DD160038A1 - Verfahren zur erzeugung intersiver reaktion durch elektromagnetische energie - Google Patents
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Abstract
Das Verfahren ist vor allem bei der Polymerisation anwendbar. Das Ziel ist die Erhoehung des Wirkungsgrades durch vollstaendige Umsetzung der eingesetzten Strahlung in chemische Reaktionsenergie. Die Aufgabe besteht darin, ein Verfahren zu finden, bei dem die Emissionsmaxima und die Absorptionsmaxima annaehernd in Uebereinstimmung gebracht werden. Die Aufgabe wird dadurch geloest, dass die Bestrahlung in mindestens zwei von 5 Bereichen durchgefuehrt wird, wobei die Bereiche zwischen 300 und 345 nm, 340 und 365 nm, 355 und 375 nm, 372 und 392 und zwischen 390 und 410 nm liegen sowie eine umgesetzte Leistung pro cm Lichtbogenlaenge von 100 W bei einem Strahlerabstand von 2 bis 60 cm ueber eine Dauer von mindestens 1/1000 S auf die zu bestrahlenden Objekte einwirkt.Die Erfindung kann bei Beschichtungen, Flaechengebilden oder Gegenstaenden aus Polymeren, auch faserverstaerkt, fuer Halbleiter, Druckplatten, Profile, Rohre, Behaelter und andere Konstruktionselemente verwendet werden.
Description
Yerfahren zur Erzeugung intensiver Reaktionen durch, elektromagnetische Energie
Arrwendungsgshiet der Erfindung
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung inten— siTer chemischer Reaktionen auf Oberflächen und/oder in Gegenständen bz~rfe Objekten wie zur Bestrahlung von organischen und anorganischen Substanzen, ¥erkstoffen oder Gegenständen und zur Beeinflussung von Vorgängen wie z„ >B, zur Trocknung oder Regenerierung von Gegenständen, für Kopierz*wecke oder dergleichen. insbesondere zur Polyaddition, Polykondensation und Polymerisation, auch zur Pfropf- oder Zweigpolymerisation, vorzugsweise zur Polymerisation von verfestigbaren Polymeren und/oder Monomeren und/oder ihren Verbindiingen und/oder Mischungen, durch elektromagnetische Energie, insbesondere zur Fotopolymerisation von Beschichtungen, Flächengebilden oder Gegenständen, z, Bs aus Aktivatoren bsrw» Sensibilisatoren, insbesondere Fotosensibilisatorea enthaltenden Epoxidharzen, ungesättigten Polyesterharzen, Akrylharzen, Polyurethanen oder dergleichen j ggf. in Mischung mit Fäll— und/oder Farbstoffen und/oder Pigmenten, auch faser— und/oder whiskersverstärkt, emittiert durch mindestens einen Strahler,
Charakteristik der bekannten technischen Lösung
Chemische Polyadditions-, Po.lykondensatxons— und insbesondere Polymerisations— und hier auch Pfropf- oder Zweigpolymerisa ti. onsreaktion en werden ebenfalls durch elektromagnetische ¥ellen unterschiedlicher Wellenbereiche, insbesondere im IR-, UV— und auch in energiereicheren Strahlungsbereichen durchgeführt (siehe z* B* das Schweizer Patent 517a126), die sich insbesondere auf die Strahlungshärtung mit Gammastrahlen oder (Brushwell, ¥, , Neue Methoden der Lackhärtung, Farbe und Lack 80 (1971O Nr, 2, S1. 137 - 139 -and 5, S, ^31 - ^33) at^f die Härtung durch Elektronen- oder TJY-Strahlen beziehen.» Hier wird die UV->Härtung mit Quecksilberdampf-Hochdruckstrsiilern durchgeführt, obwohl bekannt ist, daß diese Strahler nur ein Linienspektrimi mit einem Emissi on smaxisrain bei 3ö5/'36"6 nm besitzen und "weder diese !/ellenlangen ? noch die dort emittierte Energie den Absorptions banden der bekannten uxid optimal wirkenden Sensibilisatoren entsprechen, so daS auf diese ¥eise nur sehr dünne Lacks chi oiit en bis 75 /tun härtbar sind. Das gleiche gilt für die Fotopolymerisation von Epoxidharzen, gemäß US-Pa- vent 3*205*157> z'u der noch Härtezeiten von IQ cain erforderlich sind,,
Sollen Beschichtungsn, Flächengebilde oder Gegenstände -z. B» aus einen Sensibilisator enthaltenden ungesättigten Poly— fsterharzen oder den genannten anderen Harzen fotopolyme— risiert bzw«, gehärtet werden, die noch C-lasfaserverstärktmgsmaterialien enthalten, so können entweder nur Schichtdicken bi.3 et'rfa 2,5 nmr "wirtschaftlich mit den genannten und -*τοτ** iiaadenea TW-*- und/oder IR-Sti'ahlurig^qusllea polymerisie.rfc werden, oder die Pol'fiaerisations-» bziv* Kärtezeiten und die entsprechenden Härtestrecken sind so groß bzw. lang, daS eine solche Härtung weder technisch noch ökonomisch sinnvoll ist (siehe z, B* Koch, IDn3. u, a„ ZIS-Mitteilungen 21
(1979) Nr. 7, S. 7^0 - 750) α Durcli das DD~Patent 121.329 wurde es möglich, mit einem neuen Sensibilisator das Absorption smaximum gegenüber den der bisher als optimal bekannten Sensibilisatoren in den langwelligen UV- und teilweise bis in den IR-Bereich zu verschieben und auf diese ¥eise mit herkömmlichen TJV- und/oder IR-Hochdruckstrah— lungsquellen bis etwa 10 min dicke gläsfaserverstärkte Schichten zu fotopolyrnerisieren,
Sine ähnliche Entwicklung ist durch Nicolaus, ¥„ und Hesse, A„, Praktikable Härtung dickwandiger GF-UP-Laminate mit UV-Licht, Tagung Freudenstadt (BED) Oktober 1977, Vortrag 11, 1 -7 und durch Nicolaus, Hesse und Scholz, Lichthärtung dickwandiger GF-TJP-Laminate mit Leuchtstofflampen, Tagung Freudenstadt, Oktober 1980, Vortrag 27, 1 - 9, durchgeführt worden. Diese Arbeiten führten wie die im DD-Patent 121„329 genannten zur Entwicklung eines neuen Sensibilisa— tors, dessen Lichtabsorption gegenüber derjenigen bisher bekannter Sensibilisatoren um etwa 40 mn langwellig verschoben wurde (380 - 420 nm)4 Bei dieser Entwicklung ist man davon ausgegangen, daß der Sensibilisator im wesentlichen außerhalb des Absorptionsbereiches des ungesättigten Polyesterharzes absorbieren muß. Die Aussage, daß dickwandige GF-UP—Laminate (glasfaserverstärkte ungesättigte Polyesterlaminate) mit Leuchtstofflampen (vgl. auch Plastverarbeiter jK) (1979) Nr„ 10, S* 653) überhaupt und' in vertretbaren Zeiten bei einer Schichtdicke von 10 mm als der obersten Grenze härtbar sind, ist auch unter Verwendung von zusätzlich 2 IR-Strahlern von je 1000 ¥ kritisch (kombinierte UV—¥ärmehärtung) und unter Produktions— bedingungen nicht möglich.
