CZ2010867A3 - Fotoprotektivní filmotvorná kompozice, zejména pro ochranu a restaurování památek, a její použití - Google Patents

Fotoprotektivní filmotvorná kompozice, zejména pro ochranu a restaurování památek, a její použití Download PDF

Info

Publication number
CZ2010867A3
CZ2010867A3 CZ20100867A CZ2010867A CZ2010867A3 CZ 2010867 A3 CZ2010867 A3 CZ 2010867A3 CZ 20100867 A CZ20100867 A CZ 20100867A CZ 2010867 A CZ2010867 A CZ 2010867A CZ 2010867 A3 CZ2010867 A3 CZ 2010867A3
Authority
CZ
Czechia
Prior art keywords
film
forming composition
photoprotective
polymer
composition according
Prior art date
Application number
CZ20100867A
Other languages
English (en)
Other versions
CZ303028B6 (cs
Inventor
Kubác@Lubomír
Kotlík@Petr
Horálek@Jirí
Akrman@Jirí
Doubravová@Katerina
Bayer@Karol
Honcu@Petr
Original Assignee
Centrum organické chemie s.r.o.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Centrum organické chemie s.r.o. filed Critical Centrum organické chemie s.r.o.
Priority to CZ20100867A priority Critical patent/CZ303028B6/cs
Publication of CZ2010867A3 publication Critical patent/CZ2010867A3/cs
Publication of CZ303028B6 publication Critical patent/CZ303028B6/cs

Links

Landscapes

  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)

Abstract

Filmotvorná polymerní kompozice zahrnující polymerní matrici s chemicky zabudovaným UV filtrem (UV absorbérem) benzotriazolového typu, jejíž podstata spocívá v tom, že matrice sestává z alespon jednoho polymeru na bázi esteru .alfa., .beta. - nenasycených kyselin a techto kyselin samotných, pricemž kompozice dále obsahuje jako aditiva další UV absorbét tvorený hydroxyfunkcní látkou benzofenonového typu a/nebo alespon jeden antioxidant na bázi stericky bránených aminu (HALS), kde tato aditiva vykazují synergický efekt zvyšující trvalý ochranný úcinek kompozice. Tuto kompozici je možno aplikovat bud prímo ve forme ochranného filmu na chránený predmet nebo jako adhesivní vrstvu na transparentní bezbarvé fólie, které se aplikují na transparentní desky (napr. okenní sklo nebo vitríny) a jsou schopny odfiltrovat veškeré UV zárení ze svetelného zdroje, které osvetluje chránený prostor s chráneným predmetem nebo predmety. Fotoprotektivní filmotvorná kompozice nekolikanásobne zvyšuje odolnost chránených predmetu pred úcinky UV zárení a zajištuje tak požadované prostredí pro dlouhodobé uložení predmetu s vysokou kulturní a historickou hodnotou.

