CZ2016224A3 - Způsob měření depozičního nízkotlakého plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny a zařízení k provádění tohoto způsobu - Google Patents
Způsob měření depozičního nízkotlakého plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny a zařízení k provádění tohoto způsobuInfo
- Publication number
- CZ2016224A3 CZ2016224A3 CZ2016-224A CZ2016224A CZ2016224A3 CZ 2016224 A3 CZ2016224 A3 CZ 2016224A3 CZ 2016224 A CZ2016224 A CZ 2016224A CZ 2016224 A3 CZ2016224 A3 CZ 2016224A3
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- electron cyclotron
- plasma
- pressure plasma
- wave resonance
- low pressure
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 title abstract 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 abstract 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 abstract 1
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Způsob měření depozičního nízkotlakého plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny za účelem určení jeho parametrů, zejména koncentrace elektronů v plazmatu přiváděného do měřícího prostoru (1) vytvořeného ve vakuové komoře (2), spočívá v tom, že v měřícím prostoru (1), v němž je aplikováno regulovatelné stacionární pomocné magnetické pole (B), je pomocí vysokofrekvenčního buzení ze signálového vysokofrekvenčního generátoru (10) s nastavitelnou frekvencí generována pravotočivě polarizovaná elektronová cyklotronová vlna. Velikost její amplitudy je regulována tak, aby neovlivňovala měřené plazma. Jeho vlastnosti se současně měří minimálně dvěma vysokofrekvenčními magnetickými sondami (11). Ze získaných údajů se vyhodnocují a vypočítávají se parametry měřeného plazmatu. Dále je podstatou vynálezu zařízení k provádění tohoto způsobu.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CZ2016-224A CZ306799B6 (cs) | 2016-04-18 | 2016-04-18 | Způsob měření depozičního nízkotlakého plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny a zařízení k provádění tohoto způsobu |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CZ2016-224A CZ306799B6 (cs) | 2016-04-18 | 2016-04-18 | Způsob měření depozičního nízkotlakého plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny a zařízení k provádění tohoto způsobu |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CZ2016224A3 true CZ2016224A3 (cs) | 2017-07-12 |
| CZ306799B6 CZ306799B6 (cs) | 2017-07-12 |
Family
ID=59284915
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CZ2016-224A CZ306799B6 (cs) | 2016-04-18 | 2016-04-18 | Způsob měření depozičního nízkotlakého plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny a zařízení k provádění tohoto způsobu |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CZ (1) | CZ306799B6 (cs) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2022117130A1 (en) | 2020-12-03 | 2022-06-09 | Univerzita Palackého v Olomouci | Device for deposition of dielectric optical thin films by the help of sputtering plasma sources and sources of energy ions |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN203859921U (zh) * | 2014-05-04 | 2014-10-01 | 核工业西南物理研究院 | 一种测量等离子体电流分布的极化ece诊断系统 |
-
2016
- 2016-04-18 CZ CZ2016-224A patent/CZ306799B6/cs not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CZ306799B6 (cs) | 2017-07-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2016092342A5 (cs) | ||
| EP4542237A3 (en) | Atom-based electromagnetic field sensing element and measurement system | |
| JP2017515532A5 (cs) | ||
| JP2019515429A5 (cs) | ||
| EP3470828A3 (en) | Real-time methods for magnetic resonance spectra acquisition | |
| WO2015051175A3 (en) | Application of electron-beam induced plasma probes to inspection, test, debug and surface modifications | |
| GB2550809A (en) | Apparatus and method for estimating absolute axes' orientations for a magnetic detection system | |
| JP2017228558A5 (cs) | ||
| FI20145205A7 (fi) | Menetelmä ja järjestelmä silmänpainemittauksiin | |
| Van Compernolle et al. | Direct detection of resonant electron pitch angle scattering by whistler waves in a laboratory plasma | |
| MX386709B (es) | Aparato de evaluacion de caracteristicas de superficie y metodo de evaluacion de caracteristicas de superficie para material de acero. | |
| MX389737B (es) | Método y dispositivo para observar un campo magnético de un volumen de material y uso del dispositivo. | |
| MY202741A (en) | Apparatuses and methods for superposition based wave synthesis | |
| CZ2016224A3 (cs) | Způsob měření depozičního nízkotlakého plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny a zařízení k provádění tohoto způsobu | |
| DE502007006336D1 (de) | Textilmaschine sowie berührungsloses messverfahren | |
| SI2300889T1 (sl) | Postopek vodenja vozila | |
| MY200842A (en) | Method for Exciting Piezoelectric Transducers and Sound-Producing Arrangement | |
| JP2017028000A (ja) | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | |
| JP2016082180A5 (cs) | ||
| Aidakina et al. | Cross-modulation of whistler waves in a magnetized plasma | |
| Mahmoudian et al. | Narrowband stimulated electromagnetic emissions (SEE) spectra: A new ionospheric diagnostic technique | |
| Zhang et al. | Simulation experiment of Inductive electric field measurement of Needle-ball electrode based on CST Microwave Studio | |
| Aidakina et al. | Quasistationary magnetic field generated in a plasma by a whistler-mode radio pulse | |
| Veloso Espinosa et al. | An analytical model of multi-component radio frequency capacitively coupled plasma and experimental validation | |
| UA101625U (ru) | Электростатический одноканальный амплитудно-фазовый способ неразрушающего контроля |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | Patent lapsed due to non-payment of fee |
Effective date: 20220418 |