Trotzdem es gelungen ist, für UV-Strahlen absorberarme Harze zu entwickeln, und trotzdem es weiterhin gelungen ist, Sensibilisatoren zu entwickeln, die im wesentlichen außerhalb der Absorption des Harzes absorbieren und aiaf
diese ¥eise mit Leuchtstofflampen in "vertretbaren Zeiten dünne und mit dotierten oder undotierten Quecksilberdampf— Hochdruckstrahlern und vor allem mit Strahlern mit Mischplasmen bis etwa 10 ram dicke Laminate ή ir t scha ft lieh auszuhärten (siehe axich Maschinenmarkt, Würzbürg 84 (1978) Nr. 84, S, 1636 - 1640 und 85 (1979) Nr. 8, S, 12?), besteht der Nachteil dieser Bestrahlungs- bzw« Härtungsmethode darin, daß entweder nur dünne Schichten aus GF-UP-Laminaten mit Leuchtstofflampen oder dickere Schichten mit Quecksilberdampf—Hochdruckstrahlern in relativ großen Zeiten oder gleichdicke Schichten in etwas Mirserea Zeiten mit den bekannten Hochleistungs—Mischplasmenstrahlern härtbar bzw, fotopolymerisierbar sind und daß die Leuchtstofflampen, die genannten Hochdruckstrahler und auch die bekannten Mischplasmenstrahler in einem solch großen Bereich emittieren, der vom IE- über den sichtbaren bis zum UV-Gebiet reicht j so daß ein großer Teil der von diesen Strahlern emittierten Energie nicht im für die UV-Härtung Dz-W4, Fotopolymerisation -wirksamen Wellenbereich (etwa 300 bis 400 na) liegt und somit für die Fotopolymerisation verlorengehtβ
Da das Emissionsspektrum der genannten handelsüblichen HooiiJ.eistungsstrahler weder dem Absorptionsspektrum des Sensibilisators und auch, wenn überhaupt, nur teilweise den Pclytaerbedingungen entspricht und noch nicht einmal ihre Hauptmaxima und schon gar nicht ihre Nefaenmaxima weder als Linie noch als Bereich übereinstimmen, setzen diese Strahler nur einen Bruchteil ihrer emittierten Energie fotochemisch um, so daS zvar die Polymeroptimierung und die Sensibilisatoroptimierung jeweils erhebliche technische Fortschritt.3 mit sich brachten, jedoch ist der technische und ökonomische .Aufwand besonders für dickere Laminate über 2,5 mm heute noch unvertretbar hoch, zumal die durch nicht genutzte Energie entstehende Warme durch Be- und Entlüftung^systeme abgeführt werden muß*
In der DE-AS 2^42879 wird ein Verfahren zum Härten von lichthärtbaren Anstrichmitteln und Überzugsmassen beschrieben« Dort wird ein Strahlungsbereich von 180 bis 500 nm angegeben. Dieses Verfahren ist sehr uneffektiv, da zum einen das Aushärten in mindestens ζΐ,'βί aufeinanderfolgenden Prozessen durchgeführt wird und zum anderen ein breiter Strahlungsbereich zur Verfügung steht, der nur zum kleinen Teil genutzt wird und für die Bereiche der Absorptionsmaxima nur Strahlung mit geringer Intensität vorhanden ist.