Description

Oblast techniky
Vynález se týká filmotvomé kompozice, kterou je možno aplikovat při ochraně či restaurování památek nebo předmětů citlivých na UV záření. Tuto kompozici je možno aplikovat buď přímo ve formě ochranného filmu nebo jako adhesivní vrstvu na transparentní bezbarvé fólie, které se aplikují na sklo a odfiltrují veškeré UV záření ze světelného zdroje, který osvětluje chráněný prostor.
Dosavadní stav techniky
Mezi nej závažnější faktory způsobující degradaci přírodních i syntetických materiálů patří UV složka slunečního záření. To se ve značné míře týká také sbírkových předmětů muzeí, galerií, archivů a dalších objektů, které podléhají památkové ochraně. Tyto předměty jsou vyrobeny převážně z organických materiálů jako je dřevo, textil, useň, papír nebo pergamen. Výraznou skupinou sbírkových předmětů jsou také sochařská a malířská díla, u kterých je nositelem umělecké hodnoty vedle tvaru především barevná vrstva tvořená pigmenty spojenými přírodními organickými pojivý, jako jsou přírodní pryskyřice nebo rostlinné oleje. I tato pojivá jsou citlivá na UV záření, jehož vlivem dochází k praskání barevné vrstvy či k nežádoucímu zakalení daného pojivá.
V poslední době stále více roste množství sbírkových předmětů vyrobených z moderních materiálů. Mezi ně patří například modifikované přírodní či zcela syntetické polymery - deriváty celulózy, přírodní bílkoviny, přírodní nebo syntetické pryže, reaktivní syntetické pryskyřice, různé termoplasty apod.
Zajistit bezpečné prostředí pro uchování těchto předmětů je finančně značně náročné. Je nutno vytvořit mikroklima s optimálními hodnotami teploty a relativní vlhkosti vzduchu a hlavně s co možná nejnižší úrovní UV záření. UV záření pochází jak z přírodního zdroje (sluneční záření), tak ze zdrojů umělých (různé typy výbojek, zářivek apod.), a tudíž je nutno zajistit dostatečně účinnou ochranu pro objekty umístěné v exteriéru i v interiérových prostorech. Ochrana proti působení UV záření je zpravidla v konkrétních podmínkách řešena omezením osvětlení (depozitáře, studovny), výběrem světelného zdroje (interiérové * * • « • « expozice), dále umístěním ve vitríně s omezeným průnikem UV záření nebo ochranným povrchovým nátěrem. Ochranného účinku nátěrů nebo UV filtrů je zpravidla dosahováno přídavkem vhodných UV absorbujících látek. Nevýhodou těchto systémů je, že ochranná látka není stabilní, a může tedy docházet k její migraci, odparu apod., a tím na některých místech ke snižování koncentrace pod kritickou hranici zajišťující účinnou ochranu.
Nedostatky vhodných ochranných materiálů vedou k tomu, že si restaurátoři či konzervátoři připravují potřebné ochranné laky svépomocí (s jimi požadovanými vlastnostmi, barevným odstínem apod.), zpravidla přídavkem vybrané UV absorbující látky k dostupnému polymemímu systému, který v ostatních bodech splňuje jejich požadavky (viskozita roztoku či disperze, barevný odstín, typ rozpouštědla, odstranitelnost, životnost samotného polymeru apod.). Nedostatek technologických znalostí, nedostupnost ověřovacích zkoušek víceméně náhodné dávkování ochranného aditiva atd. často vedou v takových případech k málo kvalitním, nejistým a nehomogenním výsledkům neumožňujícím průmyslovou využitelnost.
Jsou známé fotoprotektivní sloučeniny vytvořené na bázi polymerní matrice s UV stabilizátorem benzotrialového typu, který je v polymerní matrici reaktivně vázán. Např. k podle EP 22 28 397 je známá kombinace povrchově aktivní látky a stabilizující části v jedné .>0 molekule polymeru. Stabilizující část je tvořena mj. benzotrialem, ovšem benzotrialy vázané v molekule mají nižší a krátkodobější účinek než by bylo potřeba pro dlouhodobou ochranu a restaurování památek.
Obdobná řešení jsou popsána v US 5629365, US 4716234, US 5458924 a v EP 1067223, kde UV absorbér benzotrialového nebo benzofenonového typu může být doplněn stericky bráněným aminem HALS, opět v jedné molekule, tzn. přidaným v průběhu polymerační reakce. Ani u těchto sloučenin není dosaženo požadovaného dlouhodobého účinku, některé jsou vhodné např. pro ochranu textilií nebo potahování textilních vláken.
Dokument US 2008/281023 popisuje plastové fólie, využitelné jako dekorační materiály pro povrchovou úpravu, které mají polymerní matrici obsahující UV absorbér a UV stabilizátor. UV absorbér může být polymerizovatelný, tzn. že je zabudován v polymerní matrici, přičemž může být přidán i UV absorbér triazinového typu. Popsané řešení je vhodné pro jednovrstvé nebo vícevrstvé plastové fólie, nikoli pro laky a pro adhesivní vrstvy samolepících fólií.
Z dokumentu WO 94/00524 je známá aplikace filmotvomého latexu obsahujícího UV absorbér benzotrialového nebo benzofenonového typu, avšak ve formě částic polymeru o »
velikosti např. 5 mikrometrů. UV absorbér zde není součástí polymemí matrice, nevýhoda tohoto řešení spočívá i ve velikosti částic UV absorbéru, které mohou mít za jistých okolností rušivý vliv na vizuální vlastnosti výsledného filmu.
Úkolem vynálezu je odstranit výše uvedené nedostatky a vytvořit fotoprotektivní filmotvomou kompozici, ve které by byla UV absorbující složka stejnoměrně a stabilně rozptýlena, a tak by bylo dosaženo dlouhodobého a rovnoměrného ochranného účinku, vhodného mj. pro ochranu a restaurování památek.
Podstata vynálezu z ,
Předložený vynález ’/výše uvedené nedostatky na základě známého principu zabudování UV absorbéru benzotriajového typu do polymemí matrice ochranné vrstvy. Molekula UV absorbéru je chemicky tvořena dvěma částmi oddělenými dostatečně dlouhým alkylovým řetězcem. Jedna část molekuly je schopna absorbovat UV záření jak v UVA, tak v UVB oblasti, druhá část molekuly je tvořena polymerizovatelnou skupinou. Platí, že alkylový řetězec o délce 2 až 5 uhlíků je dostatečně dlouhý k tomu, aby obě funkční částí od sebe oddělil a zamezil vzájemné interakci. Zároveň zůstává zachován základní předpoklad, a to, že UV absorpční jednotka je vázána k polymemí matrici pevnou chemickou vazbou a tím je zamezena možnost její migrace. UV absorbér je tak trvale homogenně rozprostřen v celé polymemí matrici fotoprotektivní filmotvomé kompozice. Obsah chemicky vázaného UV absorbéru je s výhodou 1 -7,5 % hmotnostních, vztaženo na sušinu polymemí matrice.
Podstata fotoprotektivní filmotvomé kompozice pro ochranu a restaurování památek podle vynálezu spočívá v tom, že polymemí matrice sestává z alespoň jednoho polymeru na v bází esterů α. β - nenasycených kyselin Včetně těchto kyselin samotných, a kompozice dále obsahuje jako aditiva další UV absorbér tvořený hydroxyfunkční látkou benzofenonového typu a a. neboj alespoň jeden antioxidant na bázi stéricky bráněných aminů (HALS). Kombinací specifického typu matrice ze zabudovaným UV absorbérem s uvedenými aditivy je dosaženo neočekávaného synergického účinku, který se projevuje vysokým ochranným účinkem kompozice, a v jejích dlouhodobě stabilních ochranných vlastnostech.
Výše uvedené polymery či kopolymery mohou být formulovány jako kompozice vhodná pro přípravu fotoprotektivnich laků aplikovatelných ve formě roztoků v organických rozpouštědlech nebo jako vodné disperze polymerů přímo na chráněný povrch, nebo jako
