Oblast techniky
Vynález se týká způsobu ochrany kovů, konkrétně mědi a stříbra, proti korozi.
Dosavadní stav techniky
Koroze stříbra a mědi představuje značný problém z důvodu mnoha technických aplikací obou kovů. V případě stříbra se může jednat například o jeho Černání v důsledku reakce se sultánem (H2S) ze vzduchu za vytvoření povrchové vrstvy sulfidu stříbra. U měděných předmětů se může jednat například o oxidaci na povrchu za vzniku vrstvy oxidu mědi. Jako příklady použití obou můžeme zmínit dekorativní účely, vytvoření reflexních stříbrných ploch, vodivých kontaktů atd.? Ochrana stříbrných a měděných povrchů má zvláštní význam u předmětů historické hodnoty. Oba kovy se z historických důvodů označují jako mincovní. Pro účely ochrany stříbrných povrchů zrcadel teleskopů se používá vrstva dielektrika. Běžným postupem je nanesení tenké vrstvy křemíku (Si) naprášením na stříbrný povrch a následná oxidace za vytvoření vrstvy SiCh. Jiné materiály používané k ochraně stříbra jsou například HfCů nebo S13N4. Tyto vrstvy brání přímému vystavení stříbrného povrchu atmosféře způsobující korozi. Další možnost představuje nanesení polymemích vrstev. Volba dielektrických vrstev na površích je ovlivněna požadovanými vlastnostmi výsledných materiálů. Zejména v oblasti teleskopů se jedná o absorpční vlastnosti nanášených vrstev.
Podstata vynálezu
Ochranu stříbra a mědi, tedy odolnost proti korozi (zejména pak proti černání stříbra), lze zajistit použitím Rastrových sloučenin hybridů bóru, látek obsahujících ve své molekule atomy bóru a vodíku. Jedná se o anorganické Rastrový sloučeniny odvozené od geometrie pravidelného ikosaedru. Tyto sloučeniny mohou ve své klastrové molekule obsahovat různé heteroatomy. Jako příklad běžných heteroatomů můžeme zmínit atomy ze skupin uhlíku (C) a dusíku (N) periodické soustavy prvků nebo d prvky periodické soustavy prvků. Zvláštní význam pak mají takzvané karborany obsahující ve své molekule kromě atomů bóru (B) a vodíku (H) alespoň jeden atom uhlíku. Hojně studované deriváty z této skupiny látek představují poziční izomery ChBiyHn: orího-, melu- a para-. První dva deriváty mají dipópový moment způsobený přítomností a pozicí dvou uhlíkových atomů v boranové kleci.
Thiolové (-SH) deriváty těchto klastrových sloučenin hydridů bóru reagují s kovem, se kterým tvoří vazby přes atomy síry. Na povrchu stříbrných nebo měděných předmětů tak vznikne monomolekulámí vrstva. Příkladem thiol derivátů klastrových sloučenin hydridů bóruje 9,12-(HS)2-1 ,2-C2B]qHio o schématické struktuře:
Tyto sloučeniny reagují se stříbrem nebo mědí v kapalném i plynném prostředí. Stříbrný nebo měděný předmět u něhož chceme docílit větší odolnosti proti korozi se pro vytvoření monomolekulámí vrstvy ponoří do roztoku klastrové sloučeniny hydridů bóru sjeho následným opláchnutím čistým rozpouštědlem. Jako rozpouštědla lze použít ethanol, methanol, isopropanol, chloroform, hexan, heptan, toluen, benzen, aceton, dichlormethan, acetonitril, dietyleter. V případě modifikace stříbrného nebo měděného povrchu z vodného roztoku je výhodné použít místo derivátu 9,12-(HS)2-1 ,2-C2BioHio, jeho sodnou, 9,12-(NaS)21,2-C2BioHio, draselnou, 9,12-(KS)2-1,2-C2B|oHio nebo jinou sůl rozpustnou ve vodě nebo ve směsi alkohol/voda.
Druhou možností modifikace stříbrného nebo měděného povrchu je jeho vystavení plynné fázi klastrové sloučeniny hydridů bóru, například 9,12-(HS)2-1,2-C2BioHio- Tato procedura má výhodu v tom, že nezahrnuje rozpouštědlo, které může být zdrojem nečistot organické povahy.