Ziel der Erfindung
Das Ziel der Erfindung ist die Beseitigung der Nachteile der genannten Verfahren und die Erhöhung des Wirkungsgrades durch möglichst vollständige Umsetzung der abgestrahlten Energie in chemische Reaktionsenergie, um in geringerer Zeit eine höhere Qualität und Quantität der Beschichtung Λχαά. Gegenstände zu erhalten*
Darlegung des Wesens der Erfindung
Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, ein Verfahren zur Erzeugung intensiver chemischer Reaktionen durch elektromagnetische Energie zu schaffen, das die einge- . setzte Energie effektiv in chemische Reaktionsenergie umsetzt , um daduz'ch die Reaktionsgeschwindigkeit und die Veraetzungsdichte zu erhöhen, _die eingesetzte Energie zu senken und die negativen Wirkungen durch ungenügende Ener= gieübertragung und dadurch unterschiedliche oder ungenügende Vemetzrmgsdichte oder durch überhöhte . Energieübertragung auftretende innere Spannungen zu vermeiden»
Überraschenderweise wurde gefunden, daß sämtliche chemische Reaktionen wesentlich intensiviert werden, -wenn in mindeste??.'= 3!"V."?"L er'ger1 T^ie^Xonsb^redohen. in denen, ieweils ein Emissionsmaxim-am liegt, eine definierte Energie emittiert wird und in diesen Wellenlängenbereichen ein Haup.t- und/oder ein Nebenabsorptionsbereich der zu bestrahlenden Oberfläche oder des Gegenstandes vorliegt;
Erfindungsgemaß wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß die Bestrahlung in mindestens zwei der nachgenannten Bereiche, vorzugsweise in drei oder mehr Bereichen, im ersten Bereich Τ, der ¥ellenlängen etwa zwischen 300 und 3^-5 ssi umfaßt und ein Maximum, insbesondere bei etwa 325 ^m aufweist, bei einer durchschnittlichen spektralen Breite von mindestens 5 nm (etwa innerhalb 323 nm bis 333 am), im zweiten Bereich TT ? der Wellenlängen etwa zwischen 3^0 und 3β5 em umfaßt und ein Maximum insbesondere bei etwa 352 na aufweist, bei einer spektralen Breite von ebenfalls mindestens 5 na, im dritten Bereich III, der Wellenlängen etwa zwischen 355 und 375 na umfaßt und ein Maximum insbesondere bei etwa 3Ö.5 nm aufweist, bei einer durchschnittlichen spektralen. Breite von mindestens 5 nm (etwa innerhalb 362 bis 372 nm)? im vierten Bereich IY, der Wellenlängen etwa zwischen 372 und 392 nm umfaßt und ein Maximum, insbesondere bei etwa 377 sam aufweist, bei einer durchschnittlichen spektralen Breite von mindestens 5 nm (etwa innerhalb 376' bis 386 nm) und im fünften Bereich V3 der Wellenlängen etwa zwischen 395 und 415 nm umfaßt und ein Maximum. insbesondere bei etwa kOk nm aufweist, bei einer durchsohnittliclien spektralen Breite von mindestens 5 na (etwa innerhalb -02 bis 412 nm) , vorzugsweise in den Bereichen I, II und IV, mit einer umgesetzten Leistung pro cm Lichtbogenlänge von mindestens 100 Watt, vorzugswei— se größer 100 Watt, bei einem Strahler-/Objelctabstand von etwa 1,0 cm bis 60,0 cm, vorzugsweise von etwa 2,0 bis 12,0 cm ein- oder mehrseitig über eine Dauer von mindestens I/IOOO s, über zwischengeschaltete Optiken und/oder Reflektoren zur Bündelung, Aufweiten^, Parallelrichtung, P.eflesion
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Masken, durchstrahlbare Zwischenschichten oder dgl» und/ oder" in oder über durchstrahlbare(n) Vakuum— oder in Gas— oder Schutzgasatmosphärenkammern, die zur Beschichtung, Abscheidung oder dgl, geeignete gasförmige. Monomere und/ oder Polymere und/oder Elastomere enthalten, durchgeführt wird*
Weiterhin ist es zweckmäßig, daß Sensibilisatoren den Polymeren und/oder Monomeren, und/oder ihren Verbindungen und/oder Mischungen in der Größenordnung von 0,01 bis 10,0 vorzugsweise 0,1 bis 4,0 Gewichtsanteilen zur Verschiebung der Haupt- und/oder Nebenabsorptionsmaxima um mindestens 1,0 um, vorzugsweise um mehr als 10,0 am, zugesetzt werden. Als Sensibilisatoren sind bei Epoxidharzen Organo— halogen-verbindüngen, vorzugsweise aromatische Onium— oder •Jodoniumsalze oder -komplexsalze, bei ungesättigten Polyesterharzen Benzoin— und/oder Benzil— und/oder Anthrachinon— und/oder Karbonylderivate, vorzugsweise Benzoinäther und Benzilketale oder insbesondere gleichzeitig als Monomeres wirkende Benzoinacrylate oder Furionacrylate oder bei Acrylharzen Benzoinderivate } insbesondere aromatische Ketone, bei Polyurethanen Acrylsäureester oder Acrylatver— bindungen anwendbar„ Es ist vorteilhaft, daß aus den Sensibilisatoren oder ihren Verbindungen oder Mischungen solche ausgewählt werden, die allein oder in Mischung mit den genannten Polymeren und/oder Monomeren und/oder ihren Verbindungen und/oder Mischungen eine möglichst vollständige Anpassung an mindestens ein,vorzugsweise an die der Bereiche I, II und IV, vorteilhafterweise an alle genannten Emissionsmaxima des oder der Strahler erzeugen.
Das Verfahren ist im weiteren durch die . Anwendung von solchen Polymeren und/oder Monomeren und/oder ihren Verbindungen und/oder Mischungen mit einer Jodfarbzahl bzw« einer Farbzahl nach Gardner, insbesondere unter 2,5, vorzugsweise unter 1,3* gegebenenfalls tonter Zusatz von Faserverstar-
kungsmaterialien und/oder Pigmenten und/oder Füllstoffen,' die die emittierten Strahlen wenig oder nicht absorbieren, insbesondere solche mit einem Brechungsindex von unter 1,7» gekennzeichnet. Vorteilhaft ist der Zusatz von 0,01 bis 3>0 Ge-wichtsanteilen, bezogen auf den Sensibilisator, von lasierenden Farbstoffen, Bei der Bestrahlung von Polymeren mit Füll—Farbstoffen sowie Faserverstärkungsmateria— lien hat sich die Anwendting mechanischer Schwingungen auch im Ultraschallbereich, insbesondere übertragen von unten und/oder oben "während der Herstellung und zur Verdichtung, Tränkung, Benetzung, Erzeugung eines innigen Verbundes und von Phasengrenzschichten zwischen den Verbundkomponenten und zur Homogenisierung für eine brechungs— und/oder reflesionsarxne oder —freie Ein—- und Durchdringung der angewandten elektromagnetischen Energie, vorzugsweise bei beidseitiger Bestrahlung, gegebenenfalls unter gleichzeitiger .Kühlung der Strahler mittels Blas— und/oder Saugluftströmen, als zweckmäßig erwiesen».
