CZ286233B6 - Zařízení ke kontrolovanému dávkování NO do dechu pacientů - Google Patents

Zařízení ke kontrolovanému dávkování NO do dechu pacientů Download PDF

Info

Publication number
CZ286233B6
CZ286233B6 CZ1994936A CZ93694A CZ286233B6 CZ 286233 B6 CZ286233 B6 CZ 286233B6 CZ 1994936 A CZ1994936 A CZ 1994936A CZ 93694 A CZ93694 A CZ 93694A CZ 286233 B6 CZ286233 B6 CZ 286233B6
Authority
CZ
Czechia
Prior art keywords
analyzer
breath
patient
gas
respirator
Prior art date
Application number
CZ1994936A
Other languages
English (en)
Other versions
CZ93694A3 (en
Inventor
Christian Krebs
Original Assignee
Messer Griesheim Austria Ges.M.B.H.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE4312431A external-priority patent/DE4312431C1/de
Priority claimed from DE4325319A external-priority patent/DE4325319C1/de
Application filed by Messer Griesheim Austria Ges.M.B.H. filed Critical Messer Griesheim Austria Ges.M.B.H.
Publication of CZ93694A3 publication Critical patent/CZ93694A3/cs
Publication of CZ286233B6 publication Critical patent/CZ286233B6/cs

Links

Classifications

    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61M—DEVICES FOR INTRODUCING MEDIA INTO, OR ONTO, THE BODY; DEVICES FOR TRANSDUCING BODY MEDIA OR FOR TAKING MEDIA FROM THE BODY; DEVICES FOR PRODUCING OR ENDING SLEEP OR STUPOR
    • A61M16/00—Devices for influencing the respiratory system of patients by gas treatment, e.g. ventilators; Tracheal tubes
    • A61M16/10—Preparation of respiratory gases or vapours
    • A61M16/12—Preparation of respiratory gases or vapours by mixing different gases
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61M—DEVICES FOR INTRODUCING MEDIA INTO, OR ONTO, THE BODY; DEVICES FOR TRANSDUCING BODY MEDIA OR FOR TAKING MEDIA FROM THE BODY; DEVICES FOR PRODUCING OR ENDING SLEEP OR STUPOR
    • A61M16/00—Devices for influencing the respiratory system of patients by gas treatment, e.g. ventilators; Tracheal tubes
    • A61M16/10—Preparation of respiratory gases or vapours
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
    • G01N33/0004—Gaseous mixtures, e.g. polluted air
    • G01N33/0009—General constructional details of gas analysers, e.g. portable test equipment
    • G01N33/0027—General constructional details of gas analysers, e.g. portable test equipment concerning the detector
    • G01N33/0036—General constructional details of gas analysers, e.g. portable test equipment concerning the detector specially adapted to detect a particular component
    • G01N33/0037—NOx
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
    • G01N33/48—Biological material, e.g. blood, urine; Haemocytometers
    • G01N33/483—Physical analysis of biological material
    • G01N33/497—Physical analysis of biological material of gaseous biological material, e.g. breath
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D11/00—Control of flow ratio
    • G05D11/02—Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material
    • G05D11/13—Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material characterised by the use of electric means
    • G05D11/135—Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material characterised by the use of electric means by sensing at least one property of the mixture
    • G05D11/138—Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material characterised by the use of electric means by sensing at least one property of the mixture by sensing the concentration of the mixture, e.g. measuring pH value
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61M—DEVICES FOR INTRODUCING MEDIA INTO, OR ONTO, THE BODY; DEVICES FOR TRANSDUCING BODY MEDIA OR FOR TAKING MEDIA FROM THE BODY; DEVICES FOR PRODUCING OR ENDING SLEEP OR STUPOR
    • A61M16/00—Devices for influencing the respiratory system of patients by gas treatment, e.g. ventilators; Tracheal tubes
    • A61M16/10—Preparation of respiratory gases or vapours
    • A61M16/1005—Preparation of respiratory gases or vapours with O2 features or with parameter measurement
    • A61M2016/102—Measuring a parameter of the content of the delivered gas
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61M—DEVICES FOR INTRODUCING MEDIA INTO, OR ONTO, THE BODY; DEVICES FOR TRANSDUCING BODY MEDIA OR FOR TAKING MEDIA FROM THE BODY; DEVICES FOR PRODUCING OR ENDING SLEEP OR STUPOR
    • A61M2202/00—Special media to be introduced, removed or treated
    • A61M2202/02—Gases
    • A61M2202/0266—Nitrogen (N)
    • A61M2202/0275—Nitric oxide [NO]
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61M—DEVICES FOR INTRODUCING MEDIA INTO, OR ONTO, THE BODY; DEVICES FOR TRANSDUCING BODY MEDIA OR FOR TAKING MEDIA FROM THE BODY; DEVICES FOR PRODUCING OR ENDING SLEEP OR STUPOR
    • A61M2205/00—General characteristics of the apparatus
    • A61M2205/70—General characteristics of the apparatus with testing or calibration facilities
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
    • Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
    • Y02A50/20—Air quality improvement or preservation, e.g. vehicle emission control or emission reduction by using catalytic converters

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Hematology (AREA)
  • Food Science & Technology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Heart & Thoracic Surgery (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Anesthesiology (AREA)
  • Pulmonology (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Emergency Medicine (AREA)
  • Urology & Nephrology (AREA)
  • Biophysics (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Investigating Or Analysing Biological Materials (AREA)
  • Respiratory Apparatuses And Protective Means (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By The Use Of Chemical Reactions (AREA)
  • Measurement Of The Respiration, Hearing Ability, Form, And Blood Characteristics Of Living Organisms (AREA)
  • Orthopedics, Nursing, And Contraception (AREA)
  • Flow Control (AREA)
  • Percussion Or Vibration Massage (AREA)
  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)
  • Medicinal Preparation (AREA)
  • Infusion, Injection, And Reservoir Apparatuses (AREA)
  • Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)

Abstract

Zařízení ke kontrolovanému dávkování NO do dechu pacientů sestává z respirátoru (1) s připojenou nádrží (3) dávkovaného NO, přičemž mezi respirátorem (1) a nádrží (3) dávkovaného NO je umístěna dávkovací jednotka (4), se kterou je v činném spojení řídicí zařízení (6a), a potřebné objemové proudění NO pro přívod NO je regulováno v závislosti na inspiračním objemovém proudění, a analyzátoru (2) ke stanovení koncentrace NO v dechu pacienta (12), který je spojen prostřednictvím analyzačního odvodu (19) přes v něm umístěný odvlhčovač (23) s tubusem (13), vedoucím k pacientovi (12). Analyzátor pro NO se používá k řízení přívodu množství NO u zařízení ke kontrolovanému dávkování NO do dechu pacientů (12).ŕ