Na stříbrném nebo měděném předmětu ponořeném do roztoku dochází k reakci přítomných derivátů klastrových molekul sjeho povrchem za vzniku monomolekulámí vrstvy. Vznikají vazby mezi atomy kovu a atomy síry navázanými na atomy bóru klastrových sloučenin hydridů bóru.
Tato ochrana proti korozi je využitelná zejména u klastrových sloučenin hydridů bóru tvořících vazbu ke stříbrnému nebo měděnému povrchu přes atomy síry vázané na atomy bóru (Ag(Cu)- S - Β). Takto ošetřený povrch kovu je při vystavení agresivním podmínkám, například atmosféře H2S, výrazně více odolný než povrch nechráněný. V případě je-li atom síry vázán na molekulu přes heterogenní atom uhlíku ochrana je méně účinná, což bylo prokázáno u derivátu 1,2-(HS)-1,2-C2BioHi0 nebo u organických thiolů. Jedním z důvodů může být menší stabilita vazeb Ag(Cu)- S - C.
Velmi výhodnou a využitelnou vlastností sloučenin hydridů bóru (BxHy) a jejich různých derivátů je odolnost vůči vysokým teplotám a různým druhům záření. Tato skutečnost je činí vhodnými pro ochranu teplotně a jinak namáhaných součástí různých přístrojů. Jako příklad můžeme zmínit stříbrné nebo měděné vodivé kontakty, spoje a jiné součásti elektrických obvodů. Dále pak se může jednat o ochranu stříbrných povrchů zrcadel astronomických teleskopů. Použití klastrových sloučenin hydridů bóru pro ochranu stříbrných nebo měděných součástí přístrojů určených pro studium nebo analýzy vzorků v agresivních prostředích může výrazně zvýšit životnost těchto součástí a přístrojů.
Popsaná ochrana stříbrného povrchu proti korozi (černání) může být použita pro ochranu stříbrných předmětů historických hodnot jako jsou např. stříbrné mince, stříbrné nádobí nebo stříbrné šperky. Šperkařství obecně představuje oblast se značným potenciálem kvůli značnému rozšíření.
Použití klastrových sloučenin hydridů boru pro účely chránění povrchů stříbra a mědi nebylo dosud popsáno. Použití těchto látek dále zmíněným postupem vede k monomolekulámím vrstvám na povrchu stříbra nebo mědi. Jedná se tedy o extrémně tenkou vrstvu, která se svojí tloušťkou pohybuje kolem 1 nm. Absorpční vlastnosti jsou významně omezeny minimálním množstvím látky potřebné pro úplné pokrytí povrchu. Deposice těchto látek na povrchu stříbrných či měděných povrchů nepotřebuje žádné složitější zařízení pro realizaci.
Přehled obrázku na výkresech
Obr. 1: Schématická struktura klastrové sloučeniny hydridů bóru 9,12-(HS)2-1,2-C2BjoH[o. kde v polohách l a 2 jsou atomy uhlíku. Atomy vodíku jsou pro jednoduchost ve vrcholech ikosaedru vynechány.
Příklady provedení vynálezu
Příklad 1
Derivát 9,12-(HS)2-l,2-C2BioHio (200 mg) se rozpustí ve 2 ml chloroformu a do výsledného roztoku se zanoří skleněná destička s čerstvě napařeným stříbrným filmem o tloušťce 200 nm na dobu 1 hodiny. Destička se stříbrným filmem se následně vyjme z roztoku, opláchne se čistým rozpouštědlem a nechá se na vzduchu uschnout. Takto upravený povrch stříbrného filmu vykazuje výrazně vyšší odolnost proti černání v atmosféře sulfanu (H2S) než samotný stříbrný film. Upravený stříbrný povrch se umístí do uzavřené nádoby (např. exsikátoru) nad vodný roztok Na2S po dobu jednoho měsíce. Po této době si povrch modifikovaný derivátem 9,12-(HS)2-1,2-C2BioHio stále zachovává stříbrný vzhled na rozdíl od nemodifikovaného stříbrného povrchu, který zčerná v důsledku vytvoření vrstvy sulfidu stříbra.