. Die erf iadungs gemäß en Wirkungen konnten vor allein durch den Einsatz eines Metallhalogenstrahlers mit Emissionsmaxima bei 313 nm, 325 na, 352 nm, 366 na ,: '377!. nm. erzielt, -werden.
gsbeispiel
Die Erfindung soll nachstehend an Ausführungsbeispielen näher erläutert werden»
Fig. I zeigt die relative spektrale Straiildichteverteilung eiaes geeigneten Strahlers für das erfindungsgemäße Verfahren»
Beispiel 1 zur Erzeugung intensiver chemischer, insbesondere fotochemischer Reaktionen
Die Erhöhung des Umsatzes und der Reaktionsgeschwindigkeit bei chemischen und insbesondere bei fotochemischen Reaktionen bei gleichzeitiger erheblicher Energieeinsparung ist ein Erfordernis unserer Zeit. Diesem Erfordernis konnte bisher ohne die Erfindung und die dabei erfindungsgemäß aufgetretenen überraschenden Effekte nicht entsprochen "werden, da auch hier nicht bekannt war, daß zur Erhöhung des Umsatzes und der Reaktionsgeschwindigkeit ganz bestimmte elektromagnetische Wellen, insbesondere vom IR- über den sichtbaren einschließlich dem UV—Bereich/ insbesondere im UV-, vorzugsweise im UV—A-Bereich, nutzbar gemacht werden können, wenn diese ganz bestimmte Parameter aufweisen, das heißt, daß die Emission in mindestens zwei en§en Bereichen durchgeführt "werden muß, daß diese engen Bereiche eine bestimmte spektrale Breite umfassen müssen, daß in diesen engen Bereichen mindestens ein Emissionsmaximum liegen muß, daß in dieser bestimmten spektralen Breite jedes engen Bereiches eine definierte Energie emittiert werden muß und daß mindestens diese beiden Spektralgebiete einem Haupt— und/oder Nebenabsorptionsbereich, vorzugsweise einem Haupt— und Nebenabsorptionsmasimum der zu bestrahlenden Oberfläche und/oder des Gegenstandes beziehungsweise der chemischen Substanz angepaßt sein müssen« Überraschenderweise wurde gefunden , daß alle chemischen und insbesondere fotochemischen Reaktionen und vorzugsweise chemische Verfestigungs— bzw, Härtungsreaktionen, insbesondere Polymerisationsreaktionen und auch Pfropf- und Zweigpolymerisationsreaktionen mit wesentlich weniger umgesetzter Leistung bei gleichzeitiger Uaisatz- und/oder Reaktionsgeschwindigkeitserhöhung und/oder Vernetzungsdichte durchführbar sind, wenn die dazu erforderlichen intensiven Reaktionen durch elektromagnetische Vellen im vorgenannten Bereich insbesondere im UY- und vorzugsweise im UV—A—Bereich durchgeführt werden, insbesondere durch
mindestens einen Strahier, der Energie in mindestens zwei exakte definitii'ü(3ü I-iaXiiua θίαί.ttiort» Zur Erzeugung intensiver chemischer Reaktionen auf Oberflächen und/oder in Gegenständen oder auf oder in Substanzen insbesondere zijr Polyaddition, Polykondensation und Polymerisation, auch zur Pfropf- oder Zweigpolymerisation, vorzugsweise zur Polymerisation, von verfestigbaren Polymeren oder Monomeren und/oder ihren Verbindungen und/oder Mischungen durch elektromagnetische Energie, insbesondere zur Fotopolymerisation von Beschichtungen, Flächengebilden oder Gegenständen, zum Beispiel aus Sensibilisatoren, insbesondere Fotosensibilisstoren oder Sensibilisatoren und Katalysatoren enthaltenden Epoxidharzen, ungesättigten Polyesterharzen, Akrylliarzen , Polyurethanen oder dergleichen, gegebenenfalls in Mischung mit Füll- "and/oder Farbstoffen und/oder Pigmenten auch faser—und/ oder whiskers— verstärkt, insbesondere verstärkt durch faden—, seil-, strang- oder bandförmige Yerstärkungsmateriaiian, wird die erforderliche Bestrahlung durch Energie mindestens eines Strahlers, der in mindestens z^ei Maxima ira Wellenlängenbereich der IR- bis einschließlich der UV-Strahlung· insbesondere im UV-Bereich, vorzugsweise im UV-A~*Bereich emittiert, durchgeführt, und zwar erfindungsgemäß in mindestens zwei der genannten Bereiche vorzugsweise in drei oder mehr genannten Bereichen, die denen bei der Darlegung des lesens der Erfindung entsprechen und mit einer umgesetzten Leistung pro cm Liehtbogenlänge von mindestens 100 ¥, vorzugsweise größer 100 ¥? insbesondere bei einem Strahler/Objektabstand von etwa 1 era bis etwa 30 ce, vor-"-zugsweise von etwa 2,0 bis etwa 10,0 cn·., ein- odsr mehrseitig über eine Dauer von mindestens I/IOOO s bis etv;a 2,0 h (anwendungsfallabhängig) durchgeführt wird«, Die genannte Bestrahlung erfolgt gegebenenfalls über zwischengeschaltet» Optiken oder Reflektoren und zwar entweder zur Bündelung und/oder Aufweitung und/oder Parallelricht^ing· und/oder
Reflexion der genannten Strahlen, wobei die durchstrahlbaren Optiken vorzugsweise aus Kieselglas oder aus ultraviolett durchlässiger Keramik oder anderen UV-durchlässigen Gläsern oder Kunststorren bestehen. Außerdem können die genannten Strahlen auch über Faseroptiken bzw3 Glasfaseroptiken bzw* sogenannte Lichtleiter übertragen werden, Sollte eine Filterung, beispielsweise einiger Wellenlängen oder ¥ellenlängenbereiche erforderlich sein, werden in dem Strahlengang geeignete Filter angeordnet.