Description

Oblast techniky
Vynález se týká zařízení ke kontrolovanému dávkování NO do dechu a analýze inspiračního a rovněž expiračního dechového vzduchu pacientů s například ARDS-adult respirátory distress syndrome nebo podobnými příznaky nemoci podle předvýznaku nároku 1, a použití analyzátoru.
Dosavadní stav techniky
ARDS je těžkým selháním plic dospělých, při kterém vedle zatajeného těžkého porušení výměny plynů plícemi vzniká vysoký krevní tlak v plicním oběhu. Tento vysoký tlak vede k velkému zatížení srdce vkonsekvenci s těžkou srdeční poruchou. Kromě toho může při ARDS nastat vysoký tlak v plicním oběhu také u dříve narozených dětí u stanovených deformací srdce. Vysoký tlak v plicním oběhu se může snížit podáváním prostředků snižujících krevní tlak. Poněvadž se krevní tlak u pacientů s ARDS zpravidla jíž snižuje, mohou se proto podávat takové prostředky snižující krevní tlak jen s velkým omezením.
Již několik let je známé, že se dávkováním oxidu dusnatého do dechu pacientů může docílit snížení vysokého tlaku v plicním oběhu. NO působí rozšiřování cév a vede zvětšením průřezu cév ke snížení krevního tlaku v plicním oběhu. Použití NO způsobuje těžkosti, pokud se musí zajistit nerušená aplikace NO v období několika týdnů. Další těžkost může vzniknout tím, že se může v plících pacientů tvořit částečně jedovatý oxid dusičitý.
Z WO 90/04425 je známé zařízení na odebírání vzorku plynu a odlučování vody, které sestává z postupně ve vedení plynu umístěných odběrního místa, čerpadla, solenoidu, filtru a snímače. Přitom solenoid je připojen ke kontrolnímu spínači a obvodu kontroly odchylky.
Z WO 92/11051 je známý záchranný systém pro znecitlivění, používající uzavřený obvod s CO2. Tento systém sestává z cirkulačního systému CO2 s absorbérem CO2 a výstupem k pacientovi. Cirkulační systém CO2 je opatřen snímačem parciálního tlaku CO2, který ovládá přes zpětnou vazbu přívod CO2.
Podstata vynálezu
Vynález spočívá ve vytvoření zařízení ke kontrolovanému dávkování oxidu dusnatého do dechu pacientů, které zajišťuje bezpečný dlouhodobý chod a velmi rychle reaguje na nedovolenou změnu koncentrace NO a rovněž NO2 v dechu pacienta. Na základě znalosti shora uvedeného stavu techniky je tento úkol podle vynálezu vyřešen tím, že zařízení sestává z respirátoru s připojenou nádrží dávkovaného NO, přičemž mezi respirátorem a nádrží dávkovaného NO je umístěna dávkovači jednotka, se kterou je v činném spojení řídicí zařízení, a potřebné objemové proudění NO pro přívod NO je regulováno v závislosti na inspiračním objemovém proudění, a analyzátoru ke stanovení koncentrace NO v dechu pacienta, který je spojen prostřednictvím analyzačního odvodu přes v něm umístěný odvlhčovač s tubusem, vedoucím k pacientovi.
Výhodná další vytvoření vynálezu jsou uvedena ve vedlejších nárocích.
Vlastní analyzátory pro zařízení podle vynálezu pracují například podle infračerveného absorpčního měřicího principu, měřicího principu s elektrochemickými senzory nebo na principu chemiluminiscenčního detektoru. Chemiluminiscenční detektor má výhodu, že se s ním může
- 1 CZ 286233 B6 současně stanovit koncentrace NO a NO2. Analyzátor rovněž může být vytvořen ke stanovení koncentrace NO2 ve vdechovaném plynu nebo vydechovaném plynu.
Poněvadž takovéto analyzátory reagují velmi citlivě na vlhkost, což může vést k neočekávaným vedlejším efektům a výpadkům činnosti, je podle vynálezu ve spojovacím vedení měřeného plynu umístěn odvlhčovač, například chladič měřeného plynu, ve kterém se odstraňuje, například kondenzací, vlhkost, nalézající se v dechu. Tím se dosáhne, že zařízení dlouhodobě pracuje bez poruch. Dále je ve spojovacím vedení měřeného plynu, vedoucího k analyzátoru, umístěno čerpadlo měřeného plynu. Toto odtahuje z tubusu, vedoucího z respirátoru k pacientovi, větší množství dechového vzduchu, než analyzátor potřebuje. Nepotřebné množství měřeného plynu se odvede obtokovým vedením do okolí. Tím se docílí, že analyzátor velmi rychle eviduje změnu koncentrace NO a rovněž NO2 a může se rovněž vhodně změnit dávkování NO. K analyzátoru může být také s výhodou připojena jednotka hlídání hraničních hodnot NO, která je v činném spojení s řídicím zařízením. K dávkovači jednotce může rovněž být připojeno zařízení k evidenci inspiračního objemového proudu vdechovaného vzduchu a kyslíku, objemového proudu NO, a rovněž kontrolní a regulační zařízení se vstupem pro objemové proudění měřeného NO a analyzovanou hodnotu jako regulační veličinu pro doregulaci dávkovaného množství NO. K výstupu signálu inspiračního ventilu respirátoru může být přednostně připojen řídicí ventil.
Podle vynálezu se tedy analyzátor pro NO používá k řízení přívodu množství NO u zařízení ke kontrolovanému dávkování NO do dechu pacientů.
Popis obrázků na výkresech
Vynález bude dále blíže objasněn na dvou příkladech provedení pomocí výkresů. Zde znázorňuje:
obr. 1 zařízení, které je vhodné pro libovolné analyzátory ke stanovení NO v dechu pacientů, obr. 2 zařízení s chemiluminiscenčním detektorem jako zařízením, které dovoluje současné stanovení NO a NO2.
Příklady provedení vynálezu
U obou obrázků byly použity pro stejné části zařízení stejné vztahové značky.
Podstatné součásti zařízení, zobrazeného na obr. 1, jsou respirátor 1, analyzátor 2, nádrž 3 dávkovaného NO, dávkovači jednotka 4 s regulačními ventily 14, 15 a řídicí zařízení 6a. Řídicí a regulační vazby jsou zobrazeny na obrázku čárkovaně, řídicí vedení jsou vytažena. Tato spojení nejsou převážně opatřena vztahovými značkami.
Respirátor 1 je vlastním dýchacím zařízením. Sestává z přípojů 7 a 8 pro dechový vzduch a kyslík a rovněž z třetího přípoje 9 k odvedení vydechnutého vzduchu. Vzduch obohacený kyslíkem proudí inspiračním ventilem 10 a navlhčovačem 11. Pacient 12 tím získává přes tubus 13 teplý dechový vzduch, silně nasycený kyslíkem a vlhkostí. Nádrž 3 dávkovaného NO je tlakovou lahví na plyn a obsahuje směs z NO v dusíku při 300 až 3000 vpm. Je připojena k respirátoru 1, přednostně k jeho respiračnímu rameni 16. Analyzátor 2 stanoví koncentraci NO. Řídicí ventily 5 mohou být taktovány se signálem z inspiračního ventilu 10. Tímto nesmí nastat, že regulační ventily 14, 15 regulují na základě objemu inspiračního proudu k nule a zavírají přívod NO. Řídicí ventily 5 však jsou v přívodu NO myšleny jako bezpečnostní ventily. Tím se obsah NO analyzuje jen během inspirační fáze, během respirační fáze se však analyzuje
-2CZ 286233 B6 vydechnutá plynná směs. Toto uspořádání tím umožňuje další interpretaci analyzovaných produktů a zvláště vhodně ukazuje zaznamenaný obsah NO.
Koncentrace NO stanovená analyzátorem 2 se kontinuálně zachycuje registračním zařízením 17. Hodnoty zachycené koncentrace se dále vedou na řídicí zařízení 6a, které reguluje regulačními ventily 14, 15 množství NO, přiváděné přes dávkovači jednotku 4 k pacientovi 12.
Měřením objemu proudu dechového vzduchu a kyslíku, proudících přípoji 7 a 8, a na základě koncentrace, nastavené na kontrolním a regulačním zařízení 6b, vypočítá kontrolní a regulační zařízení potřebný objem proudu dávkovaného NO. Tento se stanoví automatickým nastavením ventilu. Na místo regulačního ventilu se ktomu může také použít více paralelně řazených ventilů. Objemový proud NO, změřený v dávkovacím vedení, se převádí zpět jako regulační veličina. Na základě analyzované hodnoty NO doreguluje kontrolní a regulační zařízení 6b dávkované množství NO.
Tento regulační koncept umožňuje nejen volbu objemově kontrolovaného dýchání, nýbrž také realizaci celkem jiných forem dýchání. Koncentrace NO se přitom udržují vždy konstantní. Je také tedy myslitelná forma spontánního dýchání, takže pacient nemusí dýchat plnou intenzitou.
Doplňkově je mezi analyzátor 2 a třídicí zařízení 6a umístěna jednotka 18 hlídání hraničních hodnot. Tato vypíná přívod NO k pacientovi, když se v tubusu 13 změří v dechovém plynu pro pacienta nebezpečná koncentrace více než maximálních 60 vpm NO. Posunutí hraničních hodnot je však možné tím, že se hraniční hodnoty vytvoří variabilně nastavitelné mezi 0 až 60 vpm. Měřený plyn pro analyzátor 2 se odebírá z tubusu 13 analyzačním odvodem 19. Analyzační odvod 19 musí být co možná blízko pacienta 12.
Podle vynálezu je vytvořeno čerpadlo 20 měřeného plynu, které ve spojení se zařízením 21 kontroly průtoku odvádí z tubusu 13 značně velký proud měřeného plynu, jaký je potřebný pro chod analyzátoru 2. Nadbytečné množství měřeného plynu se odvede obtokovým vedením 22. Těmito opatřeními podle vynálezu se dosáhne, že se velmi rychle analyzátorem 2 stanoví změna koncentrace NO v dýchacím plynu. Vhodně rychle se může pomocí řídicího zařízení 6a a kontrolního a regulačního zařízení 6b doregulovat přívod NO.
Pacienti s ARDS nebo podobným obrazem onemocnění se často musí podrobit působení NO po dobu několika týdnů. Během doby působení musí zařízení pracovat co možná bez poruchy. Aby se toho dosáhlo, je podle dalšího znaku vynálezu umístěn v analyzačním obvodu 19 odvlhčovač 23, přednostně chladič měřených plynů. Odvlhčovačem 23 se z proudu analyzovaného plynu odstraní vlhkost, aniž nastává nějaká reakce NO a případně NO2. Tato vlhkost by mohla v analyzátoru 2 vést k vedlejším efektům, až k vypadnutí chodu. Vlhkost, oddělená v odvlhčovači 23, se vede kondenzačním čerpadlem 24 do kondenzační sběrné láhve 25 a z ní se čas od času oddělí.
U zařízení, zobrazeného na obr. 2, je vytvořen analyzátor jako chemiluminiscenční detektor 26, který umožňuje současně stanovit koncentraci NO a NO2. Nádrž 3 dávkovaného NO je tlakovou láhví a obsahuje 900 vpm NO v N2. V plících pacienta 12 vzniká oxid dusičitý. Během inspirační fáze - nadechnutí se analyzuje dávkovaný oxid dusnatý, případně oxid dusičitý, během respirační fáze - vydechnutí se analyzuje vydechovaná plynná směs. Toto uspořádání tím umožňuje dále interpretovat produkty analýzy a zvláště stanovit přijímaný oxid dusnatý a vznikající oxid dusičitý. Vedle jiných faktorů je pro množství tvořícího se oxidu dusičitého rozhodující množství NO, nasátého z nádrže 3 dávkovaného NO do tubusu 13. V chemiluminizačním detektoru 26 reaguje NO s ozonem, který vyrobí sám chemiluminizační detektor 26. Při této reakci vzniká světlo, jehož intenzita je reprezentativní pro koncentraci NO. Pro chod chemiluminizačního detektoru 26 je potřebný zkušební plyn, který se nalézá v láhvi 27 zkušebního plynu. Zkušební
-3CZ 286233 B6 plyn sestává z 90 vpm NO v dusíku a slouží k přezkoušení, případně kalibraci chemiluminizačního detektoru 26. Kromě toho jsou pro činnost chemiluminizačního detektoru 26 potřebné vakuové čerpadlo 28 a generátor 29 suchého vzduchu. Koncentrace NO a NO2, zjištěné v chemiluminizačním detektoru 26, se kontinuálně zaznamenávají registračním zařízením 17. Zjištěné hodnoty koncentrace se převádí na řídicí zařízení 6a, které znovu reguluje přes dávkovači jednotku 4 a řídicí ventil 5 množství NO, přiváděné k pacientovi 12.
Chemiluminizační detektor 26 pracuje se silným podtlakem, takže bude proudit měřený plyn analyzačním obvodem 19 k analyzátoru 2 samočinně. Čerpadlo 20 měřeného plynu vytahuje ve spojení se zařízením 21 kontroly průtoku z tubusu 13 proud měřeného plynu značně větší, než je potřebné pro chod analyzátoru 2. Uvedenými zařízeními se odvádí 3 1/min měřeného plynu, zatímco chemiluminizační detektor 26 potřebuje jen 0,7 1/min. Přebývající množství měřeného plynu se odvede obtokovým vedením 22. Tímto opatřením podle vynálezu se dosahuje, že se změna koncentrace NO a NO2 v plynu dechu stanoví analyzátorem 2 velmi rychle. Přiměřeně rychle se může pomocí řídicího zařízení 6a a kontrolního a regulačního zařízení doregulovat přívod NO.
Rychlou změnou dávkování NO na základě zjištěné koncentrace NO a NO2 se může výhodně dosáhnout, že se tvoří co možná málo jedovatého NO2.
PATENTOVÉ NÁROKY

