CZ2013543A3 - Atmosférický zdroj plazmatu, zejména pro využití v medicínských bioaplikacích - Google Patents

Atmosférický zdroj plazmatu, zejména pro využití v medicínských bioaplikacích Download PDF

Info

Publication number
CZ2013543A3
CZ2013543A3 CZ2013-543A CZ2013543A CZ2013543A3 CZ 2013543 A3 CZ2013543 A3 CZ 2013543A3 CZ 2013543 A CZ2013543 A CZ 2013543A CZ 2013543 A3 CZ2013543 A3 CZ 2013543A3
Authority
CZ
Czechia
Prior art keywords
plasma
source
atmospheric plasma
porous
medical
Prior art date
Application number
CZ2013-543A
Other languages
English (en)
Other versions
CZ304814B6 (cs
Inventor
Olexander Churpita
Alexandr Dejneka
Vitaliy Zablotskyy
Šárka Kubinová
Eva Syková
Original Assignee
Fyzikální ústav AV ČR, v.v.i.
Ústav Experimentální Medicíny Av Čr, V.V.I.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fyzikální ústav AV ČR, v.v.i., Ústav Experimentální Medicíny Av Čr, V.V.I. filed Critical Fyzikální ústav AV ČR, v.v.i.
Priority to CZ2013-543A priority Critical patent/CZ2013543A3/cs
Publication of CZ304814B6 publication Critical patent/CZ304814B6/cs
Publication of CZ2013543A3 publication Critical patent/CZ2013543A3/cs

Links

Landscapes

  • Plasma Technology (AREA)

Abstract

Atmosférický zdroj plazmatu, zejména pro využití v medicínských bioaplikacích, obsahuje zdroj (5) střídavého vysokého napětí a duté izolační těleso (1), do jehož vnitřního prostoru je zaústěn přívod pracovního plynu a je v něm umístěna vnitřní budící elektroda (2) připojená na zdroj (5) střídavého vysokého napětí. Uvnitř izolačního tělesa (1) je ustavena sendvičová struktura tvořená vrstvami porézního materiálu a sestávající ze vzájemně nad sebou uložených vnitřní budící elektrody (2), nevodivé porézní membrány (3) a vnější zemnící elektrody (4). Porézní membrána (3) je vyrobena z elastického materiálu v podstatě konstantní tloušťky, která se pohybuje v rozmezí hodnot 1 až 200 .mi.m při maximální odchylce 15 %, a vykazuje teplotní stabilitu do 300 .degree.C při velikostech pórů vytvářejících mikrokanály o průměru 10 nm až 100 .mi.m.

