DD151330A1 - Verfahren zur herstellung von diffusionsschichten in metallen - Google Patents
Verfahren zur herstellung von diffusionsschichten in metallen Download PDFInfo
- Publication number
- DD151330A1 DD151330A1 DD22153280A DD22153280A DD151330A1 DD 151330 A1 DD151330 A1 DD 151330A1 DD 22153280 A DD22153280 A DD 22153280A DD 22153280 A DD22153280 A DD 22153280A DD 151330 A1 DD151330 A1 DD 151330A1
- Authority
- DD
- German Democratic Republic
- Prior art keywords
- mol
- layers
- ind3
- item
- dispersion
- Prior art date
Links
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title abstract description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 title abstract description 7
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 title abstract description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims abstract description 16
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 7
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract description 6
- ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N aluminum;sodium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Na+].[Al+3] ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims abstract description 5
- 229910001388 sodium aluminate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 2,3,9,10-tetramethoxy-6,8,13,13a-tetrahydro-5H-isoquinolino[2,1-b]isoquinoline Chemical compound C1CN2CC(C(=C(OC)C=C3)OC)=C3CC2C2=C1C=C(OC)C(OC)=C2 AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 239000000176 sodium gluconate Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229940005574 sodium gluconate Drugs 0.000 claims abstract description 4
- 235000012207 sodium gluconate Nutrition 0.000 claims abstract description 4
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 claims abstract description 4
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 5
- 230000001464 adherent effect Effects 0.000 claims description 3
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 3
- 238000007669 thermal treatment Methods 0.000 claims description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 7
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 abstract description 3
- 229910002367 SrTiO Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 150000004645 aluminates Chemical class 0.000 abstract description 3
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 abstract description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 abstract description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 2
- 238000011089 mechanical engineering Methods 0.000 abstract description 2
- 101100072620 Streptomyces griseus ind2 gene Proteins 0.000 abstract 2
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 3
- -1 Al 3 O 3 Substances 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 2
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 2
- 238000013517 stratification Methods 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- ZDVYABSQRRRIOJ-UHFFFAOYSA-N boron;iron Chemical compound [Fe]#B ZDVYABSQRRRIOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005256 carbonitriding Methods 0.000 description 1
- 238000005255 carburizing Methods 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005555 metalworking Methods 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 239000006072 paste Substances 0.000 description 1
- 230000005501 phase interface Effects 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/024—Anodisation under pulsed or modulated current or potential
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
Es werden haftfeste, dichte und dicke Dispersionsschichten auf Metallen, insbesondere auf Eisen und Eisenwerkstoffen, aus dispersen Systemen, z.B. Aluminat- und/oder Silikatloesungen, in denen feindispergierte Stoffe wie z.B. B, B&ind4!C, SiC, TiC, Na&ind3!AlF&ind6!, Al&ind2!O&ind3!, BaTiO&ind3!, SrTiO&ind3! u.a. enthalten sind, anodisch unter Verwendung von Gleich- und/oder Impulsspannungen mit und ohne Ultraschall abgeschieden. Die waeszrige Suspension zur Erzeugung der Dispersionsschicht besteht vorzugsweise aus 0,15 mol/l Natriumsilikat und/oder 0,45 mol/l Natriumaluminat und/oder 0,17 mol/l Zitronensaeure und/oder 7,5 mal 10&exp-3!mol/l Natriumgluconat und/oder 0,06 bis 0,4 g/l Titanverbindungen und/oder 0,2 bis 0,6 g/l elementares Bor und -verbindungen und/oder 0,2 bis 0,6 g Al&ind2!O&ind3!, Na&ind3!AlF&ind6!, SiC, SiO&ind2!. Durch Funkenentladung oder durch konventionelle Waermebehandlung der Dispersionsschicht werden Diffusionsschichten in der Substratoberflaeche erzeugt, wobei die Funkenentladung die Bildung lokaler Diffusionsinseln zulaeszt. Die Diffusionsschichten sind vorzugsweise als Hartstoff- und Korrosionsschutzschichten im Maschinen-, Anlagenbau sowie in der werkzeugherstellenden als auch -bearbeitenden Industrie einsetzbar.