Claims (2)

1. Zařízení ke kontrolovanému dávkování NO do dechu pacientů, vyznačující se tím, že sestává z respirátoru (1) s připojenou nádrží (3) dávkovaného NO, přičemž mezi respirátorem (1) a nádrží (3) dávkovaného NO je umístěna dávkovači jednotka (4), se kterou je v činném spojení řídicí zařízení (6a) a potřebné objemové proudění NO pro přívod NO je regulováno v závislosti na inspiračním objemovém proudění, a analyzátoru (2) ke stanovení koncentrace NO vdechu pacienta (12), který je spojen prostřednictvím analyzačního odvodu (19) přes v něm umístěný odvlhčovač (23) s tubusem (13), vedoucím k pacientovi (12).
2. Zařízení podle nároku 1, vyznačující se tím, že mezi respirátorem (1) a analyzátorem (2) je ve spojovacím vedení jako odvlhčovač (23) umístěn chladič měřeného plynu.
3. Zařízení podle nároku 1 nebo 2, vyznačující se tím, že mezi analyzátorem (2) a odvlhčovačem (23) je ve spojovacím vedení umístěno čerpadlo (20) měřeného plynu.
4. Zařízení podle jednoho z nároků laž3, vyznačující se tím, že analyzátor (2) je tvořen zařízením, pracujícím na infračerveném absorpčním měřicím principu, chemiluminizačním detektorem (26), nebo zařízením, které pracuje s elektrochemickým senzorem.
5. Zařízení podle jednoho z nároků laž 4, vyznačující se tím, že analyzátor (2) je vytvořen ke stanovení koncentrace NO2 ve vdechovaném plynu nebo vydechovaném plynu.
6. Zařízení podle jednoho z nároků laž5, vyznačující se tím, žek analyzátoru (2) je připojena jednotka (18) hlídání hraničních hodnot NO, která je v činném spojení s řídicím zařízením (6a).
-4CZ 286233 B6
7. Zařízení podle jednoho z nároků 1 až 6, vyznačující se tím, žek dávkovači jednotce (4) je připojeno zařízení k evidenci inspiračního objemového proudu vdechovaného vzduchu a kyslíku, objemového proudu NO a rovněž kontrolní a regulační zařízení (6b) se vstupem pro objemové proudění měřeného NO a analyzovanou hodnotu jako regulační veličinu
5 pro doregulaci dávkovaného množství NO.
8. Zařízení podle jednoho z nároků laž 7, vyznačující se tím, že k výstupu signálu inspiračního ventilu (10) respirátoru (1) je připojen řídicí ventil (5).
10 9. Použití analyzátoru pro NO k řízení přívodu množství NO u zařízení ke kontrolovanému dávkování NO do dechu pacientů (12).
2 výkresy
-5CZ 286233 B6
CZ1994936A 1993-04-17 1994-04-18 Zařízení ke kontrolovanému dávkování NO do dechu pacientů CZ286233B6 (cs)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4312431A DE4312431C1 (de) 1993-04-17 1993-04-17 Gerät zur kontrollierten Zudosierung von NO zur Atemluft von Patienten
DE4325319A DE4325319C1 (de) 1993-07-29 1993-07-29 Gerät zur kontrollierten Zudosierung von NO zur Atemluft von Patienten

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CZ93694A3 CZ93694A3 (en) 1994-11-16
CZ286233B6 true CZ286233B6 (cs) 2000-02-16

Family

ID=25924981

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CZ1994936A CZ286233B6 (cs) 1993-04-17 1994-04-18 Zařízení ke kontrolovanému dávkování NO do dechu pacientů

Country Status (8)

Country Link
US (1) US5531218A (cs)
EP (1) EP0621051B1 (cs)
AT (1) ATE204491T1 (cs)
CA (1) CA2121384C (cs)
CZ (1) CZ286233B6 (cs)
DE (1) DE59409834D1 (cs)
HU (1) HUT66924A (cs)
SK (1) SK282396B6 (cs)