1 trvale lepivá adheziva, která je možno použít např. pro přípravu samolepících, tlakem aktivovatelných fólií s ochrannou funkcí proti UV záření.
Materiály z první skupiny umožňují vytvoření povrchových ochranných filmů na libovolném povrchu, jež snižují či zcela eliminují (v závislosti na tloušťce filmu) vliv UV záření z přírodního či umělého zdroje na lakem chráněný materiál. Odolnost vlastního polymemího materiálu a stabilita UV absorbujících složek jsou zárukou dlouhodobé účinnosti bez nebezpečí změny barvy či transparence ochranného filmu či bez nebezpečí migrace UV absorbující složky. Jsou vhodné především pro ochranu polychromovaných povrchů uměleckých a umělecko-řemeslných děl, technického textilu, povrchů z jiných polymerů přírodních i syntetických apod. Dosud běžně používané materiály pro povrchové ochranné laky - na bázi přírodních pryskyřic (např. damara) nebo syntetických polymerů (kopolymery esterů kyseliny akrylové nebo metakrylové apod.) - mají ve srovnání s nově vyvinutými materiály výrazně menší ochrannou schopnost proti UV záření i životnost ochranného účinku. Pro tyto aplikace lze s výhodou použít polymery na bázi esterů α, β - nenasycených kyselin s počtem uhlíkových atomů v esterové části 1 až 2, mající hodnotu teploty skelného přechodu Tg>0, a polymerizovatelný UV absorbér benzotriazolového typu, 2-[3-(2//-benzotriazol-2-yl)- 4-hydroxyfenyl]ethyl methakrylát („BHFM“, Vzorec I) v kombinaci s antioxidantem s výhodou typu HALS (na bázi stericky bráněných aminů) jako složky se synergickým UV stabilizujícím efektem.
Materiály z druhé skupiny - trvalá adheziva s UV absorbujícími skupinami vázanými v polymemí molekule jsou vhodné pro přípravu tzv. UV filtrů, které jsou schopny výrazně omezit až zcela potlačit pronikání záření v UV oblasti spektra zvnějšku do prostoru např. výstavních vitrín, jejichž skla jsou zmíněnými UV filtry pokryta. Ochranná funkce je účinná v případě umělých zdrojů světla i zdroje přírodního, slunečního záření. To umožňuje překrytím okenních skel uvedeným typem fólie vytvořit prostředí s minimálním množstvím UV složek slunečního světla v celé místnosti expozice, depozitáře apod. V porovnání se současnými UV filtry je účinnost nově vyvinutých materiálů podstatně vyšší. Současně je pak zaručeno, že nedochází k nežádoucím estetickým změnám způsobeným použitím této fólie. Jejich aplikace nemá vliv na změnu indexu lomu, čímž není deformován vizuální vjem, stejně tak žádná ze složek neabsorbuje ve viditelné oblasti spektra, takže nedochází k nežádoucímu zabarvení těchto fólií, či světla procházejícím těmito fóliemi. Pro tyto aplikace lze s výhodou užít polymery na bázi esterů α, B - nenasycených kyselin s počtem atomů v esterové části 1-18, mající hodnotu teploty skelného přechodu Tg<0, a UV absorbér benzotriazolového typu, který lze dále s výhodou kombinovat s dalším UV absorbérem, tvořeným hydroxyfunkční aditivní •5 látkou benzofenonového typu, přičemž vzájemný poměr zastoupení UV absorbérů leží v rozmezí od 1:3 do 3:1. Součástí polymemí matrice jsou ve výhodném provedení vynálezu polymerizovatelný UV absorbér benzotriazolového typu, 2-[3-(2H-benzotriazol-2-yl)-4- hydroxyfenyijethyl methakrylát („BHFM“, Vzorec I) v kombinaci s UV absorbérem 2,4dihydroxybenzofenonem nebo 2,2’,4,4'-tetrahydroxybenzofenonem nebo jejich směsí a dále s antioxidantem typu HALS jako složky se synergickým UV stabilizujícím efektem.
Vzorec I:BHFM - CAS No [96478-γ-09-0], relativní molekulová hmotnost 323,35, bod tání 96r9a°C).
s
Výše uvedené polymemí ochranné vrstvy se připravují postupem radikálové polymerace v roztoku. Pro tento způsob polymerace lze obecně použít řadu komerčně dostupných tzv. disociačních iniciátorů s různou účinností, např. dialkyperoxidů, diacylperoxidů, hydroperoxidů, ketonperoxidů, peroxoesterů, azoiniciátorů, apod. Nejvyšší účinností (prakticky 100 %) se vyznačují posledně jmenované azoinicíátory typu 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitril), 2,2'- azobis(2-methylpropionitril), tzv. AIBN, 2,2'- azobis(2-methyl-butyronitril) a 1,T- azobis(cyklohexankarbonitril), komerčně dostupné od firmy DuPont pod obchodním označením VÁZO® catalyst 52, VÁZO® catalyst 64, VÁZO® catalyst 67, VÁZO catalyst 88. Tyto iniciátory lze s výhodou použít i při polymeraci dusíkatých monomerů. Použití uvedených typů iniciátorů se osvědčuje zejména v oblasti tzv. lakařských pryskyřic, kde je dbáno na dosažení požadované molekulárně hmotnostní distribuce. V oblasti adheziv se v některých případech naopak preferuje použití diacylperoxidů, např. dilauroylperoxidu apod., kde malá část polymemích řetězců s dosaženou nižší molekulovou hmotností slouží jako stejnojmenný plastifikátor a rozlivové činidlo zároveň.
r I
Výhody fotoprotektivní filmotvomé kompozice podle vynálezu spočívají zejména v tom, že nedochází k migraci účinné ochranné složky, a že dosažený účinek je vysoký, dlouhodobě stabilní a průmyslově přesně reprodukovatelný.
Příklady provedení vynálezu
Rozumí se, že dále popsané a zobrazené konkrétní příklady uskutečnění vynálezu jsou představovány pro ilustraci, nikoli jako omezení příkladů provedení vynálezu na uvedené případy. Odborníci znalí stavu techniky najdou nebo budou schopni zjistit za použití rutinního experimentování větší či menší počet ekvivalentů ke specifickým uskutečněním vynálezu, která jsou zde speciálně popsána. I tyto ekvivalenty budou zahrnuty v rozsahu následujících patentových nároků.
A. Příprava filmotvorných kompozic ve formě fotoprotektivních (meth)akrylátových kopolymerů
Příklad A-l Příprava kopolymeru EA~MMA~KA~BHFM (hm. poměr 47 : 49,5 : 0,5 : 3) v methylethylketonu (MEK)
Do čtyřhrdlé baňky objemu 15Ooínl, opatřené míchadlem, zpětným chladičem, vstupem pro přívod inertního plynu (dusík, argon) a vstupem pro dávkování monomemí směsi se předloží 275g MEK a předloha se vyhřeje na 80 °C (teplota lázně 90 °C). Poté se postupně rovnoměrně po dobu 180 minut dávkuje roztok monomemí směsi, sestávající z 141 g ethyiakrylátu (EA), 148,5 g methylmethakrylátu (MMA), 1,5 g kyseliny akrylové (KA) a 9 g BHFM. Monomemí směs je iniciována 4,5 g (1,5 % hmotnostních, vztaženo na monomery) disociačního iniciátoru VÁZO 67. Po provedení proplachu 25 g MEK se reakční směs temperuje dalších 60 minut. Následně se teplota lázně sníží na 80 °C a k doreagování zbytkových monomerů se dvakrát po 60 minutách dávkuje 1,5 g VÁZO 64 ve 20 g MEK. Po ukončení polymerace se roztok polymeru ochladí a při 30 °C se dávkuje 0,3 g (0,1 % hmotnostních, vztaženo na monomery) Tinuvinu 292, rozpuštěného v 5 g MEK. Po řádném promíchání se hotový polymer vypustí. Stanovená hodnota sušiny takto připraveného polymeru (105 °C/1 hod.) činí 47,5 % hmotnostních, teplota skelného přechodu Tg(DSC) = 45 °C, molekulárně hmotnostní distribuce Mn = 13 586, Mw = 32 917, PDI = 2,42.
• · » i i
Příklad A-2 Příprava kopolymeru EA~MMA~KA~BHFM (hm. poměr 39,5 : 56 : 0.5 : 4) v ethyl acetátu (EtAc)