Příklad 2
Skleněná destička s čerstvě napařeným stříbrným filmem (200 nm) se vystaví plynné fázi sublimujícího 9,12-(HS)2-1,2-C2BioHio· Následně se opláchne čistým rozpouštědlem a nechá uschnout na vzduchu. Takto upravený povrch stříbrného filmu vykazuje výrazně vyšší odolnost proti černání v atmosféře sulfanu (H2S) než neupravený stříbrný film. Upravený stříbrný povrch se umístí do uzavřené nádoby (např. exsikátoru) nad vodný roztok Na2S po dobu jednoho měsíce. Po této době si povrch modifikovaný derivátem 9,12-(HS)2-1,2C2BioH]o stále zachovává stříbrný vzhled na rozdíl od nemodifikovaného stříbrného povrchu, který zčerná v důsledku vytvoření vrstvy sulfidu stříbra.
Příklad 3
Skleněná destička s čerstvě napařeným stříbrným filmem (200 nm) se vystaví vodnému roztoku (2 ml) karboranthiolátu sodného 9,I2-(NaS)2-l,2-C2BioHio (100 mg). Následně se opláchne čistou destilovanou vodou a nechá uschnout na vzduchu. Takto upravený povrch stříbrného filmu vykazuje výrazně vyšší odolnost proti černání v atmosféře sulfanu (H2S) než neupravený stříbrný film, Upravený stříbrný povrch se umístí do uzavřené nádoby (např. exsikátoru) nad vodný roztok Na2S po dobu jednoho měsíce, Po této době si povrch modifikovaný karboranthiolátem sodným, 9,12-(HS)2-l,2-C2BioHio, stále zachovává stříbrný vzhled na rozdíl od nemodifikovaného stříbrného povrchu, který zčerná v důsledku vytvoření vrstvy sulfidu stříbra.
Průmyslová využitelnost
Pro stříbrné součásti zařízení v astronomii, elektronice, ve vesmírných technologiích.
V klenotnictví, pro ochranu historických předmětů.
Claims (3)
- PATENTOVÉ NÁROKY1. Způsob ochrany stříbrných a měděných povrchů proti korozi, vyznačující se tím, že tyto povrchy se vystaví působení klastrových sloučenin hydridů bóru, majících na svých atomech bóru vázanou alespoň jednu funkční skupinu obsahující alespoň jedenatom síry, a to rozpuštěných v rozpouštědle nebo z jejich par.
- 2. Způsob ochrany stříbrných a měděných povrchů proti korozi podle nároku 1, vyznačující se tím, že jako klastrová sloučenina hydridu bóru je použit 9.12-(HS)2-1,2-C2B10H10
- 3. Způsob ochrany stříbrných a měděných povrchů proti korozi podle nároku 2, vyznačující se tím, že jako rozpouštědlo je použit chloroform nebo dichlormethan nebo hexan nebo heptan nebo toluen nebo benzen nebo aceton nebo acetonitril nebo dietyleter nebo tetrahydrofuran nebo methanol nebo ethanol nebo isopropanol nebo voda nebo jejich směsi.
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CZ20080395A CZ2008395A3 (cs) | 2008-06-23 | 2008-06-23 | Zpusob ochrany stríbrných a medených povrchu proti korozi |
| PCT/CZ2009/000087 WO2010006562A1 (en) | 2008-06-23 | 2009-06-23 | Method of protection of silver and copper surfaces against corrosion |
| EP09775811A EP2313539A1 (en) | 2008-06-23 | 2009-06-23 | Method of protection of silver and copper surfaces against corrosion |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CZ20080395A CZ2008395A3 (cs) | 2008-06-23 | 2008-06-23 | Zpusob ochrany stríbrných a medených povrchu proti korozi |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CZ300905B6 CZ300905B6 (cs) | 2009-09-09 |
| CZ2008395A3 true CZ2008395A3 (cs) | 2009-09-09 |
Family
ID=41050812
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CZ20080395A CZ2008395A3 (cs) | 2008-06-23 | 2008-06-23 | Zpusob ochrany stríbrných a medených povrchu proti korozi |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP2313539A1 (cs) |
| CZ (1) | CZ2008395A3 (cs) |
| WO (1) | WO2010006562A1 (cs) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107630214B (zh) * | 2017-10-25 | 2021-07-09 | 上海造币有限公司 | 一种用于纯银纪念币/章局部上色处理的工艺 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3674853A (en) * | 1970-09-25 | 1972-07-04 | Olin Corp | Sulfur-containing carborane derivatives and the method of preparation |
| JP3313432B2 (ja) * | 1991-12-27 | 2002-08-12 | 株式会社東芝 | 半導体装置及びその製造方法 |