Description

Atmosférický zdroj plazmatu, zejména pro využití v medicínských bioaplikacích
Oblast techniky
Vynález spadá do oblasti generování nízkoteplotního plazmatu a týká se konstrukce atmosférického zdroje plazmatu, zejména pro využití v různých medicínských bioaplikacích, jako jsou desinfekce, hojení ran, úprava rakovinných buněk, dermatologie a stomatologie.
Dosavadní stav techniky
Plazma, jakožto čtvrté skupenství hmoty, je stav látky charakterizovaný určitým stupněm ionizace a jedná se o směs neutrálních částic a kladných a záporných iontů, přičemž součet nábojů těchto iontů je ve větších objemech nulový a je tedy elektricky
Y neutrální. K udržení stavu, kdy se v plazmatu v ionizovaném stavu nalézá řádově 1;% ,1 částic, jsou třeba energie odpovídající teplotám řádově 103 K a takové plazma je označováno jako nízkoteplotní. Nízkoteplotní atmosférické plazma je známé jako efektivní nástroj pro řadu procedur ve zdravotnictví díky účinkům podporujícím hojení, které jeho aplikací lze dosáhnout. To zahrnuje efekty antibakteriální, antifungicidní a antivirové. Dále zahrnuje efekty spojené s hojením chronických ran, krevních sraženin, léčbou imunitního systému, kardiovaskulární regulací, likvidací nežádoucích biovrstev, dezinfekcí a •y sterilizací, jak je známo například ze spisů CZ 22149 U1, JP 2001054556.
Dosud byla vyvinuta celá řada technologických systémů nízkoteplotních zdrojů atmosférického plazmatu, například atmosférický plazma jet přístroj se sadou trysek s mikrorozměrem použitelným v terapii léčby rakoviny byl publikován v odborné stati [K. Kim et al,. Appl. Phys. Lett. 98 (2011) 073701], a zařízení využívající nízkoteplotního atmosférického plazmatu pro bio-medicínské účely je popsáno ve spise
-2WO 201Q098524 A1. Dále atmosférický zdroj plazmatu vyvinutý pro generaci atomů vodíku, který má podstatný efekt na deaktivaci mikrobiologických kontaminantů a redukci OH radikálů ve vzduchu, je dostupný v [H.Nojima et al., J. Phys. D: Appl. Phys. 40 (2007) 501-509] a způsob dekontaminace vzduchu pomocí nízkoteplotního plazmatu je popsán například ve spise CN 1659968. Rovněž byl vyvinut obvod pracující na principu vlastní rezonance navrženého pro buzení atmosférického plazma jetu a dielektrického bariérového výboje malého objemu, který byl publikován v [V. J. Law and S.D. Anghel. J. Phys. D: Appl. Phys. 45 (2012) 075202], a buzení atmosférického plazmatu založeného na technologii dielektrického bariérového výboje je rovněž popsáno ve spise CN 101945527. Byl vyvinut atmosférický výboj se stejnosměrnou vysokonapěťovou jiskrou generovanou mezi hrotem a otvorem popsaném například v [D. Dobrynin, K. Arjunan,
A. Fridman, G. Friedman and A. Morss Clyne. J. Phys. D: Appl. Phys. 44 (2011) 075201]. Také byl již vyvinut atmosférický nízkoteplotní doutnavý RF výboj malých rozměrů s elektrodou ve tvaru jehly pro deaktivaci baktérie Escherichia coli, který je popsán ve stati [R.E.J. Sládek and E. Stoffels J. Phys. D: Appl. Phys. 38 (2005) 1716-1721],
U zařízení používajících vysokofrekvenční (GHz) objemový výboj magnetronu a užití porézní struktury k homogenizaci proudu ionizovaného pracovního plynu (např. US 2012/0046602) se projevují negativní účinky a zvýšená rizika pro pacienta spojená s užitím těchto frekvencí, jako je ohrožení dýchacích orgánů nebo přehřívání okolní zdravé tkáně. Další nevýhodou tohoto řešení je jeho vysoká pořizovací cena. V řešení uváděném plynu, k jehož ionizaci dochází až v mikrostruktuře nanesené na tomto materiálu díky aplikovanému vysokému napětí. Nevýhodou uvedeného řešení je velmi malá hustota plazmatu a její významné plošné omezení na průměr maximálně v jednotkách milimetrů, kdy při zvětšení rozměrů se významně mění prostorové rozložení hustoty plazmatu. Druhou nevýhodou je přivedené vysoké napětí cca 600 V do nejbližší aplikační vrstvy a tudíž vysoké riziko pro ošetřovanou plochu.
Aby byly splněny náročné podmínky pro aplikace atmosférických plazmových zdrojů v medicíně, je nutné vyvinout tyto systémy s možností přesné kontroly jejich fyzikálních parametrů jako je koncentrace iontů a elektronů v plazmatu, energie iontů, intenzita vyzářeného světla, a to hlavně v UV oblasti, tok pracovního plynu a jeho teplota, typy iontů v plazmatu. Pro použití plazmového zdroje pro klinickou praxi musí být splněno mnoho náročných bezpečnostních kriterií. Je známo, že pro efekt hojení je nutné přesně nastavit dávkování působení plazmatu na živou tkáň. Tyto efekty dávkování jsou popsány v odborných článcích [Danil Dobrynin, Gregory Fridman, Gary Friedman and Alexander Fridman, Physical and biological mechanisms of direct plasma interaction with living tissue New Joumal of Physics 11 (2009) 115020; Světlana A. Ermolaeva et al. Bactericidal effects of non-thermal argon plasma in vitro, in biofilms and in the animal model of infected wounds