Do čtyřhrdlé baňky objemu 1500 ml, opatřené míchadlem, zpětným chladičem, vstupem pro přívod inertního plynu (dusík, argon) a vstupem pro dávkování monomemí směsi se předloží 275 g EtAc a předloha se vyhřeje na 80 °C (teplota lázně 90 °C). Poté se postupně rovnoměrně po dobu 180 minut dávkuje roztok monomemí směsi, sestávající z 118,5 g ethylakrylátu (EA), 168 g methylmethakrylátu (MMA), 1,5 g kyseliny akrylové (KA) a 12 g BHFM. Monomemí směs je iniciována 4,5 g (1,5% hmotnostních, vztaženo na monomery) disociačního iniciátoru VÁZO 67. Po provedení proplachu 25 g EtAc se reakční směs temperuje dalších 60 minut. Následně se teplota lázně sníží na 80 °C a k doreagování zbytkových monomerů se dvakrát po 60 minutách dávkuje 1,5 g VÁZO 64 ve 20 g EtAc. Po ukončení polymerace se roztok polymeru ochladí a při 30 °C se dávkuje 0,75 g (0,25 % hmotnostních, vztaženo na monomery) Tinuvinu 292, rozpuštěného v 5 g EtAc. Po řádném promíchání se hotový polymer vypustí. Stanovená hodnota sušiny takto připraveného polymeru (105 °C/1 hod.) činí 47,8 % hmotnostních, teplota skelného přechodu Tg(DSC) = 52,5 °C, molekulárně hmotnostní distribuce Mn = 16123, Mw = 37566, PDI = 2,33.
Příklad A-3 Příprava kopolymeru EMA~MA~-KA~BHFM (hm. poměr 67 : 27,5 : 0,5 : 5) ve směsném solventu MEK:EtAc=l:l
Do čtyřhrdlé baňky objemu 1 500 ml, opatřené míchadlem, zpětným chladičem, vstupem pro přívod inertního plynu (dusík, argon) a vstupem pro dávkování monomemí směsi se předloží 280 g směsného solventu a předloha se vyhřeje na 80 °C (teplota lázně 90 °C). Poté se postupně rovnoměrně po dobu 180 minut dávkuje roztok monomemí směsi, sestávající z 201 g ethylmethakrylátu (EMA), 82,5 g methylakrylátu (MA), 1,5 g kyseliny akrylové (KA) a 15 g BHFM. Monomemí směs je iniciována 4,5 g (1,5 % hmotnostních, vztaženo na monomery) disociačního iniciátoru VÁZO 67. Po provedení proplachu 25 g solventu se reakční směs temperuje dalších 60 minut. Následně se teplota lázně sníží na 80 °C a k doreagování zbytkových monomerů se dvakrát po 60 minutách dávkuje 1,5 g VÁZO 64 ve 20 g solventu. Po ukončení polymerace se roztok polymeru ochladí a při 30 °C se dávkuje 1,2 g (0,4% hmotnostních, vztaženo na monomery) Tinuvinu 292, rozpuštěného v 5 g solventu. Po řádném promícháni se hotový polymer vypustí. Stanovená hodnota sušiny takto připraveného polymeru (105 °C/1 hod.) činí 47,3 % hmotnostních, teplota skelného přechodu •ý « .· .:. ·
Tg(DSC) = 49,4 °C, molekulárně hmotnostní distribuce Mn = 14 314, Mw = 36 787, PDI = 2,57.
Příklad A-4 Příprava kopolymeru EA~EMA~MMA~KMA~BHFM (hm. poměr 41 : 18 : 38 : 0,5 : 2,5) ve směsném solventu MEK : EtAc = 2:1
Do čtyřhrdlé baňky objemu 1 500 ml, opatřené míchadlem, zpětným chladičem, vstupem pro přívod inertního plynu (dusík, argon) a vstupem pro dávkování monomemí směsi se předloží 290 g směsného solventu a předloha se vyhřeje na 80 °C (teplota lázně 90 °C). Poté se postupně rovnoměrně po dobu 180 minut dávkuje roztok monomemí směsi, sestávající z 123 g ethylakrylátu (EA), 54 g ethyl methakrylátu (EMA), 114 g methylmethakrylátu (MMA), 1,5 g kyseliny methakrylové (KMA) a 9 g BHFM. Monomemí směs je iniciována 4,5 g (1,5 % hmotnostních, vztaženo na monomery) disociačního iniciátoru VÁZO 67. Po provedení proplachu 25 g solventu se reakční směs temperuje dalších 60 minut. Následně se teplota lázně sníží na 80 °C a k doreagování zbytkových monomerů se dvakrát po 60 minutách dávkuje 1,5 g VÁZO 64 ve 20 g solventu. Po ukončení polymerace se roztok polymeru ochladí a při 30 °C se dávkuje 1,5 g (0,5 % hmotnostních, vztaženo na monomery) Tinuvinu 292, rozpuštěného v 5 g solventu. Po řádném promíchání se hotový polymer vypustí. Stanovená hodnota sušiny takto připraveného polymeru (105°C/l hod.) činí 46,4 % hmotnostních, teplota skelného přechodu Tg (DSC) = 47,3 °C, molekulárně hmotnostní distribuce Μη = 11 129, Mw = 29 047, PDI = 2,61.
Příklad A-5 Příprava kopolymeru EA~EMA~MMA~KMA~BHFM (hm. poměr 24,5 : 69 : 2: <0,5 : 2) ve směsném solventu MEK : EtAc =1:4
Do čtyřhrdlé baňky objemu 1 500 ml, opatřené míchadlem, zpětným chladičem, vstupem pro přívod inertního plynu (dusík, argon) a vstupem pro dávkování monomemí směsi se předloží 250 g směsného solventu a předloha se vyhřeje na 80 °C (teplota lázně 90 °C). Poté se postupně rovnoměrně po dobu 180 minut dávkuje roztok monomemí směsi, sestávající ze 73,5 g ethylakrylátu (EA), 27 g ethylmethakrylátu (EMA), 6 g methylmethakrylátu (MMA), 1,5 g kyseliny methakrylové (KMA) a 6 g BHFM. Monomemí směs je iniciována 3 g (1 % hmotnostní, vztaženo na monomery) disociačního iniciátoru VÁZO 64. Po provedení proplachu 25 g solventu se reakční směs temperuje dalších 60 minut. Následně se teplota lázně sníží na 80 °C a k doreagování zbytkových monomerů se dvakrát po 60 minutách dávkuje 1,5 g VÁZO 64 ve 20 g solventu.. Po ukončení polymerace se roztok t t ( t
I polymeru ochladí a při 30 CC se dávkuje 0,45 g (0,15 % hmotnostních, vztaženo na monomery) Tinuvinu 292, rozpuštěného v 5 g solventu. Po řádném promíchání se hotový polymer vypustí. Stanovená hodnota sušiny takto připraveného polymeru (105 °C/1 hod.) činí 49,3 % hmotnostních, teplota skelného přechodu Tg (DSC) = 44 °C, molekulárně hmotnostní distribuce Mn = 18 736, Mw = 47 402, PDI - 2,53.
B. Příprava fotoprotektivních (meth)akrylátových kopolymerů ve formě adhesivní vrstvy pro ochranné fólie
Jedná se o adhesivní film, který zaručuje požadovanou přilnavost ke zvolenému podkladu (nejčastěji okenní sklo), je transparentní, nebarevný a ve své struktuře obsahuje polymemě vázaný UV absorbér.
Příklad B-l Příprava kopolymerů BA~MMA~HEMA~KA~ BHFM (hm. poměr 69 : 20 : 4 : 3 : 3) v methylethylketonu (MEK)
Do čtyřhrdlé baňky objemu 1 000 ml, opatřené míchadlem, zpětným chladičem, vstupem pro přívod inertního plynu (dusík, argon) a vstupem pro dávkování monomemí směsi se předloží 340 g MEK a předloha se vyhřeje na 80 °C (teplota lázně 90 °C). Poté se postupně rovnoměrně po dobu 180 minut dávkuje roztok monomemí směsi, sestávající z 276 g butylakrylátu (BA), 80 g methylmethakrylátu (MMA), 16 g hydroxyethylmethakrylátu (HEMA), 12 g kyseliny akrylové (KA) a 12 g BHFM. Monomemí směs je iniciována 5 g (1,25 % hmotnostních, vztaženo na monomery) disociačního iniciátoru VÁZO 67. Po provedení proplachu 40 g MEK se reakční směs temperuje dalších 60 minut. Následně se teplota lázně zvýší na 95 °C a k doreagování zbytkových monomerů se dvakrát po 60 minutách dávkuje 2 g VÁZO 67 ve 25 g MEK. Po ukončení polymerace se roztok polymeru ochladí a při 30 °C a za intenzivního míchání se prostřednictvím násypky dávkuje 12 g (3% hmotnostní, vztaženo na monomemí směs) tetrahydroxybenzofenonu (THBF) a násypka se promyje 15 g MEK. Po řádném promíchání a úplném rozpuštění aditiva se hotový polymer vypustí. Stanovená hodnota sušiny takto připraveného polymeru (105 °C/1 hod.) činí 47,7 % hmotnostních.
1*.
Přiklad B-2 Příprava kopolymem EHA~MMA~HEMA~KA~ BHFM (hm. poměr 60 : 28 : 5; ;,3 . 3) v methylethylketonu (MEK)