| US5226067A (en) * | 1992-03-06 | 1993-07-06 | Brigham Young University | Coating for preventing corrosion to beryllium x-ray windows and method of preparing |
| WO2002062806A1 (en) * | 2001-02-05 | 2002-08-15 | The Regents Of The University Of California | Organofunctionalized per-b-hydroxy polyhedral boranes |
| US6841456B2 (en) * | 2001-04-09 | 2005-01-11 | Stephen D. Hersee | Method of making an icosahedral boride structure |
| WO2003068503A1 (en) * | 2002-02-14 | 2003-08-21 | Iowa State University Research Foundation, Inc. | Novel friction and wear-resistant coatings for tools, dies and microelectromechanical systems |
| US7238429B2 (en) * | 2003-09-23 | 2007-07-03 | Iowa State University Research Foundation, Inc. | Ultra-hard low friction coating based on A1MgB14 for reduced wear of MEMS and other tribological components and system |
| US7524535B2 (en) * | 2004-02-25 | 2009-04-28 | Posco | Method of protecting metals from corrosion using thiol compounds |
-
2008
- 2008-06-23 CZ CZ20080395A patent/CZ2008395A3/cs not_active IP Right Cessation
-
2009
- 2009-06-23 EP EP09775811A patent/EP2313539A1/en not_active Withdrawn
- 2009-06-23 WO PCT/CZ2009/000087 patent/WO2010006562A1/en not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP2313539A1 (en) | 2011-04-27 |
| CZ300905B6 (cs) | 2009-09-09 |
| WO2010006562A1 (en) | 2010-01-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Liu et al. | Benzothiazole derivatives-based supramolecular assemblies as efficient corrosion inhibitors for copper in artificial seawater: Formation, interfacial release and protective mechanisms | |
| US11383266B2 (en) | Carbene-functionalized composite materials | |
| Minaye Hashemi et al. | Selective Deposition of Dielectrics: Limits and Advantages of Alkanethiol Blocking Agents on Metal–Dielectric Patterns | |
| US9203042B2 (en) | Electronic component and method for producing an electronic component | |
| ES2608383T3 (es) | Recubrimientos anticorrosivos | |
| US11008291B2 (en) | Methods of forming carbene-functionalized composite materials | |
| GB2123442A (en) | Chemical surface modification of metals coating with metals | |
| EP2539487B1 (en) | Method for protecting silver and silver alloy surfaces against tarnishing | |
| GB2372717A (en) | Fabrication of self-assembled monolayers using CO2 | |
| Gonzalez Arellano et al. | Phase transition of graphene-templated vertical zinc phthalocyanine nanopillars | |
| JP2012511828A (ja) | 電子回路堆積方法 | |
| Park et al. | Enhanced Thermopower of Saturated Molecules by Noncovalent Anchor‐Induced Electron Doping of Single‐Layer Graphene Electrode | |
| Moon et al. | Electroless silver coating of rod-like glass particles | |
| WO2017205980A1 (en) | Etching metal using n-heterocyclic carbenes | |
| Zhu et al. | Self‐healing of TiSiN/Ag coatings induced by Ag | |
| US20190352184A1 (en) | A process for producing graphene, a graphene and a substrate thereof | |
| Zhang et al. | The research progress on corrosion and protection of silver layer | |
| Son et al. | Dopant Control of Solution‐Processed CuI: S for Highly Conductive p‐Type Transparent Electrode | |
| US8778454B2 (en) | Modified surfaces | |
| CZ2008395A3 (cs) | Zpusob ochrany stríbrných a medených povrchu proti korozi | |
| Jana et al. | Sputter-cleaning modified interfacial energetic and molecular structure of DNTT thin film on ITO substrate | |
| Costas et al. | Silver nanoparticles decorated ZnO–CuO core–shell nanowire arrays with low water adhesion and high antibacterial activity | |
| Klyamer et al. | Effect of the structural features of metal phthalocyanine films on their electrophysical properties | |
| Cosham et al. | Precursors for p‐Type Nickel Oxide: Atmospheric‐Pressure Metal–Organic Chemical‐Vapour Deposition (MOCVD) of Nickel Oxide Thin Films with High Work Functions | |
| WO2005095941A1 (ja) | 金属微粒子を用いた質量分析方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | Patent lapsed due to non-payment of fee |
Effective date: 20120623 |