Joumal of Medical Microbiology (2011), 60, 75-83; Nosenko T., Shimizu T. and Morfill G. E., Designing plasmas for chronic wound disinfection, New Joumal of Physics 11 (2009) 115013 (19pp)]. Technicky jsou citované požadavky vyřešeny konstrukcí dle spisu CZ 23(746 U1, který představuje zařízení pro generaci nízkoteplotního plazmatu s laditelnou koncentrací ionizovaných částic obsahující duté izolační těleso, které je jednak uloženo v uzemněném stínícím plášti, jednak je opatřeno výtokovým hrdlem a jednak je do jeho vnitřního prostoru zaústěna přívodová trubice pracovního plynu a vyvedena kovová budící elektroda, která je připojena ke zdroji střídavého vysokého napětí a která je opatřena inicializační plochou pro generování nízkoteplotního atmosférického plazmatu. Na vnější ploše izolačního tělesa je pak suvně stavitelně uložena kovová ladící elektroda pro umožnění úpravy vlastností a parametrů plazmatu.
Zásadním nedostatkem výše uvedených zdrojů nízkoteplotního atmosférického plazmatu pro medicínské aplikace je to, že se většinou jedná o bodové zdroje, s výjimkou řešení dle USj20120046602 a s výrazným omezením WG201Q098524, díky čemuž
Λ i i odpovídá profil intenzity ionizovaných částic v plazmatu Gaussovu profilu. Další nevýhodou je přítomnost vysokého napětí v nejbližší aplikační vrstvě, případně vysoká cena zařízení. Je rovněž známa konstrukce atmosférického zdroje pro generování plazmatu obsahující sendvičovou membránovou strukturu porézní vrstvy, která je popsaná i
ve spise KR 20120032894 a je určena pro odstraňování nečistot ze vzduchu. Popsaný typ membrány však neumožňuje použití tohoto zařízení v biomedicínských aplikacích. Možné uspořádání sendvičové struktury membrány je popsáno například ve spise *
WO 2004032176. Použití membránové struktury ke generování plazmatu v biomedicíně je známo ze spisu WÓ201QÓ98524, kde je popisováno zařízení, které má vodivou elektrodu pouze na jedné straně porézní membrány, přičemž výboj vzniká pouze na povrchu membrány.
Úkolem představovaného vynálezu je vyhovět podmínkám požadovaným pro medicínské aplikace, které vyžadují rovnoměrné rozložení intenzity, zvětšení ošetřované plochy, přizpůsobení tvaru ošetřované ploše při zachování rovnoměrného působení plazmatu a minimalizaci rizik pro pacienta. K využití je předkládán plošný a ohebný zdroj nízkoteplotního atmosférického plazmatu s laditelnou koncentrací ionizovaných částic a rovnoměrným rozložením intenzity v celé ploše generátoru.
Podstata vynálezu
Uvedeného cíle je dosaženo vynálezem, kterým je atmosférický zdroj plazmatu, zejména pro využití v medicínských bioaplikacích, obsahující zdroj střídavého vysokého napětí a duté izolační těleso, do jehož vnitřního prostoru je zaústěn přívod pracovního plynu a je v něm umístěna vnitřní budící elektroda připojená na zdroj střídavého vysokého napětí, kde podstata řešení spočívá v tom, že uvnitř izolačního tělesa je ustavena sendvičová struktura tvořená vrstvami porézního materiálu a sestávající ze vzájemně nad sebou uložených vnitřní budící elektrody, nevodivé porézní membrány a vnější zemnící elektrody, přičemž porézní membrána je vyrobena z elastického materiálu v podstatě konstantní tloušťky, která se pohybuje v rozmezí hodnot 1 až 200 pm při maximální v odchylce 15 %, a vykazujícího teplotní stabilitu do 300|^C při velikostech pórů vytvářejících mikrokanály o průměru 10 nm až 100 pm.
V optimálním případě je porézní membrána vyrobena z keramiky nebo mikrovláknových či nanovláknových nevodivých struktur, zejména na bázi oxidů AI2O3, SiO2- ZrO2.
Dále je výhodné, když vnitřní budící elektroda a vnější zemnící elektroda jsou tvořeny nanesenou vodivou vrstvou nebo sítí z vodičů nebo vodičovou mřížkou.
-5Novým řešením se dosahuje nového a vyššího účinku v tom, že dodávaný generovaný plazmatický plyn je neutrální s krátkým dosahem, napětí přiváděné na elektrody je důsledné izolováno od ozařované plochy, čímž je eliminováno riziko poškození ošetřované plochy interakcí s vysokým elektrickým střídavým napětím. Zdroj ionizuje běžný vzduch nebo jiný výhodný pracovní plyn dle požadavků aplikace a generuje neutrální pracovní proud plazmatu o vysoké hustotě a nízké teplotě (méně než 4Q°C) při zachování atmosférického tlaku.
,'5* lká „ 7? Vy
Konkrétní příklady provedení vynálezu jsou schematicky znázorněny na připojených výkresech, kde obr.1 je detailní schéma sendvičové struktury zdroje plazmatu a jejího zapojení, obr. 2 je příkladné provedení zdroje plazmatu s ochrannou izolační vrstvou tvořenou válcovým tělesem, obr.3 je alternativní provedení zdroje plazmatu s přívodem plynu ve střední části pracovní plochy zdroje a obr.4 je alternativní provedení zdroje plazmatu s přívodem plynu v boční části pracovní plochy zdroje
Výkresy, které znázorňují představovaný vynález, a následně popsané příklady konkrétních provedení v žádném případě neomezují rozsah ochrany uvedený v definici, ale jen objasňují podstatu vynálezu.