Description
22 15 3 2
Verfahren zur Herstellung von Diffusionsschichten in Metallen
Anwendungsgebiet der Erfindung
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Diffusionsschichten in Metallen insbesondere in Eisen und Eisenwerkstoffen, wobei diese Schichten durch thermische Behandlung von Dispersionsschichten erzeugt v/erden. Die Dispersionsschichten werden auf den Metallen aus wäßrigen Systemen insbesondere Aluminat- und / oder Silikatlösungen, in denen feindispergierte Stoffe enthalten sind, anodisch abgeschiedene
Die Diffusionsschichten sind vorzugsweise als Hartstoff- und Korrosionsschutzschichten im Maschinen-, Anlagenbau sowie in der werkzeugherstellenden als auch -bearbeitenden Industrie einsetzbar.
Charakteristik der bekannten technischen Lösung
Es ist bekannt, daß Diffusionsschichten in Metallen in der metallbe- und verarbeitenden Industrie genutzt werden. Diese Schichten werden aus der festen Phase: wie z. B. beim Aufkohlen, Alitieren, Pulverborieren, Pulvernitrieren usw. als auch aus der Gasphase z. B. beim Carbonitrieren, Gasphasenborieren usw. hergestellt.
Die Erzeugung von Diffusionsschichten aus der festen Phase ist durch große Substanzmengen, hohen Energie- und Arbeitsaufwand charakterisiert. Ein weiterer Nachteil besteht darin, daß die Gleichmäßigkeit der Schichtausbildung insbeson-
dere bei kompliziert geformten Teilen ungenügend gewährleistet ist. Auch die Erindungsanmeldungen DT-OS 214775 und DT-OS 2429948, in denen z. B, Borierungsmittel in Form von Pasten, Suspensionen oder Emulsionen zum Aufstreichen, Tauchen, Gießen oder Spritzen benutzt werden, können diese Nachteile nicht beseitigen.
Bei der·Schichtbildung aus der Gasphase ist der apparative Aufwand erheblich. Außerdem ist die Herstellung für diese Verfahren notwendigen Ausgangsstoffe kostenintensiv, und oftmals sind aufwendige" Arbeitsschutzmaßnahmen erforderlich, wie es z. B. bei der Gasphasenborierung bei Anwendung von Borwasserstoffverbindungen der Fall ist.
Ziel der Erfindung
Das Ziel der erfindungsgemäßen Lösung besteht darin, Diffusionsschichten in Metallen durch thermische Behandlung von anodisch abgeschiedenen Dispersionsschichten zu erzeugen und den apparativen und energetischen Aufwand zu senken.
Darlegung des Y/esens der Erfindung
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, unter Verwendung von dispersen Systemen z. B. einer: wäßrigen alkalischen Aluminat- und / oder Silikatlösung, die Zusätze von feindispergierten Stoffen wie B, B,C, B2O3, SiC, TiC, Al2O3, Na3AlF6, BaTiO3, SrTiO3 enthält, dichte, haftfeste und dicke Dispersionsschichten insbesondere auf Eisensubstraten anodisch abzuscheiden und durch eine anschließende Wärmebehandlung der beschichteten Eisenwerkstoffe· die Diffusion der feindispersen Stoffe wie- z. B. Bor in die Sub st ra tobe rflache zu erreichen, wobei die Wärmebehandlung durch konventionelle Methoden oder durch Funkenentladung erfolgt.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß einer wäßrigen Suspension von vorzugsweise 0,15 mol/1 Natriumsilikat und / oder: 0,45 mol/1 Natriumaluminat, die außerdem zur Stabilisierung vorzugsweise; 0,17 mol/1 Zitronensäure, 7,5 · 10""·^ mol/1 Natriumgluconat und disperse Bestandteile von 0,06 ... 0,4 g/l Titanverbindungen und / oder 0,2 0,6" g/l Bor und / oder 0,2 - 0,5 g/l -verbindungen und / oder 0,2 - 0,6 g/l Bestandteile wie Al3O3, Na3AlFg, SiC u. a. enthält verwendet wird.