Do čtyřhrdié baňky objemu 1 500 ml, opatřené míchadlem, zpětným chladičem, vstupem pro přívod inertního plynu (dusík, argon) a vstupem pro dávkování monomemí směsi se předloží 340 g MEK a předloha se vyhřeje na 80 °C (teplota lázně 90 °C). Poté se postupně rovnoměrně po dobu 180 minut dávkuje roztok monomemí směsi, sestávající z 240 g 2ethylhexylakrylátu (EHA), 112 g methylmethakrylátu (MMA), 15 g hydroxyethylmethakrylátu (HEMA), 12 g kyseliny akrylové (KA) a 12 g BHFM. Monomemí směs je iniciována 5 g (1,25 % hmotnostních, vztaženo na monomery) disociačního iniciátoru VÁZO 67. Po provedení proplachu 40 g MEK se reakční směs temperuje dalších 60 minut. Následně se teplota lázně zvýší na 95 °C a k doreagování zbytkových monomerů se dvakrát po 60 minutách dávkuje 2 g VÁZO 67 ve 25 g MEK. Po ukončení polymerace se roztok polymeru ochladí a při 30 °C a za intenzivního míchání se prostřednictvím násypky dávkuje 12 g (3 % hmotnostní, vztaženo na monomemí směs) tetrahydroxybenzofenonu (THBF) a násypka se promyje 15 g MEK. Po řádném promíchání a úplném rozpuštění aditiva se hotový polymer vypustí. Stanovená hodnota sušiny takto připraveného polymeru (105 °C/1 hod.) činí 48,1 % hmotnostních.
Příklad B-3 Příprava kopolymeru BA~MMA~HEMA~AAMEA~ BHFM (hmotnostní poměr 75 : 5 : 5 : 3 : 3) v ethylacetátu (EtAc)
Do čtyřhrdié baňky objemu 2 500 ml, opatřené míchadlem, zpětným chladičem, vstupem pro přívod inertního plynu (dusík, argon) a vstupem pro dávkování monomemí směsi se předloží 690 g EtAc a předloha se vyhřeje na 80 °C (teplota lázně 90 °C). Poté se postupně rovnoměrně po dobu 180 minut dávkuje roztok monomemí směsi, sestávající z 600 g butylakrylátu (BA), 40 g methylmethakrylátu (MMA), 40 g hydroxyethylmethakrylátu v (HEMA), 96 g 2-(methykryloyloxy)ethyl acetylacetátu (AAMEA) a 24 g BHFM. Monomemí směs je iniciována 12 g (1,5 % hmotnostních, vztaženo na monomery) disociačního iniciátoru VÁZO 67. Po provedení proplachu 70 g EtAc se reakční směs temperuje dalších 60 minut. Následně se teplota lázně zvýší na 90 °C a k doreagování zbytkových monomerů se dvakrát po 60 minutách dávkuje 5 g VÁZO 67 v 50 g EtAc. Po ukončení polymerace se roztok polymeru ochladí a při 30 °C a za intenzivního míchání se prostřednictvím násypky dávkuje 24 g (3 % hmotnostní, vztaženo na monomemí směs) tetrahydroxybenzofenonu (THBF) a násypka se promyje 30g MEK. Po řádném promíchání a úplném rozpuštění aditiva se hotový τ * ( t 4 < · II . Ή : , : .' · : :
'1 lili I i i I I f ί I l i fl« polymer vypustí. Stanovená hodnota sušiny takto připraveného polymeru (105 °C/1 hod.) činí 47,8 % hmotnostních.
Příklad B-4 Příprava kopolymeru BA~EHA~MMA~HEMA~MPEG550MA~ BHFM (hm, poměr 60: 15 : 15 : 5 : 2 : 3) ve směsném solventu MEK:EtAc=l:l
Do čtyřhrdlé baňky objemu 1 500 ml, opatřené míchadlem, zpětným chladičem, vstupem pro přívod inertního plynu (dusík, argon) a vstupem pro dávkování monomemí směsi se předloží 170 g směsného solventu a předloha se vyhřeje na 80 °C (teplota lázně 90 °C). Poté se postupně rovnoměrně po dobu 180 minut dávkuje roztok monomemí směsi, sestávající ze 120 g butylakrylátu (BA), 30 g 2-ethylhexylakrylátu (EHA), 30 g methylmethakrylátu (MMA), 10 g hydroxyethylmethakrylátu (HEMA), 4 g polyethylenglykol(10EO)monomethylether methakrylátu (MPEG55OMA) a 6 g BHFM. Monomemí směs je iniciována 3 g (1,5 % hmotnostních, vztaženo na monomery) disociačního iniciátoru dilauroylperoxidu (DLP). Po provedení proplachu 20 g solventu se reakční směs temperuje dalších 60 minut. Následně se za stejné teploty dvakrát po 60 minutách dávkuje 1 g DLP ve 12,5 g solventu. Po ukončení polymerace se roztok polymeru ochladí a při 30 °C a za intenzivního míchání se prostřednictvím násypky dávkuje 6 g (3 % hmotnostní, vztaženo na monomemí směs) tetrahydroxybenzofenonu (THBF) a násypka se promyje 10 g solventu. Po řádném promíchání a úplném rozpuštění aditiva se hotový polymer vypustí. Stanovená hodnota sušiny takto připraveného polymeru (105 °C/1 hod.) činí 47,9 % hmotnostních.
Příklad B-5 Příprava kopolymeru BA~EA~MMA~HEMA~EtOEA~ BHFM (hm. poměr 50: 35 : 5 : 5 : 2 : 3) ve směsném solventu MEK:EtAc=l :4
Do čtyřhrdlé baňky objemu 1 500 ml, opatřené míchadlem, zpětným chladičem, vstupem pro přívod inertního plynu (dusík, argon) a vstupem pro dávkování monomemí směsi se předloží 170 g směsného solventu a předloha se vyhřeje na 80 °C (teplota lázně 90 °C). Poté se postupně rovnoměrně po dobu 180 minut dávkuje roztok monomemí směsi, sestávající ze 10 g butylakrylátu (BA), 70 g ethylakrylátu (EA), 10 g methylmethakrylátu (MMA), 10 g hydroxyethylmethakrylátu (HEMA), 4 g ethoxyethylakrylátu (EtOEA) a 6 g BHFM. Monomemí směs je iniciována 3 g (1,5 % hmotnostních, vztaženo na monomery) disociačního iniciátoru dilauroylperoxidu (DLP). Po provedení proplachu 20 g solventu se reakční směs temperuje dalších 60 minut. Následně se za stejné teploty dvakrát po 60 minutách dávkuje 1 g DLP ve 12,5 g solventu. Po ukončení polymerace se roztok polymeru • « ·/
I ochladí a při 30 °C a za intenzivního míchání se prostřednictvím násypky dávkuje 6jg (3% /4 hmotnostní, vztaženo na monomemí směs) tetrahydroxybenzofenonu (THBF) a násypka se promyje 10 g solventu. Po řádném promíchání a úplném rozpuštění aditiva se hotový polymer vypustí. Stanovená hodnota sušiny takto připraveného polymeru (105 °C/1 hod.) činí 47,6 % hmotnostních.
; PHkkid-B-tr Příprava kopoivlueru· i 11 \-B \- 'v|.\4 \ -1 IIM.X- KA—Í-U44--X.4 mm. .·k)~ ' L. i l-fe-ěty řl\dl é -baňky o bj e nw-4—000- ml. o patře né—niíchad letm—zf>ět n v m-ch i adiěmm v^^apeHί-pr^;^přív^.>ώi]¼M4iti^H¼f>l·)^lΊu (dusík-argon) a vstupem pro dávkevání-monomerní-sftiési sepředk04-340 g MEfe^rredloha se vyhretema 80 C-tiepIma lázně-OO-A-y-Poté se postupně rovnoměrně po—dokt-i 1^ náttit dávkuje · roztok monomemí směsi, sestávající z 2-76-g h-utyfaki-ylút-ti-.....(43 A-)-—80—g—t^itňhy-lrmňhčtkjy-látu—+-8484A-)-.—1·6·—g—hydrersytňhyhnet-hak-FyláíH (4 lEMAV-b^-g-kyseUHymkayleVéA.^
.....vztažturíý<Ha--m+uwmeiy->-d-tseť4aěHdm--ifikiktteftt--Y.A-Z-Q--<dk--P-e iwevettení-profdať-hu-dO-e.....MI3K--sekyakNtí--síHěs--tempefi:fje-dalsk4-t-6()--+mmtt7-Následně-8e \
teplota -lázně z-vyší na '-)5 C-a k d( > reagován i zbvlkttvýck monomerů se-dvakrát po-60 mi-Hutách dáxknje-Ž-g-VAZO 67 ve 20- -g· M}?X.-4M-Hkeiičení-pelyfflerace se roztek polymeru • tchladia-při 3t)----Q a-/a natei i z i v n km míc h án b -p ro střed n i c tvmr-násypky-dávkuje-42 g (344
hmomo-stní. vztaženo......na monomerní směs) teÍrahydroxybenzo lemonu (Ί I Η3Γ ) tt· násypka-se promyte-kS-g-··^ .....sirtkaťky-dávAtyk^g-am+exidantH )4Htivrn-’x-924O:-54^ókíe-ka-k-pFeplaelm-trti4kaek-y--se-jmttžij-e--Sg--í;víl'-.4i—Po-radném-pretHÍe-hání-ft / ’ áplHém--fnzpuštění- adit-iv—se-......Immvý-pekauer—-vypii.8tíA8taiHwemk4itxiflfňa--s«šiiry--takte ptipravenehopmly-meru (· Uk^-k--4-lm<l.-réHm47,-7--3-íi-hntmiK>st«kh^
C. Příprava fotoprotektivních fólií
Příklad C-l: Příprava samolepících fotoprotektivních PET fólií s krycí fólií
Na koronizovanou stranu PET folie optimální tloušťky 30 až 40 pm se pomocí nanášecího zařízení (krabicového pravítka nebo spirálové rakle) rovnoměrně nanese adhezivum, připravené dle výše zmíněného postupu B-l až B-5 a ponechá se za normální, nebo mírně zvýšené teploty k úplnému odpaření solventu a tím k nastavení lepivých vlastností tlakově citlivé adhezní vrstvy. S výhodou lze využít místnosti s nucenou cirkulací vzduchu. Následně se adhezní vrstva překryje nekoronizovanou krycí folií o stejné nebo menší tloušťce.