Families Citing this family (405)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2695831B1 (fr) * 1992-09-24 1994-11-10 Air Liquide Installation et procédé de fourniture d'un mélange gazeux aux voies respiratoires d'un utilisateur.
GB9320978D0 (en) * 1993-10-12 1993-12-01 Higenbottam Timohy W Nitric oxide treatment
US5558083A (en) * 1993-11-22 1996-09-24 Ohmeda Inc. Nitric oxide delivery system
SE9304028L (sv) * 1993-12-03 1995-06-04 Siemens Elema Ab Förfarande vid analys av en gas och gasanalysator
SE9403473L (sv) * 1994-10-13 1995-12-18 Loflo Ab Aggregat för tillförsel av en gasblandning i noggrannt reglerade proportioner till andningsvägarna hos patienter
DE69618133T2 (de) * 1995-10-13 2002-07-11 Siemens-Elema Ab, Solna Trachealtubus und Vorrichtung für Beatmungssysteme
SE9600743L (sv) * 1996-02-26 1997-08-27 Lars Erik Gustafsson Anordning för att kunna mäta andelen NO-gas i en gasblandning
ATE228869T1 (de) * 1996-02-27 2002-12-15 Koster Henk W Atmungs-system mit zusätzlicher verabreichung von gas
US5699790A (en) * 1996-03-21 1997-12-23 Ohmeda Inc. System for predicting NO2 concentrations
US6010459A (en) * 1996-04-09 2000-01-04 Silkoff; Philip E. Method and apparatus for the measurement of components of exhaled breath in humans
US5795787A (en) * 1996-04-09 1998-08-18 Silkoff; Philip Method and apparatus for the measurement of exhaled nitric oxide in humans
SE506778C2 (sv) * 1996-08-12 1998-02-09 Siemens Elema Ab Förfarande vid blandning av gaser och en anordning för blandning av gaser
DE19734279A1 (de) * 1997-08-07 1999-02-11 Messer Griesheim Gmbh Wasserstoffhaltiges Medikament
US5752504A (en) * 1996-12-13 1998-05-19 Ohmeda Inc. System for monitoring therapy during calibration
FR2760758B1 (fr) * 1997-03-13 1999-04-23 Air Liquide Installation de surveillance d'un appareil de generation d'atmosphere
SE9701150D0 (sv) 1997-03-27 1997-03-27 Nitrograf Ab Anordning för att utvärdera NO-halten i en utandad luftström
CA2225013C (en) * 1997-04-04 2006-06-06 Institut Du N.O. Inc. Injection system for delivery of a gaseous substance
US5911219A (en) * 1997-04-18 1999-06-15 Aylsworth; Alonzo C. Therapeutic gas flow meter and monitor
US5918596A (en) * 1997-04-22 1999-07-06 Instrumentarium Corp. Special gas dose delivery apparatus for respiration equipment
US6164276A (en) * 1997-05-16 2000-12-26 Datex-Ohmeda, Inc. Accurate dose nitric oxide pulse delivery device with monitoring and alarms
US6125846A (en) 1997-05-16 2000-10-03 Datex-Ohmeda, Inc. Purge system for nitric oxide administration apparatus
US6024087A (en) * 1997-10-09 2000-02-15 Ohmeda Inc. Emergency oxygen flowmeter arrangement
US6032667A (en) * 1997-10-30 2000-03-07 Instrumentarium Corporation Variable orifice pulse valve
US6109260A (en) * 1998-02-18 2000-08-29 Datex-Ohmeda, Inc. Nitric oxide administration device with timed pulse
US6196222B1 (en) * 1998-03-10 2001-03-06 Instrumentarium Corporation Tracheal gas insufflation delivery system for respiration equipment
US6142147A (en) * 1998-03-31 2000-11-07 The General Hospital Corporation Nasal delivery system for inhaled nitric oxide
US6269811B1 (en) * 1998-11-13 2001-08-07 Respironics, Inc. Pressure support system with a primary and a secondary gas flow and a method of using same
US20070086954A1 (en) * 1998-11-23 2007-04-19 Miller Christopher C Method and apparatus for treatment of respiratory infections by nitric oxide inhalation
CA2254645A1 (en) * 1998-11-23 2000-05-23 Pulmonox Medical Corporation Method and apparatus for treatment of respiratory infections by nitric oxide inhalation
US6694969B1 (en) * 1999-09-22 2004-02-24 Instrumentarium Corp. Method to improve oxygenation in subjects suffering impaired oxygenation
US7516742B2 (en) * 1999-11-24 2009-04-14 Cardinal Health 207, Inc. Method and apparatus for delivery of inhaled nitric oxide to spontaneous-breathing and mechanically-ventilated patients with intermittent dosing
US6581599B1 (en) * 1999-11-24 2003-06-24 Sensormedics Corporation Method and apparatus for delivery of inhaled nitric oxide to spontaneous-breathing and mechanically-ventilated patients
CA2292128A1 (en) * 1999-12-08 2001-06-08 Chris C. Miller Multi-gas delivery system
US6668828B1 (en) 2000-10-16 2003-12-30 Pulmonox Technologies Corporations System and elements for managing therapeutic gas administration to a spontaneously breathing non-ventilated patient
US7122018B2 (en) * 2000-12-26 2006-10-17 Sensormedics Corporation Device and method for treatment of wounds with nitric oxide
US6432077B1 (en) * 2000-12-26 2002-08-13 Sensormedics Corporation Device and method for treatment of surface infections with nitric oxide
ZA200306564B (en) * 2001-02-26 2004-10-15 Optinose As Nasal devices.
EP1243917A1 (en) * 2001-03-23 2002-09-25 Instrumentarium Corporation Nitric oxide analyzer
EP1243918A3 (en) * 2001-03-23 2004-10-06 Instrumentarium Corporation An improved chemiluminescent gas analyzer
US7531133B2 (en) * 2002-09-10 2009-05-12 Pulmonox Technologies Corporation Use of nitric oxide gas in an extracorporeal circuitry to treat blood plasma
DE10306766A1 (de) * 2003-02-18 2004-08-26 Ino Therapeutics Gmbh Dosierte Abgabe eines therapeutischen Gases
US20050053549A1 (en) * 2003-09-10 2005-03-10 Aperon Biosystems Corp. Method for treating airway disorders
US20080029093A1 (en) * 2004-05-11 2008-02-07 Alex Stenzler Intermittent Dosing Of Nitric Oxide Gas
US8518457B2 (en) * 2004-05-11 2013-08-27 Pulmonox Technologies Corporation Use of inhaled gaseous nitric oxide as a mucolytic agent or expectorant
US20070154570A1 (en) * 2004-09-29 2007-07-05 Miller Christopher C Use of nitric oxide in the treatment and disinfection of biofilms
US20070116785A1 (en) * 2005-11-18 2007-05-24 Miller Christopher C Nitric oxide as an anti-viral agent, vaccine and vaccine adjuvant
US20070181126A1 (en) * 2006-02-08 2007-08-09 Tolmie Craig R Method and apparatus for ventilating a patient with a breathing gas mixture formed from nitric oxide, air, and oxygen
US8079998B2 (en) * 2006-10-20 2011-12-20 Pulmonox Technologies Corporation Methods and devices for the delivery of therapeutic gases including nitric oxide
EP2514473A1 (en) * 2006-11-07 2012-10-24 The General Hospital Corporation Nitric oxide delivery device
US20080193566A1 (en) * 2007-02-09 2008-08-14 Miller Christopher C Use of high dose concentrations of gaseous nitric oxide
US8425428B2 (en) 2008-03-31 2013-04-23 Covidien Lp Nitric oxide measurements in patients using flowfeedback
US8652064B2 (en) * 2008-09-30 2014-02-18 Covidien Lp Sampling circuit for measuring analytes
US9394608B2 (en) 2009-04-06 2016-07-19 Asm America, Inc. Semiconductor processing reactor and components thereof
US8802201B2 (en) * 2009-08-14 2014-08-12 Asm America, Inc. Systems and methods for thin-film deposition of metal oxides using excited nitrogen-oxygen species
JP5965845B2 (ja) * 2010-02-01 2016-08-10 ゲノ エルエルシー 一酸化窒素送達システム
US9312155B2 (en) 2011-06-06 2016-04-12 Asm Japan K.K. High-throughput semiconductor-processing apparatus equipped with multiple dual-chamber modules
US10854498B2 (en) 2011-07-15 2020-12-01 Asm Ip Holding B.V. Wafer-supporting device and method for producing same
US20130023129A1 (en) 2011-07-20 2013-01-24 Asm America, Inc. Pressure transmitter for a semiconductor processing environment
US9017481B1 (en) 2011-10-28 2015-04-28 Asm America, Inc. Process feed management for semiconductor substrate processing
JP6389125B2 (ja) 2011-11-07 2018-09-12 ザ ジェネラル ホスピタル コーポレイション 赤血球の処理法
US10714315B2 (en) 2012-10-12 2020-07-14 Asm Ip Holdings B.V. Semiconductor reaction chamber showerhead
US20140144441A1 (en) * 2012-11-28 2014-05-29 L'Air Liquide, Société Anonyme pour I'Etude et I'Exploitation des Procédés Georges Claude Dosimetric therapeutic gas delivery method for rapid dosimetry adjustment and optimization
US20140144439A1 (en) * 2012-11-28 2014-05-29 Air Liquide Santé (International) Dosimetric therapeutic gas delivery system for rapid dose monitoring and control
US20140144440A1 (en) * 2012-11-28 2014-05-29 Air Liquide Santé (International) Dosimetric therapeutic gas delivery method with feed back control for rapid dosimetry adjustment and optimization
US20160376700A1 (en) 2013-02-01 2016-12-29 Asm Ip Holding B.V. System for treatment of deposition reactor
EP2968827B1 (en) 2013-03-15 2019-02-20 The General Hospital Corporation Synthesis of nitric oxide gas for inhalation
MX370385B (es) 2013-03-15 2019-12-11 Massachusetts Gen Hospital Sintesis inspiratoria de oxido nitrico.
US10683571B2 (en) 2014-02-25 2020-06-16 Asm Ip Holding B.V. Gas supply manifold and method of supplying gases to chamber using same
US10307080B2 (en) 2014-03-07 2019-06-04 Spirosure, Inc. Respiratory monitor
US10188822B2 (en) * 2014-03-13 2019-01-29 Mallinckrodt Hospital Products IP Limited Gas delivery device and system for use in magnetic resonance imaging
US10167557B2 (en) 2014-03-18 2019-01-01 Asm Ip Holding B.V. Gas distribution system, reactor including the system, and methods of using the same
US11015245B2 (en) 2014-03-19 2021-05-25 Asm Ip Holding B.V. Gas-phase reactor and system having exhaust plenum and components thereof
US10071213B2 (en) * 2014-05-02 2018-09-11 Mallinckrodt Hospital Products IP Limited Systems and method for delivery of therapeutic gas to patients, in need thereof, receiving breathing gas from a ventilator that varies at least pressure and/or flow using enhanced therapeutic gas (NO) flow measurement
US10858737B2 (en) 2014-07-28 2020-12-08 Asm Ip Holding B.V. Showerhead assembly and components thereof
US9890456B2 (en) 2014-08-21 2018-02-13 Asm Ip Holding B.V. Method and system for in situ formation of gas-phase compounds
US10941490B2 (en) 2014-10-07 2021-03-09 Asm Ip Holding B.V. Multiple temperature range susceptor, assembly, reactor and system including the susceptor, and methods of using the same
US9657845B2 (en) 2014-10-07 2017-05-23 Asm Ip Holding B.V. Variable conductance gas distribution apparatus and method
ES2822215T3 (es) 2014-10-20 2021-04-29 Massachusetts Gen Hospital Sistemas y métodos de síntesis de óxido nítrico
US10276355B2 (en) 2015-03-12 2019-04-30 Asm Ip Holding B.V. Multi-zone reactor, system including the reactor, and method of using the same
US10458018B2 (en) 2015-06-26 2019-10-29 Asm Ip Holding B.V. Structures including metal carbide material, devices including the structures, and methods of forming same
US10600673B2 (en) 2015-07-07 2020-03-24 Asm Ip Holding B.V. Magnetic susceptor to baseplate seal
US10211308B2 (en) 2015-10-21 2019-02-19 Asm Ip Holding B.V. NbMC layers
US11139308B2 (en) 2015-12-29 2021-10-05 Asm Ip Holding B.V. Atomic layer deposition of III-V compounds to form V-NAND devices
US10529554B2 (en) 2016-02-19 2020-01-07 Asm Ip Holding B.V. Method for forming silicon nitride film selectively on sidewalls or flat surfaces of trenches
US10343920B2 (en) 2016-03-18 2019-07-09 Asm Ip Holding B.V. Aligned carbon nanotubes
BR112018069582A2 (pt) 2016-03-25 2019-01-22 Massachusetts Gen Hospital sistemas e métodos de entrega para síntese elétrica de plasma de óxido nítrico
US10865475B2 (en) 2016-04-21 2020-12-15 Asm Ip Holding B.V. Deposition of metal borides and silicides
US10190213B2 (en) 2016-04-21 2019-01-29 Asm Ip Holding B.V. Deposition of metal borides
US10032628B2 (en) 2016-05-02 2018-07-24 Asm Ip Holding B.V. Source/drain performance through conformal solid state doping
US10367080B2 (en) 2016-05-02 2019-07-30 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a germanium oxynitride film
US11453943B2 (en) 2016-05-25 2022-09-27 Asm Ip Holding B.V. Method for forming carbon-containing silicon/metal oxide or nitride film by ALD using silicon precursor and hydrocarbon precursor
US10612137B2 (en) 2016-07-08 2020-04-07 Asm Ip Holdings B.V. Organic reactants for atomic layer deposition
US9859151B1 (en) 2016-07-08 2018-01-02 Asm Ip Holding B.V. Selective film deposition method to form air gaps
US10714385B2 (en) 2016-07-19 2020-07-14 Asm Ip Holding B.V. Selective deposition of tungsten
US9887082B1 (en) 2016-07-28 2018-02-06 Asm Ip Holding B.V. Method and apparatus for filling a gap