Sollen jedoch nur bestimmte Bereiche der Oberfläche bzw. des Gegenstandes oder Objektes bestrahlt werden, sind entsprechende Masken in den Strahlengang einzuschalten. Soll zum Beispiel ein durchstrahlbares Objekt, beispielsweise bei der Herstellung von Schichten oder Gegenständen aus glasfaserverstärkten Polymeren, insbesondere ungesättigtem Polyester, beidseitig bestrahlt werden, wird dieses auf einer durchstrahlbareii Zwischenschicht, zum Beispiel einer .UV-durchlässigen Folie, insbesondere bestehend aus Polyethylenterephthalat (PETP), gelagert und auch von unten durch diese Folie bestrahlt,
Außerdem, ist es möglich, die Bestrahlung in durchstrahlbaren oder über durchstrahlbare Vakuum— oder Gas— oder Schutzgasatmosphärenkammern durchzuführen.
Hierbei ist es insbesondere zur Beschichtung von Oberflächen oder Gegenständen günstig, wenn die genannte Atmosphäre mit geeigneten gasförmigen Monomeren und/oder Polymeren und/oder Elastomeren angereichert ist» Der zu beschichtende Gegenstand wird hierbei in eine Vakuumkammer gebracht, in die nach dem Evakuieren zum Beispiel gasförmiges Hesachlor— butadien oder Tetrafluorethylen eingebracht wird. Nun wird mit Energie in mindestens zwei genannten Bereichen insbesondere den Bereichen I und IV bestrahlt, wodurch auf dem
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genannten Gegenstand bzw, seiner Oberfläche eine dünne, völlig ZUS ammenhän gen de Polymerschicht gebildet vi-cd, deren Härtung außerordentlich hoch ist.
Dieses Verfahren der Fotoabscheidung kann durch das erfindungsgemäße Verfahren zur Erzeugung intensiver Reaktionen wesentlich verbessert werden. Es -können auf diese ¥eise nicht nur höhere Schichtdicken erzeugt, sondern diese auch in wesentlich kürzerer Zeit hergestellt -«erden,, Insbesondere zur Fotopolymerisation werden solche Aktivatoren bzw. Sensibilisatoren mit den genannten Polymeren und/oder Monomeren und/oder ihren Verbindungen und/oder Mischungen innig gemischt, die in der Größenordnung von 0,01 bis cae 10,0 vorzugsweise von 0,1 bis 3?0 Gewichtsanteilen (bezogen auf das Polymer und/oder Monomer und/oder ihre Verbindungen und/oder Mischungen) mindestens ein Haupt- und/ oder Nebenabsorptionsmaximum des Polymeren und/oder Monomeren und/oder ihrer Verbindungen und/oder Mischungen um mindestens 1,0 nm, vorzugsweise um 10,0· nm oder mehr, positiv oder negativ verändern.
Auf diese ¥eise erfolgt eine möglichst genaue Anpassung des Aktivators bzw, Fotosensibilisators bzw, seiner Absorptions— banden und/oder der Absorptionsbanden insbesondere der Aktivator— bzw, Fotosensibilisator-, Polymer— und/oder Monomer- und/oder ihrer Yerblnäxing'- und/oder -mischungsmischung an die Emissionsbande. insbesondere an ein, vorzugsweise zwei oder mehr als zwei genannte Emissionsmaxima des oder der Strahler,
Zur schnellen Verfestigung und insbesondere zur Erzielung eines hohen Vernetxungsgrades der verwendeten Polymeren, oder Monomeren und/oder ihrer Verbindungen und/oder Mischungen werden aus den bekannten Aktivatoren bzw. Sensibilisatoren insbesondere solche Fotosensibilisatoren und/oder entsprechende Verbindungen und/oder entsprechende Mischungen, z, B. als Triplettsensibilisatoren, ausgewählt, die allein oder is, Mischungen mit den genannten Polymeren und dergleichen
eine möglichst vollständige Anpassung an die Emissionsbank den iß döii Bei'eichen I, IT und IV, iiioufeoiiidiffe s.a «Ij.>j go» nannten Emissionsbanden und insbesondere an die dortigen Emissionsmaxima des oder der genannten Strahler erzeugen. Solche Aktivatoren bzri, Fotosensibilisatoren für Epoxidharze sind z„ B0 Organohalogenverbindungen} vorzugsweise aromatische Oniuni- oder Jodoniumsalza oder —komplexsalze (die z..B„ bei der genannten Bestrahlung eine Lswissäurs abspalten}» Für ungesättigte Polyesterharze kommen als Aktivatoren bzw. Sensibilisatoren oder ihre Verbindungen -und/oder Mischungen insbesondere Benzoin— und/oder Bensil- und/oder Athrachinonuad/oder Karbonylderivate, vorzugsweise jedoch Benzoinäther und Benzilkatale oder gleichzeitig als Monomeres wirkende Benzoinakrylate oder Furionakrylate oder dergleichen Lnfrage, Als Aktiva tor en bzw. Photosensibzlisatcren für Akrylharze komme a 2» B.„ Senzoinderivate, insbesondere jedoch aromatische letoae oder für Polyurethane kommen z«. B» Acrylsäureester oder Akrylatverbindungen oder dergleichen infrage,, Für die Anpassung an die genannten Bereiche I, II und IV •werden insbesondere Benzoin— und/oder Anthrachinone und/oder Karbonyl— und/oder aromatische Ketonderivaie und/oder Benzilketale vexnvendet,
Weiterhin ist es für die Fotopolymerisation der genannten Polymere usv» günstig f wenn diese vorzugsweise glaskl.ar sind oder -wenigstens eine JodTarbzahl bziv# eine Farbzahl nach Gardner insbesondere unter 2,5 vorzugsweise unter 1,3 haben* Auch ist es insbesondere .für festigkeitsbeanspruchte Konstruktionen vorteilhaft, -wenn die genannten Poljuiere usw* Faserverstärlcangsmaterialien enthalten und insbesondere solche, die die emittierten Strahlen wenig oder nicht absorbieren, vorzugsweise solche mit einem Brechungsindes von unter 1,7* Vorzugsweise sollten jedoch solche Faserverstärkungsmaterialiea, insbesondere Glasfaserverstärkungsmaterialien verwendet werden, deren Brechungsindex dem des Polymeres und/oder Monomeren und/oder.ihren Verbindungen und/oder Mischungen entspricht oder zumindest nahe kommt, beispielsweise um 1*5,
Ist es erforderlich, daß Farbpigmente und/oder Füllstoffe VöXWöIlCle ο t»θZ1LfBXX SClaSu) gxl ^ xiiοjTf'i_iX' vjj.0iCiiöS »»jlS idr diS vorgenannten Verstärkungsmaterialien, Weiterhin können auch etwa 0,01 bis etwa 30,0 Gewichtsanteile (bezogen auf den Fotosensibilisator) insbesondere lasierende Farbstoffe den genannten B&ymeren usw. beigemischt werdenβ
Von großem Torteil ist es, wenn insbesondere vor dar Erzeugung intensiver chemischer Reaktionen die zu be— oder' zu durchstrahlenden Beschichtungen, Flächengebilde, Gegenstände bzw« Objekte mechanischen Schwingungen, beispielsweise zwischen 10 Hz und 50 kHz bei einer .Amplitude von etwa 2,5 nan bis etwa 0,01 mrs (etwa proportional mit steigender Frequenz Verkleinerung der .amplitude) beispielsweise in einer Etappe oder in mehreren Etappen von 0,05 iain bis etwa 10 min, bei der Herstellung von faserverstärkten Gegenständen von etwa 0,5 bis etwa 3 min. ausgesetzt werden, wobei die Übertragung der Schwingungen vorzugsweise senkrecht- zur Faserrichtung (von oben und/oder unten auf das zu erzeugende Laminat) während der Herstellung erfolgen sollte.