* · T f • t r 9 * » · * · « * i « *
't1 : 1 , » *
1 i « 1 t 4 ♦ « * « 4 · · ·
D. Fotoprotektivní účinky ochranných laků
Příklad D-l Fotoprotektivní účinky UV ochranného nátěru pro epoxidovou pryskyřici
Na skleněnou destičku byla nanesena epoxidová pryskyřice běžného dianového typu, citlivá na UV záření a na ni byl nanesen ochranný film připravený podle příkladu A-2. Vzorek byl umístěn do simulátoru slunečního záření Q-Sun test vybaveného filtrem pro interiérové aplikace a byl ozařován intenzitou 1 W/m měřeno při 420 nm. Vzorek byl ozařován po dobu 1 400 hodin. Vzorek svoji barvu pouhým okem pozorovatelně nezměnil, dle objektivního spektrálního měření v systému CIELAB došlo k posunu Ab* = 2,5. Vedle toho byl do simulátoru umístěn vzorek stejné epoxidová pryskyřice a při stejné radiační dávce došlo k jeho výraznému zežloutnutí, dle objektivního spektrálního měření v systému CIELAB došlo k posunu Ab* = 37,0.
Příklad D-2 Fotoprotektivní účinky UV ochranného nátěru pro kasein
Na skleněnou destičku byla nanesena vrstva kaseinu a na ni byl nanesen ochranný film připravený podle příkladu A-l. Vzorek byl umístěn do simulátoru slunečního záření Q-Sun test vybaveného filtrem pro interiérové aplikace a byl ozařován intenzitou 1 W/m2 měřeno při 420 nm. Vzorek byl ozařován po dobu 1 052 hodin. Vzorek svoji barvu pouhým okem pozorovatelně nezměnil, dle objektivního spektrálního měření v systému CIELAB došlo k posunu Ab = 1,07 - 1,6. Vedle toho byl do simulátoru umístěn vzorek bez ochranného laku a při stejné radiační dávce došlo ke změně barevnosti, dle objektivního spektrálního měření v systému CIELAB došlo k posunu Ab* - 6,95 - 8,07.
E. Fotoprotektivní účinky ochranných fólií
Příklad E-l Fotoprotektivní účinky ochranných fólií pro epoxidovou pryskyřici
Na skleněnou destičku byla nanesena epoxidová pryskyřice běžného dianového typu, citlivá na UV záření a na ni byla nanesena ochranná fólie připravená podle příkladu C-l. Vzorek byl umístěn do simulátoru slunečního záření Q-Sun test vybaveného filtrem pro interiérové aplikace a byl ozařován intenzitou 1 W/m2 měřeno při 420 nm. Vzorek byl ozařován po dobu 1 400 hodin. Vzorek svoji barvu pouhým okem změnil pouze nepatrně, dle objektivního spektrálního měření v systému CIELAB došlo k posunu Ab’ = 10,0. Vedle toho byl do simulátoru umístěn vzorek stejné epoxidová pryskyřice a při stejné radiační dávce ft I t 4 « « '4li «41 I tti t il «41i * I t « * I· došlo k jeho výraznému zežloutnutí, dle objektivního spektrálního měření v systému CIELAB došlo k posunu Ab* = 37,0.
Příklad E-2 Fotoprotektivní účinky ochranných fólií pro damarový lak ve zkrácených testech
Na skleněnou desku byl natíráním nanesen damarový lak (24 %ní roztok Damary v terpentýnu). Po úplném odpaření rozpouštědla, které trvalo za laboratorní teploty 14 dní, byl získán nelepivý, bezbarvý a dokonale transparentní film Damary na skle o tloušťce 35 pm. Sklo s damarovým lakem bylo částečně překryto sklem s ochrannou fólií podle příkladu C-l a na jiném místě bylo na porovnání překryto sklem bez ochranné fólie. Vzorky byly umístěny do simulátoru slunečního záření Q-Sun test£ opatřeného Q-Window filtrem. Filtr Q-Window slouží k simulaci osvětlení v interiéru. Expozice v Q-Sun testeru probíhala po dobu 1 200 hodin při intenzitě záření 1,20 kW/m2 (měřeno při vlnové délce 420 nm). V průběhu ozařování došlo u nezakrytého laku k postupnému vzniku a nárůstu žlutého zabarvení a vzniku trhlin v laku. Damarový lak překrytý sklem s ochrannou folií se zabarvil jen nepatrně a k tvorbě trhlin nedošlo. Tvorba žlutého zabarvení byla při testu průběžně vyhodnocována v intervalech po 100 hodinách. Skla s damarovým lakem byla vyjmuta z komory a byla proměřena absorbance při vlnové délce 405 nm. Absorbance vyjadřuje stupeň žlutosti. Na konci testu, po 1 200 hodinách expozice, měl nechráněný damarový lak absorbanci 0,038, lak překrytý sklem bez fólie měl absorbanci 0,036 a lak překrytý sklem s ochrannou fólií měl absorbanci 0,014. Z výsledků je jasně patrné, že sklo bez ochranné fólie neposkytuje prakticky žádnou ochranu.
Příklad E-3 Fotoprotektivní účinky ochranných fólií pro damarový lak na přímém slunci
Na skleněné destičky byla nanesena vrstva damary a jeden vzorek byl umístěn do skleněné vitríny opatřené ochrannou fólií a jeden vzorek do skleněné vitríny bez ochranné fólie. Vitríny byly v průběhu letních měsíců (červen až září) vystaveny působení slunečního záření po dobu 77 dní. Vzorek chráněný fólií svoji barvu pouhým okem pozorovatelně nezměnil, dle objektivního spektrálního měření v systému CIELAB došlo k posunu Ab* = 0,6. Vzorek bez ochranné fólie změnil při stejné radiační dávce barevnost, dle objektivního spektrálního měření v systému CIELAB došlo k posunu Ab’ = 2,2.
Příklad E-4 Fotoprotektivní účinky ochranných fólií pro přírodní hedvábí
Účinky ochranné fólie byly testovány jednak pro působení přímého slunečního záření v průběhu letních měsíců (červen až září) po dobu 111 dní, jednak pro působení UV záření z umělých zdrojů v simulátoru slunečního záření Q-Sun test vybaveného filtrem pro interiérové aplikace, s intenzitou ozařování 1 W/m2 měřeno při 420 nm po dobu 1 432 hodin. Z výsledků jasně vyplývá, že ochranná fólie potlačuje změnu barevnosti přírodního hedvábí. Vzorky chráněné fólií vystavené slunečnímu záření svoji barvu pouhým okem pozorovatelně nezměnily, dle objektivního spektrálního měření v systému CIELAB došlo k posunu Ab* = 2,13. Vzorek bez ochranné fólie změnil při stejné radiační dávce svou barevnost, dle objektivního spektrálního měření v systému CIELAB došlo k posunu Ab* = 7,2. Vzorky chráněné fólií vystavené působení umělého UV záření (Q-Sun) svoji barvu pouhým okem pozorovatelně nezměnily, dle objektivního spektrálního měření v systému CIELAB došlo k posunu Ab* = 2,6. Vzorek bez ochranné fólie změnil při stejné radiační dávce svou barevnost, dle objektivního spektrálního měření v systému CIELAB došlo k posunu Ab* ~ 11,8.
Příklad E-5 Fotoprotektivní účinky ochranných fólií pro osikový papír
Bílá chemo-termo-mechanická (CTMP) bělená vláknina z osikového dřeva (osikový papír) jako zástupce archivních materiálů citlivých na působení UV záření byla vystavena působení UV záření v simulátoru slunečního záření Q-Sun test vybaveného filtrem pro interiérové aplikace a byla ozařována intenzitou 1 W/m2 měřeno při 420 nm. Vzorek byl ozařován po dobu 492 hodin. Vzorky chráněné fólií svoji barvu pouhým okem pozorovatelně nezměnily, dle objektivního spektrálního měření v systému CIELAB došlo k posunu Ab* = -0,2. Vzorek bez ochranné fólie změnil při stejné radiační dávce viditelně svou barevnost, dle objektivního spektrálního měření v systému CIELAB došlo k posunu Ab* = 18,7.
Průmyslová využitelnost
Fotoprotektivní filmotvomou kompozici podle vynálezu lze využít jednak pro přípravu fotoprotektivních nátěrů, a jednak k výrobě fotoprotektivních samolepících fóliových materiálů.