KR102532607B1 (ko) 2016-07-28 2023-05-15 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 가공 장치 및 그 동작 방법
US9812320B1 (en) 2016-07-28 2017-11-07 Asm Ip Holding B.V. Method and apparatus for filling a gap
US10643826B2 (en) 2016-10-26 2020-05-05 Asm Ip Holdings B.V. Methods for thermally calibrating reaction chambers
US11532757B2 (en) 2016-10-27 2022-12-20 Asm Ip Holding B.V. Deposition of charge trapping layers
US10229833B2 (en) 2016-11-01 2019-03-12 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures
US10643904B2 (en) 2016-11-01 2020-05-05 Asm Ip Holdings B.V. Methods for forming a semiconductor device and related semiconductor device structures
US10714350B2 (en) 2016-11-01 2020-07-14 ASM IP Holdings, B.V. Methods for forming a transition metal niobium nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures
US10134757B2 (en) 2016-11-07 2018-11-20 Asm Ip Holding B.V. Method of processing a substrate and a device manufactured by using the method
KR102546317B1 (ko) 2016-11-15 2023-06-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기체 공급 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
KR102762543B1 (ko) 2016-12-14 2025-02-05 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US11581186B2 (en) 2016-12-15 2023-02-14 Asm Ip Holding B.V. Sequential infiltration synthesis apparatus
US11447861B2 (en) 2016-12-15 2022-09-20 Asm Ip Holding B.V. Sequential infiltration synthesis apparatus and a method of forming a patterned structure
KR102700194B1 (ko) 2016-12-19 2024-08-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US10269558B2 (en) 2016-12-22 2019-04-23 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a structure on a substrate
US10867788B2 (en) 2016-12-28 2020-12-15 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a structure on a substrate
US11390950B2 (en) 2017-01-10 2022-07-19 Asm Ip Holding B.V. Reactor system and method to reduce residue buildup during a film deposition process
US10655221B2 (en) 2017-02-09 2020-05-19 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing oxide film by thermal ALD and PEALD
US10468261B2 (en) 2017-02-15 2019-11-05 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a metallic film on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures
BR112019016708B1 (pt) 2017-02-27 2024-01-30 Third Pole, Inc Sistemas de geração de óxido nítrico
MX2020010523A (es) 2017-02-27 2021-02-09 Third Pole Inc Sistemas y metodos para generar oxido nitrico.
WO2018157175A1 (en) 2017-02-27 2018-08-30 Third Pole, Inc. Systems and methods for ambulatory generation of nitric oxide
US11300552B2 (en) 2017-03-01 2022-04-12 Caire Diagnostics Inc. Nitric oxide detection device with reducing gas
US10529563B2 (en) 2017-03-29 2020-01-07 Asm Ip Holdings B.V. Method for forming doped metal oxide films on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures
WO2018183811A1 (en) 2017-03-31 2018-10-04 The General Hospital Corporation Systems and methods for a cooled nitric oxide generator
USD876504S1 (en) 2017-04-03 2020-02-25 Asm Ip Holding B.V. Exhaust flow control ring for semiconductor deposition apparatus
KR102457289B1 (ko) 2017-04-25 2022-10-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 증착 방법 및 반도체 장치의 제조 방법
US10770286B2 (en) 2017-05-08 2020-09-08 Asm Ip Holdings B.V. Methods for selectively forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures
US10892156B2 (en) 2017-05-08 2021-01-12 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures
US12040200B2 (en) 2017-06-20 2024-07-16 Asm Ip Holding B.V. Semiconductor processing apparatus and methods for calibrating a semiconductor processing apparatus
US11306395B2 (en) 2017-06-28 2022-04-19 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related deposition apparatus
US10685834B2 (en) 2017-07-05 2020-06-16 Asm Ip Holdings B.V. Methods for forming a silicon germanium tin layer and related semiconductor device structures
KR20190009245A (ko) 2017-07-18 2019-01-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반도체 소자 구조물 형성 방법 및 관련된 반도체 소자 구조물
US10541333B2 (en) 2017-07-19 2020-01-21 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures
US11374112B2 (en) 2017-07-19 2022-06-28 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures
US11018002B2 (en) 2017-07-19 2021-05-25 Asm Ip Holding B.V. Method for selectively depositing a Group IV semiconductor and related semiconductor device structures
US10590535B2 (en) 2017-07-26 2020-03-17 Asm Ip Holdings B.V. Chemical treatment, deposition and/or infiltration apparatus and method for using the same
TWI815813B (zh) 2017-08-04 2023-09-21 荷蘭商Ａｓｍ智慧財產控股公司 用於分配反應腔內氣體的噴頭總成
US10692741B2 (en) 2017-08-08 2020-06-23 Asm Ip Holdings B.V. Radiation shield
US10770336B2 (en) 2017-08-08 2020-09-08 Asm Ip Holding B.V. Substrate lift mechanism and reactor including same
US10249524B2 (en) 2017-08-09 2019-04-02 Asm Ip Holding B.V. Cassette holder assembly for a substrate cassette and holding member for use in such assembly
US11139191B2 (en) 2017-08-09 2021-10-05 Asm Ip Holding B.V. Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith
US11769682B2 (en) 2017-08-09 2023-09-26 Asm Ip Holding B.V. Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith
USD900036S1 (en) 2017-08-24 2020-10-27 Asm Ip Holding B.V. Heater electrical connector and adapter
US11830730B2 (en) 2017-08-29 2023-11-28 Asm Ip Holding B.V. Layer forming method and apparatus
US11056344B2 (en) 2017-08-30 2021-07-06 Asm Ip Holding B.V. Layer forming method
KR102491945B1 (ko) 2017-08-30 2023-01-26 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US11295980B2 (en) 2017-08-30 2022-04-05 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a molybdenum metal film over a dielectric surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures
KR102401446B1 (ko) 2017-08-31 2022-05-24 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
KR102630301B1 (ko) 2017-09-21 2024-01-29 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 침투성 재료의 순차 침투 합성 방법 처리 및 이를 이용하여 형성된 구조물 및 장치
US10844484B2 (en) 2017-09-22 2020-11-24 Asm Ip Holding B.V. Apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods
US10658205B2 (en) 2017-09-28 2020-05-19 Asm Ip Holdings B.V. Chemical dispensing apparatus and methods for dispensing a chemical to a reaction chamber
US10403504B2 (en) 2017-10-05 2019-09-03 Asm Ip Holding B.V. Method for selectively depositing a metallic film on a substrate
US10319588B2 (en) 2017-10-10 2019-06-11 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a metal chalcogenide on a substrate by cyclical deposition
US10923344B2 (en) 2017-10-30 2021-02-16 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a semiconductor structure and related semiconductor structures
KR102443047B1 (ko) 2017-11-16 2022-09-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치 방법 및 그에 의해 제조된 장치
US10910262B2 (en) 2017-11-16 2021-02-02 Asm Ip Holding B.V. Method of selectively depositing a capping layer structure on a semiconductor device structure
US11022879B2 (en) 2017-11-24 2021-06-01 Asm Ip Holding B.V. Method of forming an enhanced unexposed photoresist layer
TWI791689B (zh) 2017-11-27 2023-02-11 荷蘭商Ａｓｍ智慧財產控股私人有限公司 包括潔淨迷你環境之裝置
JP7214724B2 (ja) 2017-11-27 2023-01-30 エーエスエム アイピー ホールディング ビー．ブイ． バッチ炉で利用されるウェハカセットを収納するための収納装置
US10872771B2 (en) 2018-01-16 2020-12-22 Asm Ip Holding B. V. Method for depositing a material film on a substrate within a reaction chamber by a cyclical deposition process and related device structures
TWI799494B (zh) 2018-01-19 2023-04-21 荷蘭商Ａｓｍ 智慧財產控股公司 沈積方法
KR102695659B1 (ko) 2018-01-19 2024-08-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 플라즈마 보조 증착에 의해 갭 충진 층을 증착하는 방법
USD903477S1 (en) 2018-01-24 2020-12-01 Asm Ip Holdings B.V. Metal clamp
US11018047B2 (en) 2018-01-25 2021-05-25 Asm Ip Holding B.V. Hybrid lift pin
USD880437S1 (en) 2018-02-01 2020-04-07 Asm Ip Holding B.V. Gas supply plate for semiconductor manufacturing apparatus
US11081345B2 (en) 2018-02-06 2021-08-03 Asm Ip Holding B.V. Method of post-deposition treatment for silicon oxide film
US10896820B2 (en) 2018-02-14 2021-01-19 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a ruthenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process
US11685991B2 (en) 2018-02-14 2023-06-27 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a ruthenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process
US10731249B2 (en) 2018-02-15 2020-08-04 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a transition metal containing film on a substrate by a cyclical deposition process, a method for supplying a transition metal halide compound to a reaction chamber, and related vapor deposition apparatus
KR102636427B1 (ko) 2018-02-20 2024-02-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 방법 및 장치
US10658181B2 (en) 2018-02-20 2020-05-19 Asm Ip Holding B.V. Method of spacer-defined direct patterning in semiconductor fabrication
US10975470B2 (en) 2018-02-23 2021-04-13 Asm Ip Holding B.V. Apparatus for detecting or monitoring for a chemical precursor in a high temperature environment
US11473195B2 (en) 2018-03-01 2022-10-18 Asm Ip Holding B.V. Semiconductor processing apparatus and a method for processing a substrate
US11629406B2 (en) 2018-03-09 2023-04-18 Asm Ip Holding B.V. Semiconductor processing apparatus comprising one or more pyrometers for measuring a temperature of a substrate during transfer of the substrate
JP2019158758A (ja) * 2018-03-15 2019-09-19 日本碍子株式会社 ガスセンサの応答時間評価装置及び方法
US11114283B2 (en) 2018-03-16 2021-09-07 Asm Ip Holding B.V. Reactor, system including the reactor, and methods of manufacturing and using same
KR102646467B1 (ko) 2018-03-27 2024-03-11 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 상에 전극을 형성하는 방법 및 전극을 포함하는 반도체 소자 구조
US11230766B2 (en) 2018-03-29 2022-01-25 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus and method
US11088002B2 (en) 2018-03-29 2021-08-10 Asm Ip Holding B.V. Substrate rack and a substrate processing system and method
KR102501472B1 (ko) 2018-03-30 2023-02-20 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 방법
KR102600229B1 (ko) 2018-04-09 2023-11-10 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 지지 장치, 이를 포함하는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
TWI843623B (zh) 2018-05-08 2024-05-21 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 藉由循環沉積製程於基板上沉積氧化物膜之方法及相關裝置結構
US12025484B2 (en) 2018-05-08 2024-07-02 Asm Ip Holding B.V. Thin film forming method
US12272527B2 (en) 2018-05-09 2025-04-08 Asm Ip Holding B.V. Apparatus for use with hydrogen radicals and method of using same
KR20190129718A (ko) 2018-05-11 2019-11-20 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 상에 피도핑 금속 탄화물 막을 형성하는 방법 및 관련 반도체 소자 구조
KR102596988B1 (ko) 2018-05-28 2023-10-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 방법 및 그에 의해 제조된 장치
TWI840362B (zh) 2018-06-04 2024-05-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 水氣降低的晶圓處置腔室
US11718913B2 (en) 2018-06-04 2023-08-08 Asm Ip Holding B.V. Gas distribution system and reactor system including same
US11286562B2 (en) 2018-06-08 2022-03-29 Asm Ip Holding B.V. Gas-phase chemical reactor and method of using same
US10797133B2 (en) 2018-06-21 2020-10-06 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a phosphorus doped silicon arsenide film and related semiconductor device structures
KR102568797B1 (ko) 2018-06-21 2023-08-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 시스템
US11499222B2 (en) 2018-06-27 2022-11-15 Asm Ip Holding B.V. Cyclic deposition methods for forming metal-containing material and films and structures including the metal-containing material
TWI871083B (zh) 2018-06-27 2025-01-21 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 用於形成含金屬材料之循環沉積製程
US10612136B2 (en) 2018-06-29 2020-04-07 ASM IP Holding, B.V. Temperature-controlled flange and reactor system including same
KR102686758B1 (ko) 2018-06-29 2024-07-18 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 증착 방법 및 반도체 장치의 제조 방법
US10388513B1 (en) 2018-07-03 2019-08-20 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition
US10755922B2 (en) 2018-07-03 2020-08-25 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition
US10767789B2 (en) 2018-07-16 2020-09-08 Asm Ip Holding B.V. Diaphragm valves, valve components, and methods for forming valve components
US11053591B2 (en) 2018-08-06 2021-07-06 Asm Ip Holding B.V. Multi-port gas injection system and reactor system including same
US10883175B2 (en) 2018-08-09 2021-01-05 Asm Ip Holding B.V. Vertical furnace for processing substrates and a liner for use therein
US10829852B2 (en) 2018-08-16 2020-11-10 Asm Ip Holding B.V. Gas distribution device for a wafer processing apparatus
US11430674B2 (en) 2018-08-22 2022-08-30 Asm Ip Holding B.V. Sensor array, apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods
KR102707956B1 (ko) 2018-09-11 2024-09-19 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 증착 방법
US11024523B2 (en) 2018-09-11 2021-06-01 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus and method
US11049751B2 (en) 2018-09-14 2021-06-29 Asm Ip Holding B.V. Cassette supply system to store and handle cassettes and processing apparatus equipped therewith
CN110970344B (zh) 2018-10-01 2024-10-25 Asmip控股有限公司 衬底保持设备、包含所述设备的系统及其使用方法
US11232963B2 (en) 2018-10-03 2022-01-25 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus and method
KR102592699B1 (ko) 2018-10-08 2023-10-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 박막 증착 장치와 기판 처리 장치
US10847365B2 (en) 2018-10-11 2020-11-24 Asm Ip Holding B.V. Method of forming conformal silicon carbide film by cyclic CVD
US10811256B2 (en) 2018-10-16 2020-10-20 Asm Ip Holding B.V. Method for etching a carbon-containing feature
KR102605121B1 (ko) 2018-10-19 2023-11-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
KR102546322B1 (ko) 2018-10-19 2023-06-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
USD948463S1 (en) 2018-10-24 2022-04-12 Asm Ip Holding B.V. Susceptor for semiconductor substrate supporting apparatus
US12378665B2 (en) 2018-10-26 2025-08-05 Asm Ip Holding B.V. High temperature coatings for a preclean and etch apparatus and related methods
US11087997B2 (en) 2018-10-31 2021-08-10 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus for processing substrates
KR102748291B1 (ko) 2018-11-02 2024-12-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
US11572620B2 (en) 2018-11-06 2023-02-07 Asm Ip Holding B.V. Methods for selectively depositing an amorphous silicon film on a substrate
US11031242B2 (en) 2018-11-07 2021-06-08 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a boron doped silicon germanium film
US10818758B2 (en) 2018-11-16 2020-10-27 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures
US10847366B2 (en) 2018-11-16 2020-11-24 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a transition metal chalcogenide film on a substrate by a cyclical deposition process
US10559458B1 (en) 2018-11-26 2020-02-11 Asm Ip Holding B.V. Method of forming oxynitride film
US12040199B2 (en) 2018-11-28 2024-07-16 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus for processing substrates
US11217444B2 (en) 2018-11-30 2022-01-04 Asm Ip Holding B.V. Method for forming an ultraviolet radiation responsive metal oxide-containing film
KR102636428B1 (ko) 2018-12-04 2024-02-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치를 세정하는 방법
US11158513B2 (en) 2018-12-13 2021-10-26 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a rhenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures
JP7504584B2 (ja) 2018-12-14 2024-06-24 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー 窒化ガリウムの選択的堆積を用いてデバイス構造体を形成する方法及びそのためのシステム
TWI866480B (zh) 2019-01-17 2024-12-11 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ 私人控股有限公司 藉由循環沈積製程於基板上形成含過渡金屬膜之方法
KR102727227B1 (ko) 2019-01-22 2024-11-07 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
CN111524788B (zh) 2019-02-01 2023-11-24 Asm Ip私人控股有限公司 氧化硅的拓扑选择性膜形成的方法
KR102626263B1 (ko) 2019-02-20 2024-01-16 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 처리 단계를 포함하는 주기적 증착 방법 및 이를 위한 장치
TWI845607B (zh) 2019-02-20 2024-06-21 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 用來填充形成於基材表面內之凹部的循環沉積方法及設備
TWI873122B (zh) 2019-02-20 2025-02-21 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 填充一基板之一表面內所形成的一凹槽的方法、根據其所形成之半導體結構、及半導體處理設備
KR20200102357A (ko) 2019-02-20 2020-08-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 3-d nand 응용의 플러그 충진체 증착용 장치 및 방법
TWI842826B (zh) 2019-02-22 2024-05-21 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 基材處理設備及處理基材之方法
KR102858005B1 (ko) 2019-03-08 2025-09-09 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 실리콘 질화물 층을 선택적으로 증착하는 방법, 및 선택적으로 증착된 실리콘 질화물 층을 포함하는 구조체
KR102762833B1 (ko) 2019-03-08 2025-02-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. SiOCN 층을 포함한 구조체 및 이의 형성 방법
KR102782593B1 (ko) 2019-03-08 2025-03-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. SiOC 층을 포함한 구조체 및 이의 형성 방법
GB201903473D0 (en) * 2019-03-14 2019-05-01 Sumitomo Chemical Co Interferent and baseline drift correcting gas sensor system
JP2020167398A (ja) 2019-03-28 2020-10-08 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー ドアオープナーおよびドアオープナーが提供される基材処理装置
KR102809999B1 (ko) 2019-04-01 2025-05-19 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반도체 소자를 제조하는 방법
KR102897355B1 (ko) 2019-04-19 2025-12-08 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 층 형성 방법 및 장치
KR20200125453A (ko) 2019-04-24 2020-11-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기상 반응기 시스템 및 이를 사용하는 방법
KR102929471B1 (ko) 2019-05-07 2026-02-20 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 딥 튜브가 있는 화학물질 공급원 용기
KR102869364B1 (ko) 2019-05-07 2025-10-10 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 비정질 탄소 중합체 막을 개질하는 방법
KR102929472B1 (ko) 2019-05-10 2026-02-20 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 표면 상에 재료를 증착하는 방법 및 본 방법에 따라 형성된 구조
WO2020232414A1 (en) 2019-05-15 2020-11-19 Third Pole, Inc. Architectures for production of nitric oxide
EP3969416A4 (en) 2019-05-15 2023-11-01 Third Pole, Inc. SYSTEMS AND DEVICES FOR GENERATING NITROGEN OXIDE
CN114269685A (zh) 2019-05-15 2022-04-01 第三极股份有限公司 用于一氧化氮生成的电极
JP7598201B2 (ja) 2019-05-16 2024-12-11 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法
JP7612342B2 (ja) 2019-05-16 2025-01-14 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法
USD975665S1 (en) 2019-05-17 2023-01-17 Asm Ip Holding B.V. Susceptor shaft
USD947913S1 (en) 2019-05-17 2022-04-05 Asm Ip Holding B.V. Susceptor shaft
USD935572S1 (en) 2019-05-24 2021-11-09 Asm Ip Holding B.V. Gas channel plate
USD922229S1 (en) 2019-06-05 2021-06-15 Asm Ip Holding B.V. Device for controlling a temperature of a gas supply unit
KR20200141002A (ko) 2019-06-06 2020-12-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 배기 가스 분석을 포함한 기상 반응기 시스템을 사용하는 방법
KR102918757B1 (ko) 2019-06-10 2026-01-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 석영 에피택셜 챔버를 세정하는 방법
KR20200143254A (ko) 2019-06-11 2020-12-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 개질 가스를 사용하여 전자 구조를 형성하는 방법, 상기 방법을 수행하기 위한 시스템, 및 상기 방법을 사용하여 형성되는 구조
USD944946S1 (en) 2019-06-14 2022-03-01 Asm Ip Holding B.V. Shower plate
USD931978S1 (en) 2019-06-27 2021-09-28 Asm Ip Holding B.V. Showerhead vacuum transport
KR102911421B1 (ko) 2019-07-03 2026-01-12 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치용 온도 제어 조립체 및 이를 사용하는 방법
JP7499079B2 (ja) 2019-07-09 2024-06-13 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー 同軸導波管を用いたプラズマ装置、基板処理方法
CN112216646B (zh) 2019-07-10 2026-02-10 Asmip私人控股有限公司 基板支撑组件及包括其的基板处理装置
KR102895115B1 (ko) 2019-07-16 2025-12-03 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
TWI826704B (zh) 2019-07-17 2023-12-21 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 自由基輔助引燃電漿系統和方法
KR102860110B1 (ko) 2019-07-17 2025-09-16 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 실리콘 게르마늄 구조를 형성하는 방법
US11643724B2 (en) 2019-07-18 2023-05-09 Asm Ip Holding B.V. Method of forming structures using a neutral beam
KR102903090B1 (ko) 2019-07-19 2025-12-19 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 토폴로지-제어된 비정질 탄소 중합체 막을 형성하는 방법
TWI839544B (zh) 2019-07-19 2024-04-21 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 形成形貌受控的非晶碳聚合物膜之方法
CN112309843B (zh) 2019-07-29 2026-01-23 Asmip私人控股有限公司 实现高掺杂剂掺入的选择性沉积方法
CN112309900B (zh) 2019-07-30 2025-11-04 Asmip私人控股有限公司 基板处理设备
CN112309899B (zh) 2019-07-30 2025-11-14 Asmip私人控股有限公司 基板处理设备
KR20210015655A (ko) 2019-07-30 2021-02-10 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치 및 방법
US11587815B2 (en) 2019-07-31 2023-02-21 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly
US11587814B2 (en) 2019-07-31 2023-02-21 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly
US11227782B2 (en) 2019-07-31 2022-01-18 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly
KR20210018759A (ko) 2019-08-05 2021-02-18 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 화학물질 공급원 용기를 위한 액체 레벨 센서
KR20210018761A (ko) 2019-08-09 2021-02-18 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 냉각 장치를 포함한 히터 어셈블리 및 이를 사용하는 방법
USD965044S1 (en) 2019-08-19 2022-09-27 Asm Ip Holding B.V. Susceptor shaft
USD965524S1 (en) 2019-08-19 2022-10-04 Asm Ip Holding B.V. Susceptor support
JP7810514B2 (ja) 2019-08-21 2026-02-03 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー 成膜原料混合ガス生成装置及び成膜装置
USD979506S1 (en) 2019-08-22 2023-02-28 Asm Ip Holding B.V. Insulator
USD940837S1 (en) 2019-08-22 2022-01-11 Asm Ip Holding B.V. Electrode
USD930782S1 (en) 2019-08-22 2021-09-14 Asm Ip Holding B.V. Gas distributor
USD949319S1 (en) 2019-08-22 2022-04-19 Asm Ip Holding B.V. Exhaust duct
KR20210024423A (ko) 2019-08-22 2021-03-05 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 홀을 구비한 구조체를 형성하기 위한 방법
KR102928101B1 (ko) 2019-08-23 2026-02-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 비스(디에틸아미노)실란을 사용하여 peald에 의해 개선된 품질을 갖는 실리콘 산화물 막을 증착하기 위한 방법
US11286558B2 (en) 2019-08-23 2022-03-29 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a molybdenum nitride film on a surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures including a molybdenum nitride film
KR102868968B1 (ko) 2019-09-03 2025-10-10 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 칼코지나이드 막 및 상기 막을 포함한 구조체를 증착하기 위한 방법 및 장치
KR102806450B1 (ko) 2019-09-04 2025-05-12 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 희생 캡핑 층을 이용한 선택적 증착 방법
KR102733104B1 (ko) 2019-09-05 2024-11-22 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US12469693B2 (en) 2019-09-17 2025-11-11 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a carbon-containing layer and structure including the layer
US11562901B2 (en) 2019-09-25 2023-01-24 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing method
CN112593212B (zh) 2019-10-02 2023-12-22 Asm Ip私人控股有限公司 通过循环等离子体增强沉积工艺形成拓扑选择性氧化硅膜的方法
TW202128273A (zh) 2019-10-08 2021-08-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 氣體注入系統、及將材料沉積於反應室內之基板表面上的方法
KR102948143B1 (ko) 2019-10-08 2026-04-07 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 활성 종을 이용하기 위한 가스 분배 어셈블리를 포함한 반응기 시스템 및 이를 사용하는 방법
TWI846953B (zh) 2019-10-08 2024-07-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 基板處理裝置
TWI846966B (zh) 2019-10-10 2024-07-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 形成光阻底層之方法及包括光阻底層之結構
US12009241B2 (en) 2019-10-14 2024-06-11 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly with detector to detect cassette
TWI834919B (zh) 2019-10-16 2024-03-11 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 氧化矽之拓撲選擇性膜形成之方法
US11637014B2 (en) 2019-10-17 2023-04-25 Asm Ip Holding B.V. Methods for selective deposition of doped semiconductor material
KR102845724B1 (ko) 2019-10-21 2025-08-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 막을 선택적으로 에칭하기 위한 장치 및 방법
US11996292B2 (en) 2019-10-25 2024-05-28 Asm Ip Holding B.V. Methods for filling a gap feature on a substrate surface and related semiconductor structures
US11646205B2 (en) 2019-10-29 2023-05-09 Asm Ip Holding B.V. Methods of selectively forming n-type doped material on a surface, systems for selectively forming n-type doped material, and structures formed using same
KR102890638B1 (ko) 2019-11-05 2025-11-25 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 도핑된 반도체 층을 갖는 구조체 및 이를 형성하기 위한 방법 및 시스템