pťry/'
Příklady Uskutečněnkvynálezu
Atmosférický zdroj plazmatu je v základním provedení tvořen dutým válcovým izolačním tělesem 1, vyrobeným z dielektrického elastického materiálu vytvářejícího .· * ·
-6ochrannou izolační vrstvu pro sendvičovou strukturu uloženou uvnitř tělesa 1 a tvořenou vrstvami porézního materiálu. Sendvičová struktura detailně znázorněná na obr.1 sestává ze vzájemně nad sebou uložených vnitřní budící elektrody 2, vysokoteplotně odolné nevodivé porézní membrány 3 a vnější zemnicí elektrody 4. Vnitřní budící elektroda 2 je připojena na zdroj 5 střídavého vysokého napětí, například pulsní generátor. Porézní membrána 3 je vyrobena z elastického materiálu v podstatě konstantní tloušťky, která se pohybuje v rozmezí hodnot 1 až 200 pm při maximální odchylce 15 %, a vykazujícího z teplotní stabilitu cca 300fC při velikostech pórů vytvářejících mikrokanály o průměru 10 nm i až desítek pm, například z keramiky nebo nanovláknových či mikrovláknových nevodivých struktur, zejména na bází oxidů AI2O3, SiO2, ZrO2 apod., zajišťujících rovnoměrnou distribuci náboje ve výbojích a homogenizaci proudu výsledného generovaného plazmatu. Mikrokanály porézní membrány 3 jsou přitom charakterizovány průměrnou velikostí průřezu a délkou a není vyžadována ani jednotná orientace mikrokanálů ani vzájemný poměr jejich charakterizujících rozměrů. Obě plošné elektrody 2 a 4 jsou vytvořeny tak, že jejich struktura umožňuje proudění plynu a výtok generovaného plazmatu kolmo na jejich povrch.
Funkce atmosférického zdroje plazmatu je založena na tom, že mezi elektrodami 2 a 4,umístěnými na protilehlých površích porézní membrány 3, které mohou být tvořeny sítí vodičů o velikosti buňky několik desítek μιτ) až jednotek milimetrů, vodivou mřížkou o stejné střídě, případně nanesenou vodivou vrstvou, jejíž tloušťka se může pohybovat dle zvoleného provedení od desítek nanometrů až jednotek milimetrů, hoří výboje. V důsledku působení elektrického pole mezi těmito plochými elektrodami 2 a 4 dochází k ionizaci pracovního plynu, který po průchodu mikrokanály porézní membrány 3 vytéká do vnějšího prostředí ve formě plazmatu, jehož hustota je úměrná frekvenci budícího napětí zdroje 5. Aplikované střídavé napětí zdroje 5 pak závisí na tloušťce porézní membrány 3 a typu pracovního plynu, jehož minimální průtok je v jednotkách litrů/cm2/min.
V konkrétním provedení atmosférického zdroje plazmatu tzv. „tužkového typu“ znázorněného na obr.2 je napětí ze zdroje 5 tvořeného pulsním generátorem přiváděno na vnitřní budící elektrodu 2 válcovou propojovací elektrodou 21, připojenou k této budící elektrodě 2 na jejím obvodu a opatřenou vstupním kanálem 6 přívodu plynu. Uzemnění ' ·»*-*
-7vnější zemnící elektrody 4 je pak realizováno prostřednictvím válcové pomocné elektrody 41 opatřené neznázorněnou vnitřní izolační vrstvou. Zdroj 5, tedy pulsní generátor generuje vysokonapěťové pulsy s frekvencí 100 Hz až 400 kHz, amplituda jednoho pulsu i/ .ÁžZ je 100 * 1000 V, doba trvání pulsu 0,1 1 ps, spád náběhové i poklesové hrany impulsu odpovídá řádově 108 až 109 V/s. Hustota proudu ve výboji pak je řádově desítky tisíc A/m2. Při realizované výbojové ploše o rozměrech cca 1 cm2 pak je hustota proudu ve výboji 1 A. V optimálním případě je přiváděno střídavé napětí 500 V obdélníkového tvaru s frekvencí 200 Hz a maximální proudovou špičkou ve výboji 160 mA.
V dalších alternativních provedeních schematicky znázorněných na obr.3 a obr.4 jsou uvedeny příklady plošného nebo páskového atmosférického zdroje plazmatu, kde je jako porézní membrána 3 použit pružný element páskového či plošného tvaru vyrobený z nanovláknové struktury. Plošné elektrody 2 a 4 jsou tvořeny mřížkovou strukturou z vodičů. Nad vnitřní budící elektrodou 2 jsou rozmístěna perforovaná žebra 11 zajišťující rovnoměrný přísun pracovního plynu, který je přiváděn do flexibilně ohraničeného vnitřního prostoru zdroje. Ochranná izolační vrstva, tedy izolační těleso 1 je opatřeno foliovými elementy 12, přičemž přívod vzduchu může být jak ve střední části izolačního tělesa l.tak z boku. Obecně pak mohou být plošné elektrody 2 a 4 tvořeny nanesenou, s výhodou napařenou, vodivou vrstvou nebo sítí z vodičů nebo vodičovou mřížkou.
Průmyslová využitelnost
Vynález spadá do oblasti využití nízkoteplotního atmosférického zdroje plazmatu s laditelnou koncentrací ionizovaných částic pro řadu procedur ve zdravotnictví, kdy je aplikací tohoto plazmatu dosaženo efektu hojení. Zařízení je vhodné především k úpravě povrchů živé tkáně pro různé medicínské aplikace, jako je desinfekce, hojení ran, úprava rakovinných buněk, dermatologie, stomatologie a kosmetika, přičemž nehrozí nebezpečí poškození tkáně z důvodu možné interakce vysokého elektrického střídavého napětí.