Der pH-Wert der: Lösung wird auf etwa 11,5 eingestellt. Die vorbehandelten Eisenproben v/erden bei Gleichspannungen bis zu max. 75 V beschichtet. Ss können verschiedene Beschichtungsme.thoden angewendet werden. Zum einen ist es möglich, bei vorgegebenen diskreten Spannungen zu beschichten, zum anderen diese kontinuierlich zu erhöhen. Nach der letzteren Methode erhält man gleichmäßigere und dickere Schichten. Das ist von. Vorteil für die folgende Wärmebehandlung. Der Spannungsvorschub für die Beschichtung der Eisenproben wird zwischen 15 V/min, und 150 V/min..gewählt, wobei bei kleinerem Spannungsvorschub die Stromausbeute geringer· ist und bei zu hoheni Spannungsvorschub die Eisenauflösung begünstigt wird. Zur Beschichtung des Eisenwerkstoffes wird deshalb die- Spannung vorzugsweise bei einer Vorschubgeschwindigkeit von 85 V/min, kontinuierlich erhöht, bis die
Schichtbildung, charakterisiert durch einen plötzlich starken Stromabfall, beendet ist.
Die Abscheidung wird durch Ultraschall insbesondere bei einer Resonanzfrequenz von 0,8 MHz begünstigt. Die Nachbehandlung zur Erzeugung der Diffusionsschicht der anodisch beschichteten Eisensubstrate wird nach konventionellen Methoden, Induktionserwärmung^dem Glühen unter Wasserstoffatmosphäre und / oder Inertgas- und / oder Chlorwasserstoff- und / oder Borhalogenidatmosphäre durchgeführt, oder durch anodische Funkenentladung in einer der vorgenannten Beschichtungssuspensionen oder in einem Elektrolyten nach den Erfindungsanmeldungen DD WP C25D / 211429, DD WP- C25D / 211430 erzeugt. Die Diffusionsschichtbildung kann somit in einem Ein- als auch Zweistufenprozeß durchgeführt werden.
Die Funkenentladung läuft an der Phasengrenzfläche Dispersionsschicht / Lösung ab. Damit erfolgt der Ladungsaus- . tausch an und über die ausgebildete Dispersionsschicht und führt zu einer intensiven lokalen Erwärmung, die in Gegenwart von Aktivatoren eine Diffusion von Schichtbestandteilen in die Substratoberfläche stark begünstigen.
Ausführungsbeispiel
Die Erfindung soll nachstehend an 3 Ausführungsbeispielen erläutert werden.
Ausführungsbeispiel 1
Die in 15 ^iger HoSO. gebeizte und gut gespülte Eisensubstratprobe St Tz U wird in einer wäßrigen ca. 0,45 mol/1 alkalischen Natriumaluminat-, ca. 0,17 mol/1 Zitronensäure-, ca. 7,5 · 10 mol/1 üatriumgluconat-Lösung, die Zusätze von feindispergierten Stoffen von vorzugsweise 0,2 g/l BaTiOo und vorzugsweise 0,6 g/l elementares Bor: im Gemisch mit 0,5 g/l anderen Borverbindungen z. B. BpO-, enthält, anodisch bei 293 - 303 K behandelt. Die Gleichspannung wird kontinuierlich von O - 75 Volt mit einer Spannungsvorschubgeschwindigkeit von vorzugsweise 85 V/min, erhöht. Die Be-
Schichtung ist beendet, wenn der Strom praktisch den Reststrom von < 0,03 A/cm erreicht. Die erhaltene Dispersionsschicht hat ein grauweißes Aussehen, ist dicht und haftfest. Sie v/ird bei 1173 K 1 Stunde unter Wasserstoffatmosphäre geglüht. Man erhält eine grau aussehende Substrat-Oberfläche, in der durch analytische Methoden Eisenborid nachgewiesen wird.