Claims (8)

  1. PATENTOVÉ NÁROKY
    1. Fotoprotektivní filmotvomá kompozice pro ochranu a restaurování památek, zahrnující polymemí matrici s chemicky vázaným radikálově polymerizovatelným UV absorbérem benzotriazolového typu, vyznačující se tím, že polymemí matrice sestává z alespoň jednoho polymeru na bázi esterů α, β - nenasycených kyselin ýčetnů těchto kyselin samotných, a kompozice dále obsahuje jako aditiva další i
    x UV absorbér tvořený hydroxyfunkční látkou benzofenonového typu f a·1'nebo alespoň jeden antioxidant na bázi stericky bráněných aminů (HALS).
  2. 2. Fotoprotektivní filmotvomá kompozice podle nároku 1,vyznačující se tím, že hydroxyfunkční látkou benzofenonového typu je s výhodou 2,4- —dihydroxybenzofenon a/nebo 2,2', 4,4'- tetrahydroxybenzofenon, přičemž vzájemný hmotnostní poměr této látky vůči UV absorbéru benzotriazolového typu leží v rozmezí od 1:3 do 3:1.
  3. 3. Fotoprotektivní filmotvomá kompozice podle nároku 1 nebo 2, vyznačující se t í m, že obsah chemicky vázaného radikálově polymerizovatelného UV absorbéru benzotriazolového typu je v rozmezí od 1,0 do 7,5 % hmotnostních a obsah antioxidantu na bázi stericky bráněných aminů (HALS) je v rozmezí od 0,1 do 7,0 % hmotnostních, vztaženo na sušinu polymemí matrice.
  4. 4. Fotoprotektivní filmotvomá kompozice podle nároku 1 nebo 2 nebo 3, vyznačující se tím, že polymemí matrice obsahuje alespoň jeden polymer na bázi esterů α,β-nenasycených kyselin s počtem uhlíkových atomů v esterové části 1 až 2, s výhodou methylakrylát, methylmethakrylát, ethylakrylát, ethylmethakrylát, nebo jejich směs, mající hodnotu teploty skelného přechodu Tg >0.
  5. 5. Fotoprotektivní filmotvomá kompozice podle nároku 1 nebo 2 nebo 3, vyznačující setím, že polymemí matrice obsahuje alespoň jeden polymer na bázi esterů α,β-nenasycených kyselin s počtem uhlíkových atomů v esterové části 1 až 18, mající hodnotu teploty skelného přechodu Tg < 0.
    · Λ · 1 « • * · « »«· * «» « ♦ * · · · · · · • ' í- ♦ · · · » » «·««*· · » · «·«
  6. 6. Fotoprotektivní filmotvomá kompozice podle nároků I až 5, vyznačující se t í m, že celkový obsah hydroxyfunkční aditivní látky benzofenonového typu je v rozmezí od 1 do 5 % hmotnostních, vztaženo na sušinu polymerní matrice.
  7. 7. Použití fotoprotektivní filmotvorné kompozice podle některého z nároků 1 až 4 jako alespoň jednoho prostředku ze skupiny napouštědlo, penetrační prostředek, lak, tmel, určeného pro ochranu a restaurování památek.
  8. 8. Použití fotoprotektivní filmotvorné kompozice podle ^některého z nároků 1, 2, 3 a 5 jako lepidla k výrobě fotoprotektivních samolepících foliových materiálů, určených k nalepení na transparentní desky, zejména pro ochranu depozitářů a všech ostatních prostor s vysokou citlivostí na UV radiaci.
CZ20100867A 2010-11-25 2010-11-25 Fotoprotektivní filmotvorná kompozice, zejména pro ochranu a restaurování památek, a její použití CZ303028B6 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CZ20100867A CZ303028B6 (cs) 2010-11-25 2010-11-25 Fotoprotektivní filmotvorná kompozice, zejména pro ochranu a restaurování památek, a její použití