Claims (3)

PATENTOVÉ NÁROKY
1. Atmosférický zdroj plazmatu, zejména pro využití v medicínských bioaplikacích, obsahující zdroj (5) střídavého vysokého napětí a duté izolační těleso (1), do jehož vnitřního prostoru je zaústěn přívod pracovního plynu a je v něm umístěna vnitřní budící elektroda (2) připojená na zdroj (5) střídavého vysokého napětí, vyznačující se tím, že uvnitř izolačního tělesa (1) je ustavena sendvičová struktura tvořená vrstvami porézního materiálu a sestávající ze vzájemně nad sebou uložených vnitřní budící elektrody (2), nevodivé porézní membrány (3) a vnější zemnicí elektrody (4), přičemž porézní membrána (3) je vyrobena z elastického materiálu v podstatě konstantní tloušťky, která se pohybuje v rozmezí hodnot 1 až 200 pm při maximální odchylce 15 v
%, a vykazujícího teplotní stabilitu do 300^C při velikostech pórů vytvářejících mikrokanály o průměru 10 nm až 100 pm.
2. Atmosférický zdroj plazmatu podle nároku 1, vyznačující se tím, že porézní membrána (3) je vyrobena z keramiky nebo mikrovláknových či nanovláknových nevodivých struktur, zejména na bázi oxidů AI2O3, SiO2, ZrO2.
3. Atmosférický zdroj plazmatu podle nároku 1 nebo 2, vyznačující se tím, že vnitřní budící elektroda (2) a vnější zemnící elektroda (4) jsou tvořeny nanesenou vodivou vrstvou nebo sítí z vodičů nebo vodičovou mřížkou.
CZ2013-543A 2013-07-11 2013-07-11 Atmosférický zdroj plazmatu, zejména pro využití v medicínských bioaplikacích CZ2013543A3 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CZ2013-543A CZ2013543A3 (cs) 2013-07-11 2013-07-11 Atmosférický zdroj plazmatu, zejména pro využití v medicínských bioaplikacích