US11501968B2 (en) 2019-11-15 2022-11-15 Asm Ip Holding B.V. Method for providing a semiconductor device with silicon filled gaps
KR102861314B1 (ko) 2019-11-20 2025-09-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판의 표면 상에 탄소 함유 물질을 증착하는 방법, 상기 방법을 사용하여 형성된 구조물, 및 상기 구조물을 형성하기 위한 시스템
CN112951697B (zh) 2019-11-26 2025-07-29 Asmip私人控股有限公司 基板处理设备
KR20210065848A (ko) 2019-11-26 2021-06-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 제1 유전체 표면과 제2 금속성 표면을 포함한 기판 상에 타겟 막을 선택적으로 형성하기 위한 방법
CN120432376A (zh) 2019-11-29 2025-08-05 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
CN112885692B (zh) 2019-11-29 2025-08-15 Asmip私人控股有限公司 基板处理设备
JP7527928B2 (ja) 2019-12-02 2024-08-05 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー 基板処理装置、基板処理方法
KR20210070898A (ko) 2019-12-04 2021-06-15 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US11885013B2 (en) 2019-12-17 2024-01-30 Asm Ip Holding B.V. Method of forming vanadium nitride layer and structure including the vanadium nitride layer
KR102943768B1 (ko) 2019-12-19 2026-03-26 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 상의 갭 피처를 충진하는 방법 및 이와 관련된 반도체 소자 구조
JP7730637B2 (ja) 2020-01-06 2025-08-28 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー ガス供給アセンブリ、その構成要素、およびこれを含む反応器システム
TWI887322B (zh) 2020-01-06 2025-06-21 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 反應器系統、抬升銷、及處理方法
US11993847B2 (en) 2020-01-08 2024-05-28 Asm Ip Holding B.V. Injector
EP4069069A4 (en) 2020-01-11 2024-07-03 Third Pole, Inc. SYSTEMS AND METHODS FOR NITROGEN OXIDE PRODUCTION WITH HUMIDITY CONTROL
KR102882467B1 (ko) 2020-01-16 2025-11-05 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 고 종횡비 피처를 형성하는 방법
KR102675856B1 (ko) 2020-01-20 2024-06-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 형성 방법 및 박막 표면 개질 방법
TWI889744B (zh) 2020-01-29 2025-07-11 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 污染物捕集系統、及擋板堆疊
TW202513845A (zh) 2020-02-03 2025-04-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 半導體裝置結構及其形成方法
KR20210100010A (ko) 2020-02-04 2021-08-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 대형 물품의 투과율 측정을 위한 방법 및 장치
US11776846B2 (en) 2020-02-07 2023-10-03 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing gap filling fluids and related systems and devices
KR20210103953A (ko) 2020-02-13 2021-08-24 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 가스 분배 어셈블리 및 이를 사용하는 방법
KR102916725B1 (ko) 2020-02-13 2026-01-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 수광 장치를 포함하는 기판 처리 장치 및 수광 장치의 교정 방법
US11781243B2 (en) 2020-02-17 2023-10-10 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing low temperature phosphorous-doped silicon
TWI895326B (zh) 2020-02-28 2025-09-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 專用於零件清潔的系統
KR102943116B1 (ko) 2020-03-04 2026-03-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반응기 시스템용 정렬 고정구
US11876356B2 (en) 2020-03-11 2024-01-16 Asm Ip Holding B.V. Lockout tagout assembly and system and method of using same
KR20210116240A (ko) 2020-03-11 2021-09-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 조절성 접합부를 갖는 기판 핸들링 장치
KR102775390B1 (ko) 2020-03-12 2025-02-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 타겟 토폴로지 프로파일을 갖는 층 구조를 제조하기 위한 방법
US12173404B2 (en) 2020-03-17 2024-12-24 Asm Ip Holding B.V. Method of depositing epitaxial material, structure formed using the method, and system for performing the method
KR102755229B1 (ko) 2020-04-02 2025-01-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 형성 방법
TWI887376B (zh) 2020-04-03 2025-06-21 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 半導體裝置的製造方法
TWI888525B (zh) 2020-04-08 2025-07-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 用於選擇性蝕刻氧化矽膜之設備及方法
US11821078B2 (en) 2020-04-15 2023-11-21 Asm Ip Holding B.V. Method for forming precoat film and method for forming silicon-containing film
KR20210128343A (ko) 2020-04-15 2021-10-26 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 크롬 나이트라이드 층을 형성하는 방법 및 크롬 나이트라이드 층을 포함하는 구조
US11996289B2 (en) 2020-04-16 2024-05-28 Asm Ip Holding B.V. Methods of forming structures including silicon germanium and silicon layers, devices formed using the methods, and systems for performing the methods
KR102901748B1 (ko) 2020-04-21 2025-12-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판을 처리하기 위한 방법
TW202539998A (zh) 2020-04-24 2025-10-16 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 包含釩化合物之組成物與容器及用於穩定釩化合物之方法及系統
KR102866804B1 (ko) 2020-04-24 2025-09-30 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 냉각 가스 공급부를 포함한 수직형 배치 퍼니스 어셈블리
KR20210132600A (ko) 2020-04-24 2021-11-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 바나듐, 질소 및 추가 원소를 포함한 층을 증착하기 위한 방법 및 시스템
KR102934380B1 (ko) 2020-04-24 2026-03-05 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 바나듐 보라이드 및 바나듐 포스파이드 층을 포함한 구조체를 형성하는 방법
CN113555279A (zh) 2020-04-24 2021-10-26 Asm Ip私人控股有限公司 形成含氮化钒的层的方法及包含其的结构
KR102783898B1 (ko) 2020-04-29 2025-03-18 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 고체 소스 전구체 용기
KR20210134869A (ko) 2020-05-01 2021-11-11 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Foup 핸들러를 이용한 foup의 빠른 교환
JP7726664B2 (ja) 2020-05-04 2025-08-20 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー 基板を処理するための基板処理システム
JP7736446B2 (ja) 2020-05-07 2025-09-09 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー 同調回路を備える反応器システム
KR20210137395A (ko) 2020-05-07 2021-11-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 불소계 라디칼을 이용하여 반응 챔버의 인시츄 식각을 수행하기 위한 장치 및 방법
KR102788543B1 (ko) 2020-05-13 2025-03-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반응기 시스템용 레이저 정렬 고정구
KR102936676B1 (ko) 2020-05-15 2026-03-10 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 다중 전구체를 사용하여 실리콘 게르마늄 균일도를 제어하기 위한 방법
KR102905441B1 (ko) 2020-05-19 2025-12-30 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
KR102795476B1 (ko) 2020-05-21 2025-04-11 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 다수의 탄소 층을 포함한 구조체 및 이를 형성하고 사용하는 방법
KR20210145079A (ko) 2020-05-21 2021-12-01 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판을 처리하기 위한 플랜지 및 장치
TWI873343B (zh) 2020-05-22 2025-02-21 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 用於在基材上形成薄膜之反應系統
KR20210146802A (ko) 2020-05-26 2021-12-06 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 붕소 및 갈륨을 함유한 실리콘 게르마늄 층을 증착하는 방법
TWI876048B (zh) 2020-05-29 2025-03-11 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 基板處理方法
TW202212620A (zh) 2020-06-02 2022-04-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 處理基板之設備、形成膜之方法、及控制用於處理基板之設備之方法
KR20210156219A (ko) 2020-06-16 2021-12-24 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 붕소를 함유한 실리콘 게르마늄 층을 증착하는 방법
EP4167920A4 (en) 2020-06-18 2024-06-12 Third Pole, Inc. Systems and methods for preventing and treating infections with nitric oxide
TWI908816B (zh) 2020-06-24 2025-12-21 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 形成含矽層之方法
TWI873359B (zh) 2020-06-30 2025-02-21 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 基板處理方法
US12431354B2 (en) 2020-07-01 2025-09-30 Asm Ip Holding B.V. Silicon nitride and silicon oxide deposition methods using fluorine inhibitor
KR102707957B1 (ko) 2020-07-08 2024-09-19 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 방법
KR20220010438A (ko) 2020-07-17 2022-01-25 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 포토리소그래피에 사용하기 위한 구조체 및 방법
KR20220011092A (ko) 2020-07-20 2022-01-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 전이 금속층을 포함하는 구조체를 형성하기 위한 방법 및 시스템
TWI878570B (zh) 2020-07-20 2025-04-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 用於沉積鉬層之方法及系統
TW202219303A (zh) 2020-07-27 2022-05-16 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 薄膜沉積製程
KR20220020210A (ko) 2020-08-11 2022-02-18 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 상에 티타늄 알루미늄 카바이드 막 구조체 및 관련 반도체 구조체를 증착하는 방법
KR102915124B1 (ko) 2020-08-14 2026-01-19 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 방법
US12040177B2 (en) 2020-08-18 2024-07-16 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a laminate film by cyclical plasma-enhanced deposition processes
TWI911263B (zh) 2020-08-25 2026-01-11 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 清潔基板的方法、選擇性沉積的方法、及反應器系統
TW202534193A (zh) 2020-08-26 2025-09-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 形成金屬氧化矽層及金屬氮氧化矽層的方法
TWI911265B (zh) 2020-08-27 2026-01-11 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 形成圖案化結構的方法、操控機械特性的方法、及裝置結構
TWI904232B (zh) 2020-09-10 2025-11-11 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 沉積間隙填充流體之方法及相關系統和裝置
USD990534S1 (en) 2020-09-11 2023-06-27 Asm Ip Holding B.V. Weighted lift pin
KR20220036866A (ko) 2020-09-16 2022-03-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 실리콘 산화물 증착 방법
USD1012873S1 (en) 2020-09-24 2024-01-30 Asm Ip Holding B.V. Electrode for semiconductor processing apparatus
TWI889903B (zh) 2020-09-25 2025-07-11 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 基板處理方法
US12009224B2 (en) 2020-09-29 2024-06-11 Asm Ip Holding B.V. Apparatus and method for etching metal nitrides
KR20220045900A (ko) 2020-10-06 2022-04-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 실리콘 함유 재료를 증착하기 위한 증착 방법 및 장치
TW202229612A (zh) 2020-10-06 2022-08-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 在部件的側壁上形成氮化矽的方法及系統
CN114293174A (zh) 2020-10-07 2022-04-08 Asm Ip私人控股有限公司 气体供应单元和包括气体供应单元的衬底处理设备
KR102855834B1 (ko) 2020-10-14 2025-09-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 단차형 구조 상에 재료를 증착하는 방법
KR102873665B1 (ko) 2020-10-15 2025-10-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반도체 소자의 제조 방법, 및 ether-cat을 사용하는 기판 처리 장치
WO2022082072A1 (en) 2020-10-16 2022-04-21 Third Pole, Inc. Nitric oxide generation process controls
TW202217037A (zh) 2020-10-22 2022-05-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 沉積釩金屬的方法、結構、裝置及沉積總成
TW202223136A (zh) 2020-10-28 2022-06-16 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 用於在基板上形成層之方法、及半導體處理系統
TW202229620A (zh) 2020-11-12 2022-08-01 特文特大學 沉積系統、用於控制反應條件之方法、沉積方法
TW202229795A (zh) 2020-11-23 2022-08-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 具注入器之基板處理設備
TW202235649A (zh) 2020-11-24 2022-09-16 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 填充間隙之方法與相關之系統及裝置
TW202235675A (zh) 2020-11-30 2022-09-16 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 注入器、及基板處理設備
KR20220077875A (ko) 2020-12-02 2022-06-09 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 샤워헤드 어셈블리용 세정 고정구
US12255053B2 (en) 2020-12-10 2025-03-18 Asm Ip Holding B.V. Methods and systems for depositing a layer
US12159788B2 (en) 2020-12-14 2024-12-03 Asm Ip Holding B.V. Method of forming structures for threshold voltage control
CN114639631A (zh) 2020-12-16 2022-06-17 Asm Ip私人控股有限公司 跳动和摆动测量固定装置
TW202232639A (zh) 2020-12-18 2022-08-16 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 具有可旋轉台的晶圓處理設備
KR20220090435A (ko) 2020-12-22 2022-06-29 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 전구체 캡슐, 용기 및 방법
KR20220090438A (ko) 2020-12-22 2022-06-29 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 전이금속 증착 방법
TW202226899A (zh) 2020-12-22 2022-07-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 具匹配器的電漿處理裝置
USD980814S1 (en) 2021-05-11 2023-03-14 Asm Ip Holding B.V. Gas distributor for substrate processing apparatus
USD1023959S1 (en) 2021-05-11 2024-04-23 Asm Ip Holding B.V. Electrode for substrate processing apparatus
USD980813S1 (en) 2021-05-11 2023-03-14 Asm Ip Holding B.V. Gas flow control plate for substrate processing apparatus
USD981973S1 (en) 2021-05-11 2023-03-28 Asm Ip Holding B.V. Reactor wall for substrate processing apparatus
USD990441S1 (en) 2021-09-07 2023-06-27 Asm Ip Holding B.V. Gas flow control plate
EP4405019A4 (en) 2021-09-23 2025-07-16 Third Pole Inc SYSTEMS AND METHODS FOR PROVIDING NITRIC OXIDE
USD1099184S1 (en) 2021-11-29 2025-10-21 Asm Ip Holding B.V. Weighted lift pin
USD1060598S1 (en) 2021-12-03 2025-02-04 Asm Ip Holding B.V. Split showerhead cover
WO2023201363A2 (en) 2022-04-14 2023-10-19 Third Pole, Inc. Delivery of medicinal gas in a liquid medium