Die genannten Schwingungen dienen insbesondere zur Verdichtung der zu erzeugenden Flächengebilde und/oder Gegenstände, zur Tränkung und insbesondere zur Benetzung der Fa server~ stäz'kungsmatex'ialien mit den genannten Polymeren usw. und insbesondere zur Erzeugung eines innigen Verbundes und von Phasengrenzschichten zwischen den organischen Polymeren usw. -und der insbesondere anorganischen FaserverStärkung und bewirken bei Abstimmung der Schwingungsparameter mit den Polymer- und Vei-Stärkungsparametern eine Homogenisierung von Polymeren vlsw* und von Verstärkungsmaterialien, .insbesondere durch die erzeugte Phasengrenzschicht zwischen Polymeren usw. und Fasern und somit eine brechungs— und/ oder rsfiek.tionsa.nne oder -freie Ein- und Durchdringung· der angewandten elektromagnetischen Energie insbesondere im UV—Berexah, vorzugsweise in den genannten Emissionsbe—
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reichen I bis Y. Zur Vermeidung von Überhitzungen, insbesondere bei Verwendung mehrerer nebeneinander und/oder beidseitig des zu erzeugenden Laminates angeordneter Strahler ist es τοπ Vorteil oder sogar erforderlich, die Strahler "vorzugsweise mittels Blas— und/oder Saugluftströmen zu kühlen» Zur Erzeugung intensiver chemischer Reaktionen auf Oberflächen und/oder in Schichten und/oder Gegenständen bsw, Objekten werden zuerst solche Emissionsquellen bzw, Strahler vorzugsweise für den UV~Bereich, insbesondere Halogen—Metalldampf strahler hergestellt, die ihre Energie in mindestens zwei Emissionsmaxiina bsw. —Schwerpunkten einer umgesetzten Leistung pro Zentimeter Lichtbogenlänge von mindestens 100 ¥ emittieren und zwar erfindungsgemäß bei Wellenlängen insbesondere zwischen 3*3 und 328 nnu vorzugsweise bei 313< 323 und 32 5 ns, und zwar insbesondere für die Absorption durch den Aktivator1 bz"w„ Sensibilisator als einein Emissionsschwerpunkt (l) und bei Wellenlängen insbesondere zwischen 3^8 und 358 nra, vorzugsweise bei 351 bis 353 ns, insbesondere für die Absorption durch den Aktivator bzw. .Sensibilisator und/oder das Polymer und/oder Monomer und/ oder ihre Verbindungen oder Mischungen, als dem zweiten Emissionsschwerpunkt (ll), gegebenenfalls zusätzlich bei Wellenlängen insbesondere zwischen 375 und 382 na, vorzugsweise bei 376 bis 378 nm, insbesondere für die Ab sorption durch den Aktivator bzw« Sensibilisator als einem -weiteren EmissionsSchwerpunkt (ill) und/oder bei Wellenlängen insbesondere zwischen 36O und 370 nm, vorzugsweise bei 364 bis 368 nm. insbesondere für die Absorption durch den Aktivator bzw« Sensibilisator und/oder 'das Polymer «sw. als ebenfalls einem weiteren Emissionsschwerpunkt (IV) und/oder bei Wellenlängen insbesondere zwischen 402 und.412 nm, vorzugsweise bei höh bis 410 nm, insbesondere für die Absorption durch den Aktivator bzw. Sensibilisator als ebenfalls einem weiteren Emissionsschwerpunkt (v)e
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Danach, werden diese Strahler mit den erforderlichen Vorschalt- und Zündgeräten und Spannungsquellen und/oder mit herkömmlichen IR- oder UV-Strahlern parallel und/oder hin~ tereinandergeschaltet und in der Nähe von zu bestrahlenden bzw» zu erzeugenden Beschichtungen, Flächengebilden oder Gegenständen bzw, Objekten angeordnet.
