DD143921A1 - Ausstreifmittel zum entfernen von positivlacken - Google Patents

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Ausstreifmittel zum Entfernen von Positivfotolacken von metallischen, insbesondere aus Aluminium bestehenden Unterlagen. Es findet bevorzugt Anwendung zur Entfernung von Positivfotolacken von mit L-eitbannen und Kontaktflächen versehenen Bauelementen der Mikroelektronik. Die Aufgabe der Erfindung, ein alkalisches alkalisilikathaltiges Ausstreifmittel anzugeben, welches über eine große Standzeit verfügt, wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß an sich bekannten anorganischen alkalischen wäßrigen alkalisilikathaltigen Lösungen Alkohol, insbesondere Äthanol,, und vorzugsweise Ammoniak zugegeben ist, wobei der Anteil des Alkohols zur Gesamtlösung 1 : 4 bis 1 : 1z vorzugsweise 1 : 2, beträgt und Ammoniak vorzugsweise in 25%iger wäßriger Lösung zugegeben ist.

Description

-'-213 11

Titel der Erfindung .. . .....

Ausstreifmittel zum Entfernen von Positivlacken

Anwendungsgebiet der Erfindung

Die Erfindung betrifft ein Ausstreifmittel zum Entfernen von Positivfotolacken von metallischen Unterlagen. Das erfindungsgemäße Ausstreifmittel findet vorteilhaft Anwendung zur Entfernung von Positivfotolacken von mit Leitbahnen und Eontaktflächen versehenen Halbleiterbauelementen, insbesondere bei Verwendung von Aluminium, dem meistverwendeten Material für derartige Metallbelegungen·

Charakteristik der bekannten technischen Lösungen

Es ist bekannt, zur Entfernung von Fotolacken von Halbleiterscheiben oder metallischen Unterlagen organische, saure oder alkalische Ausstreifmittel zu verwenden. Sauere Medien (z. B. ^SOr oder chromschwefelsäurehaltige Bäder) erfordern z. T. höhere Temperaturen bzw. sind nur für spezielle Materialkombinationen (ζ. B. Si/SiOg/Al)- einsetzbar. Bei anderen Materialien besteht die Gefahr des unkontrollierbaren Ätzens beim Lacklösen. Es ist weiterhin bekannt, daß eine wässrige alkalische Metallhydroxidlösung zur Fotolackentfernung geeignet ist. Zum Beispiel wird dies in der US-PS 3.331.718 angegeben. Solch eine Behandlung einer Al-Kombination ist jedoch nur möglich, wenn es sich um große Al-Schichtdicken bzw. unkritische Strukturgrößen handelt, da die Lacklösung und das Al-Ätzen rait vergleichbaren Raten erfolgt. Ebenfalls sind trockene Fotolackentfernungsverfahren bekannt (DD-WP 134.654), bei denen der Fotolack einer Plasmaentladung ausgesetzt wird. Die Verwendung solcher Verfahren zur Fotolackentfernung zwecks !Reinigung

_ 2 ~ £ 1 O 119

der Oberfläche nach erfolgten Behandlungsschritten verbietet sich jedoch aus ökonomischen Gründen bei vorheriger Verwendung naßchemischer Ätz- und Strukturierungsverfahren. Die bekannten anorganischen alkalisilikathaltigen Ausstreifmittel haben neben'den genannten Nachteilen auch eine zu geringe Standzeit bei ihrer Verwendung an Luft·

Ziel der Erfindung .. .

Es ist das Ziel der Erfindung, die Mangel des Standes der Technik zu beheben.

Wesen der Erfindung

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein alkalisches alkalisilikathaltiges Ausstreifmittel anzugeben, welches über eine große Standzeit verfügt. Erfindungsgemäß wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß an sich bekannten anorganischen alkalischen wäßrigen alkalisilikathaltigen lösungen Alkohol, insbesondere Äthanol, und vorzugsweise Ammoniak zugegeben ist, wobei der Anteil des Alkohols zur Gesamtlösung 1 J 4 bis 1:1, vorzugsweise 1:2, beträgt und Ammoniak vorzugsweise in 25 $- iger wäßriger Lösung zugegeben ist. Ein derartiges Ausstreifmittel verfügt über eine extrem hohe Standzeit, die bei gleichem Substratdurchsatz mindestens das Zehnfache der Zeit ohne den erfindungsgemäßen Alkoholzusatz beträgt. Durch die Zugabe von Alkohol in die alkalische wäßrige alkalisilikathalt-ige Lösung, insbesondere aus Ua₂SiO^♦ 8H₂O und Ήβ^ΒΟ.» 12H₂O und einem Zusatz von Ammoniak gebildet, entsteht ein Bodensatz, der sich überraschenderweise gerade so langsam wieder auflöst, daß praktisch ständig eine mit aktiven Spezies gesättigte Lösung vorliegt. Ferner zeigte sich überraschenderweise, daß mit Hilfe des erfindungsgemäßen Zusatzes zu den anorganischen alkalischen wäßrigen alkalisilikathaltigen. Lösungen, nicht nur die Standzeit bei Substratdurchsatz, also beim Lacklösen, erhöht wird, sondern auch die negative Eigenschaft alkalisilikathaltiger Lösungen ihre Wirkung durch Stehen an der Luft zu verlieren, verhindert wird»

Ausf ühruns;sb ei spie 1

Zur näheren Erläuterung der erfindungsgemäßen Lösung möge folgendes Ausführungsbeispiel dienen: 19 g Na-OPO. · 12HgO und 13,3 g Ua₂SiO₃ · 8H₂O werden in etwa 350 ml H₂O gelöst, dazu werden 135 ml JTCLOH (25'#ig) und 500 ml Äthanol hinzugefügt. In diese lösung τ/erden mit einer Al-Belegung versehene belackte Substrate (Postivfotolack wurde 1 Stunde bei 460 K getempert) eingebracht. Die Lackablösezeit beträgt 20 bis 30 see. Mit einem solchen Ausstreifmittel läßt sich die, die Konzentration der aktiven lacklösenden Spezies aufrechterhaltende, allmähliche Auflösung des Bodensatzes erreichen. Trennt man den Bodensatz durch eine Pritte vom überstehenden Medium, können die Substrate von Partikeln des Bodensatzes frei gehalten werden. Sine Al-Ätzung konnte nicht nachgewiesen werden.

Claims (2)

1. - 4 - '£ 1 4 1 1 f

   Erfindungsansprüche .

   1· Ausstreifmittel zum Entfernen von Positivfotolacken, die auf Halbleitern und/oder metallischen Unterlagen aufgebracht sind unter Verwendung an sich "bekannter anorganischer alkalischer wäßriger alkalisilikathaltiger lösungen, gekennzeichnet dadurch, daß den anorganischen alkalischen wäßrigen alkalisilikathaltigen lösungen Alkohol, insbesondere Äthanol, und vorzugsweise Ammoniak zugegeben ist·
2. 2. Ausstreifmittel nach Punkt 1, gekennzeichnet dadurch, daß den alkalischen wäßrigen alkalisiliksthaltigen Lösungen Alkohol, insbesondere A'thanol, im Verhältnis zur Gesamt lösung von 1 : 4 bis 1:1, vorzugsweise 1 ί 2, und Ammoniak in vorzugsweise 25 $iger wäßriger Lösung zugegeben ist.