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CZ2013-543A CZ2013543A3 (cs) 2013-07-11 2013-07-11 Atmosférický zdroj plazmatu, zejména pro využití v medicínských bioaplikacích

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CZ304814B6 CZ304814B6 (cs) 2014-11-12
CZ2013543A3 true CZ2013543A3 (cs) 2014-11-12

Family

ID=51867894

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CZ2013-543A CZ2013543A3 (cs) 2013-07-11 2013-07-11 Atmosférický zdroj plazmatu, zejména pro využití v medicínských bioaplikacích

Country Status (1)

Country Link
CZ (1) CZ2013543A3 (cs)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CZ306217B6 (cs) * 2015-10-06 2016-10-05 Fyzikální ústav AV ČR, v.v.i. Zdroj nízkoteplotního plazmatu s možností kontaktní i bezkontaktní aplikace a způsob výroby sendvičové struktury pro tento zdroj

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100530765B1 (ko) * 2002-10-04 2005-11-23 이규왕 나노 다공성 유전체를 이용한 플라즈마 발생장치
KR101174345B1 (ko) * 2010-09-29 2012-08-16 김영귀 대기압 플라즈마 발생장치

Also Published As

Publication number Publication date
CZ304814B6 (cs) 2014-11-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Georgescu et al. Tumoral and normal cells treatment with high-voltage pulsed cold atmospheric plasma jets
CN110574140B (zh) 大气压等离子体装置
Seo et al. Comparative studies of atmospheric pressure plasma characteristics between He and Ar working gases for sterilization
Park et al. Atmospheric-pressure plasma sources for biomedical applications
CN104736087B (zh) 用于通过低压等离子体处理生物组织的设备和方法
US20110022043A1 (en) Device for the treatment of surfaces with a plasma generated by an electrode over a solid dielectric via a dielectrically impeded gas discharge
CN104981269B (zh) 采用低压等离子体处理生物组织的设备和方法
CN104981270B (zh) 采用低压等离子体处理生物组织的设备和方法
US20120156091A1 (en) Methods and devices for treating surfaces with surface plasma`
DE102009047220A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung eines gepulsten Anisothermen Atmosphärendruck-Plasmas
KR20100107290A (ko) 대기압 플라즈마 발생장치
KR101320291B1 (ko) 국부소독 및 살균 가능한 핸드피스형 플라즈마 장치
CN115768942B (zh) 低温织物介电阻挡放电装置
RU2638569C1 (ru) Способ стерилизации газоразрядной плазмой атмосферного давления и устройство для его осуществления
CN107926106A (zh) 用于体的表面处理的电极装置和等离子处理设备
CZ2013543A3 (cs) Atmosférický zdroj plazmatu, zejména pro využití v medicínských bioaplikacích
Han Review of major directions in non-equilibrium atmospheric plasma treatments in medical, biological, and bioengineering applications
Wu et al. A bipolar DC-driven touchable helium plasma jet operated in self-pulsed mode
CZ25959U1 (cs) Atmosférický zdroj plazmatu, zejména pro využití v medicínských bioaplikacích
Laroussi et al. Cold atmospheric pressure plasma sources for cancer applications
CZ27679U1 (cs) Zdroj nízkoteplotního plazmatu, zejména pro deaktivací bakteri
CZ31034U1 (cs) Zdroj nízkoteplotního plazmatu, zejména pro generaci plazmatu při využití v medicínských bioaplikacích
CZ29236U1 (cs) Zdroj nízkoteplotního plazmatu, zejména pro generaci plazmatu ve tvaru různých objemových útvarů
KR20170118660A (ko) 플라즈마 가습기
KR200491318Y1 (ko) 플라즈마 가습기