Selbstverständlich können mehrere der vorgenannten Strahler mit mindestens zwei genannten Eaiissionsschwerpunkten (der Schwerpunkte I bis Y) mit weiteren herkömmlichen UV— und/oder IR—Strahlern gleichzeitig, nacheinander oder abwechselnd angewandt und angeordnet werden, ζ* Β, Tür eine kontinuierliche Herstellung von Flach.engebi.lden oder Gegenständen insbesondere aus faserverstärkten Polymeren us^, Zur Herstellung der genannten Halogen—Metalldampfstrahler und zur Strahlungserzeugung und -emission in den vorgenannten Wellenlängen bzw. Emissionsbereichen insbesondere den Emissionsschwerpunkten und zu ihrer nachfolgenden Absorption, z. B. durch die genannten Polymere oder Monomers und/ oder ihre Verbindungen und/oder Mischungen und die genannten Aktivatoren bzw, Fotosensibilisatoren, werden bekannte und für die UV-Strahlung durchlässige Entladungsgefäße mit da™ rin angeordneten Elektroden hergestellt und mit mindestens einem Edelgas, mindestens einem Puffergas oder Pufferdampf und mit mindestens einem Metall oder einer Metallverbindung insbesondere aus der Gruppe der Lanthaniden, vorzugsweise mit Lutetium und/oder Lutetiumverbindungen und/oder mit Me- tallen und/oder Metaliverbindungen insbesondere mit Indium und/oder Thallium und/oder Kadmium und/oder Verbindungen dieser Elemente, gefüllt, verschlossen und danach mit ihren Elektroden an Spanmangsquellen über Vorsehalt- und Zündgeräte angeschlossen* Dabei ist es von Vorteil, wenn die zur Emission eingesetzten genannten Metallverbindungen Halogenide sind.
Zur Herstellung eines Strahlers, der insbesondere im Bereich. I und auch im Bereich II und IV emittiert, wird Z58 B. ein Entladungsgefäß aus Kieselglas oder TJV~durchlässiger Keramik, mit einem Innendurchmesser von 25 mm und einem Elektrodenabstand von 120 mm verwendet, in das eine Füllung von 25OO Pa Argon, 175 mg Quecksilber, 15 mg Lutetium— jodid (LuJ,,), 1 mg Indiumjodid (inJ) und 7 mg Cäsiumjodid (Csj) gebracht wird,
Mach Verschließen des Entladungsgefäßes und Anschluß an eine Spannungsquelle von 3δϋ V über ein geeignetes Vorschaltgerät stellt sich nach Zündung und einer Einbrennseit von 15 min eine Leistung von 2 k¥ bei einer Spannung von caa 23Ο V am Strahler ein,
Die Entladung ist diffus, die als Licht wahrgenommene Strahlung bläulich» Durch die Zugabe von Indium erhält das Lutetiumspektrum zusätzliche Linien bei 325 am, so daß insbesondere von 325 ~ 3^-0 an;, also dem Bereich I und darüber hinaus auch in den Bereichen II und. IV fast lückenlose Strahlungsenergie zur Verfügung steht» Da die emittierte Strahlung mit hoifem ¥i.rkungsgrad erzeugt wird, erhält man auch nach evtl, notwendiger Ausfilterung bestimmter Spek~ tralbereiche noch hohe Bestrahlungsstärken» Selbstverständlich kann ein Entladungsgefäß mit einem Innendurchmesser 'von 22 vccn und einem Elektrodenabstand von 85 πιπί auch eine Füllung "von 3OOO Pa Argca . 200 mg Quecksilber, 0,25 mg Thalliumjodid und 1,25 mg Indiumjodid enthalten, Hierbei stellt sich nach einer- Eisbrennzeit von ca, 15 min am j80—V—Netz mit einem geeigneten Vorschaltgerät eine Leistung von 1000 ¥ bei einer Spaanrmg von 230 V am Strahler ein. Die emittierte Strahlung enthält die Energie der Linien des Quecksilbers, Thalliur.s und Indiums, So zeigt sich eine bevorzugte Emission bei 3 Ό Jim durch Quecksilber, bei 323 nm durch Thallium sowie· bei 325,6 und 325,9 nm durch Indium,, Zn Erscheinung tretsn auch die Thal« lituniinien bei 351,9 und. 377-;6 mn, sowie die Quecksilber-
Ö 4 ,
linien bei 365/366 und kOk,6 nm und die starke Indiumlinie. bei 4iO nm. Somit emittiert dieser Strahler ±2. all or* fünf genannten Schwerpunktberexchen, wie die beigefügte Figur zeigt.
Insbesondere zur Fotopolymerisation von Beschichtungen oder zur diskontinuierlichen oder kontinuierlichen Herstellung von Voll- oder Kohlprofilen _, Flächengebilden oder Gegenständen aus verstärkten Harzen oder vorzugsweise aus glasfaserverstärkten ungesättigten Polyesterharzen -werden vorzugsweise-mehrere insbesondere mit Reflektoren ausgerüstete und wie vorgenannt hergestellte und aufgebaute Strahler im genannten Abstand, vorzugsweise in einem Abstand von etwa β bis 12 cm, über und/oder unter der zu erzeugenden Beschichtung bzw» den zu erzeugenden Profilen (bei Hohlprofilen auch innerhalb des Profils bsrw. innerhalb eines durchstrahlbaren Kernes oder Wickeldornes), Flächengebilden oder dem entsprechenden Gegenstand angeordnet, Die Herstellung einer Beschichtung, einer'Platte oder eines Gegenstandes geschieht dann in folgender ¥eise: Zuerst wird ein genanntes Polymer und/oder Monomer und/ oder eine entsprechende Verbindung und/oder Mischung oder vorzugsweise ein ungesättigtes Polyesterharz, beispielsweise vom VEB Chemische ¥erke Buna, z„ B, der Bunatyp AF (2324), AB (3334), PE (3331O; DS (333*0 oder auch IN-Typen oder MC 1311} oder das ungesättigte Polyesterharz UP nach dem DD~Patent 8°»715> in der entsprechenden Menge mit etwa 0,5 bis k,0, insbesondere etwa 3j0 Gewichtsteilen (b ezogen auf das ungesättigte Polyester) eines genannten Fotosensibilisators, beispielsweise B snizoinäfcher (z, B, dem handelsüblichen Sensibilisator 331 aus Benzoin, chloräthyl— äther oder mit dem .Rotsensibilisator gemäß BD-Patent 121.329 vom VEB SpezialChemie Leipzig) innig gemischt und anschließend auf eine insbesondere flache oder waagerecht angeordnete und vorzugsweise für die genannten elektromagnetischen Wellen durc.hstrahlba.re Unterlage oder Her-
oder eine entsprechende Folie vorzugsweise aus Polyethylenterephthalat (PETp) in der jeweils erforderlichen Schichtdicke aufgebracht,
Erforderlichenfalls können dem ungesättigten Polyester noch ein bis zwei Gewichtsprozent einer Wachs— oder .Paraffinlö— sung (ζ, B, 3%i-g in Styrol) zur Vermeidung einer Luftinhi~ bierung beigemischt werden.