Ausführungsbeispiel 2
Die Dispersionsschicht v/ird, wie- im Ausführungsbeispiel 1 beschrieben, jedoch unter Ultraschall hergestellt. Nachdem ein geringer Reststrom das Ende der Beschichtung anzeigt, wird eine Gleich« und / oder Impulsspannung von > 100 V eingestellt bzw. überlagert. Sofort setzt eine Funkenentladung ein, durch die die gesamte Substratoberfläche abgerastert und stark erwärmt wird. Der Strom wird dabei, vor-
zugsweise auf 0,5 - 1 A/dm begrenzt. Nach kurzer Zeit ist die Funkenentladung beendet und hinterläßt eine dunkle Oberfläche. Die erhaltene Diffusionsschicht .wird wie im Ausführungsbeispiel 1 beschrieben untersucht und zeigt charakteristische lokale Diffusionsinseln.
Ausführungsbeispiel 3
Die in 15 ^iger H2SO, gebeizten und gut gespülten Eisensubstratproben C 1.00 und St Tz U werden in einer wäßrigen Lösung bestehend aus ca. 0,15 mol/1 Uatriumsilikat und ca. 0,05 mol/1 stabilisiertem latriumaluminat, die außerdem feindispergierte Stoffe wie, vorzugsweise 0,6 g/l Bor und 0,3 g/l Borverbindungen ζ. B. B-C, 0,2 g/l SrTiO^ und 0,2 g/l NaoAlFg enthält, anodisch mit einer Spannungsvorschubgeschwindigkeit von 85 V/min, kontinuierlich bis 75 V beschichtet. Die Beschichtung ist beendet, wenn der Reststrom auf < 0,02 A/cm2 abfällt.
Die erhaltene Dispersionsschicht hat eine hellgraue Farbe und kann sowohl konventionell wie im Ausführungsbeispiel 1 oder durch Induktionserwärmung unter Inertgasatmosphäre oder unter anodischer Funkenentladung wie im Ausführungsbeispiel 2
beschrieben weiterbehandelt werden. Die verwendete Gleichoder: Impulsspannung ist aber > 200 V.
Die Charakterisierung der erhaltenen Diffusionsschichten erfolgt an den Proben C 100 und StTzu unter vergleichbaren Bedingungen und zeigt ähnliche' Ergebnisse wie in den Ausführungsbeispielen 1 und 2"beschrieben wird.
Claims (6)
- Erfindungsanspruch ' ·1. Verfahren zur Herstellung von Diffusionsschichten insbesondere in Eisen und Eisenwerkstoffen gekennzeichnet dadurch, daß aus dispersen Systemen unter Verwendung von Gleich- und / oder Impulsspannungen dichte, haftfeste und dicke- Dispersionsschichten abgeschieden und durch Funkenentladung oder konventionelle thermische Behandlungsverfahren Diffusionsschichten gebildet werden.
- 2. Verfahren nach Punkt 1 gekennzeichnet dadurch, daß die dispersen Systeme zur Abscheidung der Dispersionsschicht vorzugsweise< 0,4 mol/1 Katriumsilikat und / oder< 0,6 mol/1 Natriumaluminat und / oder < 0,3 mol/1 Zitronensäure und / oder < 0,1 mol/1 Natriumgluconat und / oder "^ 0)5 g/l Titanverbindungen und / oder >· 0,1 g/l elementares Bor und / oder > 0,1 g/l Borverbindungen und / oder < 1 g/l Na^AlFg, AIgOo, SiO, SiO2 enthält.