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CZ20100867A CZ303028B6 (cs) 2010-11-25 2010-11-25 Fotoprotektivní filmotvorná kompozice, zejména pro ochranu a restaurování památek, a její použití

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CZ2010867A3 true CZ2010867A3 (cs) 2012-02-29
CZ303028B6 CZ303028B6 (cs) 2012-02-29

Family

ID=45699719

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CZ20100867A CZ303028B6 (cs) 2010-11-25 2010-11-25 Fotoprotektivní filmotvorná kompozice, zejména pro ochranu a restaurování památek, a její použití

Country Status (1)

Country Link
CZ (1) CZ303028B6 (cs)

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4716234A (en) * 1986-12-01 1987-12-29 Iolab Corporation Ultraviolet absorbing polymers comprising 2-(2'-hydroxy-5'-acryloyloxyalkoxyphenyl)-2H-benzotriazole
US5629365A (en) * 1992-06-23 1997-05-13 Monsanto Company UV-absorbing polymer latex
WO1994000524A1 (en) * 1992-06-23 1994-01-06 Monsanto Company Uv-absorbing polymer latex
JP4220620B2 (ja) * 1999-07-09 2009-02-04 株式会社日本触媒 高耐光性ポリウレタン繊維および該繊維の製造方法
DE102005062687A1 (de) * 2005-12-23 2007-07-05 Röhm Gmbh PMMA-Folie mit besonders hoher Witterungsbeständigkeit und hoher UV-Schutzwirkung
GB2448521B (en) * 2007-04-18 2012-01-18 Piotr Koneczny Paint conservation-restoration composition and method
CZ305655B6 (cs) * 2008-07-14 2016-01-27 Výzkumný ústav organických syntéz a.s. Vodná mikrodisperze UV filtru na bázi methakrylátového kopolymeru, způsob její přípravy, a kosmetický fotoprotektivní prostředek obsahující tuto vodnou mikrodisperzi
EP2228397A1 (en) * 2009-03-11 2010-09-15 Cytec Technology Corporation Light and UV stabilisers

Also Published As

Publication number Publication date
CZ303028B6 (cs) 2012-02-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2453563C2 (ru) Полиметилметакрилатная пленка с особенно высокой атмосферостойкостью и высокой эффективностью защиты от ультрафиолетового излучения
JP2022159963A (ja) 活性エネルギー線硬化型組成物
CN103443694B (zh) 光致变色透镜
TWI901591B (zh) 黏著片、附黏著劑之光學膜、以及影像顯示裝置之製造方法
CN101980669A (zh) 水凝胶眼内透镜及其形成方法
EP2598563A1 (de) Polymethyl(meth)acrylat - formkörper für die fluoreszenzkonversion, deren herstellung im plattengussverfahren und verwendung in solarkollektoren
CN109423217A (zh) 粘着片、显示体及显示体的制造方法
JP4813900B2 (ja) 紫外線硬化型の紫外線遮蔽性を有する粘着剤・接着剤組成物
CN106659639A (zh) 牙科用修复体
EP2960687B1 (en) Composition for the manufacture of an ophtalmic lens comprising an uv-absorber and an anti-yellowing additive
JP5959764B2 (ja) 親水性単層膜
JP2012017407A (ja) フッ素樹脂系粘着フィルム
TWI582141B (zh) Uv-反射組成物
JP2002161158A (ja) ポリエステル樹脂製建材
CZ2010867A3 (cs) Fotoprotektivní filmotvorná kompozice, zejména pro ochranu a restaurování památek, a její použití
CN108976470A (zh) 1,4-二(2-苯硫基苯基)-1,3-丁二炔作为紫外光吸收剂的应用
JPS636064A (ja) 機能性の優れた被覆材組成物
JP3265049B2 (ja) 硬化性被覆組成物
JP2006501336A (ja) 蛍光増白剤を含有するポリカーボネートまたはポリエステルカーボネート
US6509398B1 (en) Photopolymerizable acrylic lacquer compositions
JP7199193B2 (ja) 防虫機能を有するポリ塩化ビニル系樹脂組成物、及びガラス飛散防止フィルム
JP3549030B2 (ja) 紫外線吸収性ラッカー組成物
WO2018080834A1 (en) Crosslinkable composition including a (meth)acrylic polymer and methods of making a crosslinked composition
JP2013194136A (ja) 紫外線吸収樹脂組成物、及び透光性部材並びに照明器具
JP2013194135A (ja) 紫外線吸収樹脂組成物、及び透光性部材並びに照明器具

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Patent lapsed due to non-payment of fee

Effective date: 20151125