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8824865D0 (en) * 1988-10-24 1988-11-30 Antec Systems Gas sampling device & water trap
WO1991014476A1 (en) * 1990-03-22 1991-10-03 Methodist Hospital Of Indiana, Inc. Exhaled gas cooling device
US5396882A (en) * 1992-03-11 1995-03-14 The General Hospital Corporation Generation of nitric oxide from air for medical uses
EP1875917A3 (en) * 1990-12-05 2012-11-28 The General Hospital Corporation Use of NO for the treatment or prevention of reversible pulmonary vasoconstriction
US5320093A (en) * 1990-12-21 1994-06-14 Brigham And Women's Hospital Rapid anesthesia emergence system using closed-loop PCO2 control

Also Published As

Publication number Publication date
DE59409834D1 (de) 2001-09-27
CZ93694A3 (en) 1994-11-16
CA2121384A1 (en) 1994-10-18
US5531218A (en) 1996-07-02
EP0621051A3 (de) 1994-12-28
EP0621051B1 (de) 2001-08-22
HUT66924A (en) 1995-01-30
SK282396B6 (sk) 2002-01-07
SK44394A3 (en) 1995-06-07
CA2121384C (en) 2004-01-13
HU9401091D0 (en) 1994-07-28
EP0621051A2 (de) 1994-10-26
ATE204491T1 (de) 2001-09-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CZ286233B6 (cs) Zařízení ke kontrolovanému dávkování NO do dechu pacientů
US5558083A (en) Nitric oxide delivery system
US5522381A (en) Device for supplying breathing gas to the lungs of a respiratory subject
US8141552B2 (en) Respiratory anaesthesia apparatus with device for measuring the xenon concentration
US8033280B2 (en) Inhalation anaesthesia delivery system and a method for leak detection in the inhalation anaesthesia delivery system
US6158434A (en) Ventilatory system with additional gas administrator
CN102481430B (zh) 自动氧气输送系统
US5720277A (en) Ventilator/Anaesthetic system with juxtaposed CO2 meter and expired gas flow meter
US7703455B2 (en) Apparatus and method for supplying respiratory gas to a patient in which respiratory gas components are metered with great accuracy
SE465497B (sv) Anordning foer studium av en persons lungfunktion
JPH07155379A (ja) 肺の機能する残留容量の決定方法および機能する残留容量の決定のための換気用装置
JPH0628652B2 (ja) 代謝量計測装置
JPH0417065B2 (cs)
US5531096A (en) Gas analyzer and method for analyzing a gas
EP0728493B1 (en) Ventilator/anaesthetic system
EP3479862A1 (en) Method for inhalation effect on the body, and apparatus for implementing same
US20080029091A1 (en) Method and Device for Administering Xenon to Patients
US20250387553A1 (en) Device for quantitatively determining the feed of oxygen into blood in an oxygenator
US4535780A (en) Apparatus for measuring xenon concentration in xenon cerebral blood-flow studies
DE4325319C1 (de) Gerät zur kontrollierten Zudosierung von NO zur Atemluft von Patienten
Omura et al. Inhaled nitric oxide improves survival in the rat model of high-altitude pulmonary edema
DE4312431C1 (de) Gerät zur kontrollierten Zudosierung von NO zur Atemluft von Patienten
NL1037373C2 (nl) Inrichting voor het beademen van patienten.
KR20250161834A (ko) 폐질환 스크리닝 시스템 및 이를 이용한 폐질환 스크리닝 방법
JP2024160959A (ja) 比例またはパルスモードにおいてガス状一酸化窒素を送達するための装置

Legal Events

Date Code Title Description
IF00 In force as of 2000-06-30 in czech republic
MK4A Patent expired

Effective date: 20140418