- 3. Verfahren nach Punkt 1 und 2 gekennzeichnet dadurch, daß durch Spannungsvariation der Gleich- und / oder Impulsspannung eine Abscheidungs- und eine Umwandlungsphase diskret vorgegeben wird und die Behandlung in einem Einstufenprozeß abläuft.
- 4. Verfahren nach Punkt 1 bis 3 gekennzeichnet dadurch, daß die Umwandlung der Dispersionsschicht und die Bildung der Diffusionsschicht unter Funkenentladung in zwei getrennten unterschiedlichen aber geeigneten Elektrolyten abläuft".
- 5.' Verfahren nach Punkt 1. bis 4 gekennzeichnet dadurch, daß. die Diffusionsschichtbildung in einer Reaktions- alsauch in einer Inertgasatmosphäre erfolgt.
- 6. Verfahren nach Punkt 1 bis 5 gekennzeichnet dadurch, daß die Dispersionsschichten unter- Ultraschall abgeschieden werden«.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD22153280A DD151330A1 (de) | 1980-06-03 | 1980-06-03 | Verfahren zur herstellung von diffusionsschichten in metallen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD22153280A DD151330A1 (de) | 1980-06-03 | 1980-06-03 | Verfahren zur herstellung von diffusionsschichten in metallen |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DD151330A1 true DD151330A1 (de) | 1981-10-14 |
Family
ID=5524486
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DD22153280A DD151330A1 (de) | 1980-06-03 | 1980-06-03 | Verfahren zur herstellung von diffusionsschichten in metallen |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DD (1) | DD151330A1 (de) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4027999A1 (de) * | 1989-09-04 | 1991-03-14 | Dipsol Chem | Verfahren zur bildung eines keramischen films |
| DE4037392A1 (de) * | 1990-11-22 | 1992-05-27 | Jenoptik Jena Gmbh | Elektrolyt zur erzeugung weisser oxidkeramischer oberflaechenschichten |
| GB2386907A (en) * | 2002-03-27 | 2003-10-01 | Isle Coat Ltd | Forming ceramic coatings on metals and alloys |
| WO2003083181A3 (en) * | 2002-03-27 | 2004-09-10 | Isle Coat Ltd | Process and device for forming ceramic coatings on metals and alloys, and coatings produced by this process |
| EP1231299A4 (de) * | 1999-08-17 | 2006-08-02 | Isle Coat Ltd | Multifunktionelle komposit-schutzbeschichtung auf leichtmetallbasis |
| WO2016197175A1 (de) * | 2015-06-09 | 2016-12-15 | Hirtenberger Engineered Surfaces Gmbh | Elektrolyt zur plasmaelektrolytischen oxidation |
-
1980
- 1980-06-03 DD DD22153280A patent/DD151330A1/de not_active IP Right Cessation
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4027999A1 (de) * | 1989-09-04 | 1991-03-14 | Dipsol Chem | Verfahren zur bildung eines keramischen films |
| GB2237030A (en) * | 1989-09-04 | 1991-04-24 | Dipsol Chem | Forming ceramics films by anode-spark discharge in electrolytic bath |
| US5147515A (en) * | 1989-09-04 | 1992-09-15 | Dipsol Chemicals Co., Ltd. | Method for forming ceramic films by anode-spark discharge |
| GB2237030B (en) * | 1989-09-04 | 1994-01-12 | Dipsol Chem | Method for forming ceramics films by anode-spark discharge |
| DE4037392A1 (de) * | 1990-11-22 | 1992-05-27 | Jenoptik Jena Gmbh | Elektrolyt zur erzeugung weisser oxidkeramischer oberflaechenschichten |
| EP1231299A4 (de) * | 1999-08-17 | 2006-08-02 | Isle Coat Ltd | Multifunktionelle komposit-schutzbeschichtung auf leichtmetallbasis |
| GB2386907A (en) * | 2002-03-27 | 2003-10-01 | Isle Coat Ltd | Forming ceramic coatings on metals and alloys |
| WO2003083181A3 (en) * | 2002-03-27 | 2004-09-10 | Isle Coat Ltd | Process and device for forming ceramic coatings on metals and alloys, and coatings produced by this process |
| US6896785B2 (en) | 2002-03-27 | 2005-05-24 | Isle Coat Limited | Process and device for forming ceramic coatings on metals and alloys, and coatings produced by this process |
| GB2386907B (en) * | 2002-03-27 | 2005-10-26 | Isle Coat Ltd | Process and device for forming ceramic coatings on metals and alloys, and coatings produced by this process |
| CN100503899C (zh) * | 2002-03-27 | 2009-06-24 | 岛屿涂层有限公司 | 用于在金属和合金上形成陶瓷涂层的方法和装置及由此方法制得的涂层 |
| WO2016197175A1 (de) * | 2015-06-09 | 2016-12-15 | Hirtenberger Engineered Surfaces Gmbh | Elektrolyt zur plasmaelektrolytischen oxidation |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE69220260T2 (de) | CVD-Diamantbeschichtete Schneidwerkzeuge und Verfahren zur Herstellung | |
| DE69737195T2 (de) | Lösung und Verfahren zur Herstellung von Schutzschichten auf Metallen | |
| DE102012202787B4 (de) | Verfahren zum Lackieren eines Werkstücks | |
| DE889099C (de) | Verfahren und Bad zum UEberziehen von Gegenstaenden aus Aluminium und Aluminiumlegierungen | |
| DE3434276C2 (de) | ||
| DE19706482B4 (de) | Verfahren zur Oberflächenbehandlung eines Körpers aus Metall und nach dem Verfahren hergestellter Verbundstoff | |
| DE2328538A1 (de) | Verfahren zur herstellung gefaerbter oxidschichten auf aluminium oder aluminiumlegierungen | |
| AT394213B (de) | Konditionierung von basismaterialien | |
| DE3606430C2 (de) | ||
| DE2716729A1 (de) | Verfahren zum stromlosen metallisieren | |
| DE2355011C2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer keramisch überzogenen Ware aus einem eisenhaltigen Werkstoff | |
| DD151330A1 (de) | Verfahren zur herstellung von diffusionsschichten in metallen | |
| DE3343052C2 (de) | Verfahren zum stromlosen Vergolden eines metallisierten Keramik-Substrats | |
| DE2556716C2 (de) | Elektrolytisch hergestellte Schichten mit den Eigenschaften eines im Bereich des Sonnenspektrums nahezu idealen schwarzen Körpers | |
| EP0356756B1 (de) | Verfahren zur Erzeugung schwarzer Überzüge auf Zink oder Zinklegierungen | |
| DE2715291B2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines amorphen, leichten, fest haftenden Phosphatüberzugs auf Eisenmetalloberflächen | |
| DE3627249A1 (de) | Verfahren zur erzeugung von konversionsschichten auf titanoberflaechen | |
| DE2239962B2 (de) | Verfahren zum galvanischen ueberziehen eines eisensubstrats | |
| DE1621404A1 (de) | Verfahren zum elektrophoretischen Auftrag anorganischer oxidischer Schutzschichten | |
| EP1478607B1 (de) | Verfahren zur metallisierung von keramik auf basis von titanaten | |
| DE1281219B (de) | Verfahren zur anodischen Herstellung eines UEberzuges auf Metallen | |
| DE2046708A1 (de) | Voraetzung von Acrylnitril Butadien Styrol Harzen fur die stromlose Metallab scheidung | |
| EP0127774B1 (de) | Verfahren zum Schutz von anodisch oxidiertem Aluminium | |
| DE2443885C3 (de) | Verfahren zur Oberflächenbehandlung von Eisenlegierungen durch galvanische Abscheidung einer Kupfer-Zinn-Legierung und anschließende thermische Diffusionsbehandlung | |
| AT395600B (de) | Verfahren zum galvanisieren von keramischen materialien |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| ENJ | Ceased due to non-payment of renewal fee |