Das Aufbringen der Polyestermischung geschieht vorzugsweise durch druckloses gleichmäßiges Auflaufenlassen ζ, B* auf die genannte Folie bzw* die Herstellungsform oder die entsprechende Unterlage, z. B„ nach dem Einkopfgießverfahren.
Unmittelbar danach oder nach einer kurzen Entlüftungszeit wird diese Polyester/Sensibilisatorinischung (z„ B, aus AF 2324 oder UP 231, gemischt mit 3 Gewichtsteilen des . Sensibilisators P1), beispielsweise einer Schichtdicke von 1 ram der vorgenannten Bestrahlung, insbesondere mit mindestens einem der beschriebenen Strahier bei einem Bestrah— lungsabstand von etwa 6 cm ein— oder beidseitig ausgesetzt und vorzugsweise mit Energie aller genannten Bereiche I bis V bei einseitiger Bestrahlung mindestens k bis 8 s oder bei beidseitiger Bestrahlung 3 bis 5 s lang bestrahlt,, Danach ist diese Schicht fotochemisch gehärtet b'zv/, fotopolymerisiert und somit verfestigt und kann als flache feste Platte von der Folie bzw, der Unterlage entnommen wer— den 3
Zum Vergleich wurde die Fotopolymerisation unter den selben Bedingungen jedoch mit mindestens einem UV—Quecksilberdampf —Hochdrucks t rahler 1200 ¥ durchgeführt» Bei einsei— . tiger Bestrahlung war die genannte Schicht erst nach ca
SO s und bei* beidseitiger Bestrahlung nach etwa 30 s foto— polymerisiert.
Analoge Ergebnisse werden mit glasfaserverstärkten ungesättigten Polyesterharzschichten erzielt, wobei hierbei die
Fotopolymerisationszeiten bei gleichen Schichtdicken {i La-
2 ge Stapelbindermatte k$0 g/m in Abhängigkeit des Faser/
Harz-Anteiles und des verwendeten Glasfaserverstärkungs-•aaterials (Stapelbindemaf te, Got-c-be, Gewirke, Vlies odor dergleichen) doppelt bis dreifach so hoch sind und mit zunehmender Schichtdicke noch ansteigen.
¥erden die glasfaserverstärkten ungesättigten Polyester— schichten bzw. —laminate vor der Fotopolymerisation jedoch 2 bis 3 min den genannten mechanischen Schwingungen beispielsweise mit 50 Hz bei einer Amplittide von ca» 1,0 bis 1,5 ram ausgesetzt, kann durch die dadurch eintretende voll— ständige Benetzung.der Faser und die Bildung der Phasen— grenzschicht zwischen Faser und Harz die fotopolymerisierbare Schichtdicke verdoppelt werden, veil die UY-Strahlen durch Interferenzeffekte mit der Phasengrenzschicht brechungsund reflexionsfrei durch das homogenisierte Laminat dringen« Außerdem wird die Fotopolymerisationszeit gegenüber schwingungsfrei hergestellten Laminaten etwa um 30 fo herabgesetzt.
Selbstverständlich können die Beschichtungen auch kontinuierlich durchgeführt werden, indem der zu beschichtende Gegenstand während der Bestrahlung oder der Fotopolymerisation kontinuierlich transportiert wird.
Ähnliches gilt für die kontinuierliche Herstellung von Flächengebilden -wie flachen Platten, Fellpolyesterplatten oder ,, dergleichen. Hierbei werden die Ausgangsstoffe kontinuierlich mit der durchstrahlbaren und vorzugsweise mittransportierten bzw. als endloses Band umlaufenden Unterlage oder Folie transportiert.
Die Herstellung von Voll- oder Hohlprofilen geschieht beispielsweise nach dem Zieh- oder dem Zieh—/¥iekel—, dem ¥ickel« oder dem Schieuderverfahren, insbesondere ebenfalls bei kontinuierlichem Transport der zugeführten Ausgangsmaterialien, beispielsweise von Rovingsträngen, vorzugsweise einer Schwingungsbehandlun-g zur vollständigen Benetzung usw,, der anschließenden Fotopolymerisation und dem kontinuierlichen Abtransport der fertigen Schichten oder Gegenstände»
O η i O ΓΙ O 1 21
Hierbei bestellen die Wickelkerne oder Schlsuderformen vorzugsweise für eiüo beidaeitige Bestrahlung aus durchstrahlbaren Werkstoffen, z, B# aus Acrylglas oder UY-d-arclilässi.-ger Keramik oder aus PMIA oder PETP,
Auch, die Herstellung von "Vorprodukten oder Halbzeugen oder sogenannten Prepregs ist möglich, weil die Bestrahlung zu jedem erforderlichen Zeitpunkt unterbrochen werden kann, insbesondere, wenn das Harz einen stabilen oligomeren klebfreien Zustand während der Pol-vinerisa ti on erreicht hat»
Claims (4)
- Erfindungsanspruch1* Verfahren zur Erzeugung intensiver chemischer Reaktionen" zur Polyaddition, Polykondensation, vorzugsweise Polymerisation, wie auch zur Pfropf- oder Zweigpolymerisation durch elektromagnetische Energie, insbesondere zur Fotopolymerisation von Beschichtungen, Flächengebilden oder Gegenständen, z# B, aus Sensibilisatoren. insbesondere Fotosensibilisatoren enthaltenden Epoxidharzen, ungesättigten Polyesterharzen, Acrylharzen, Polyurethanen oder dergleichen emittiert durch mindestens eines Strahler im Wellenlängenbereich von IH bis UV-Strahlung, vorzugsweise im UVA-Bereich, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlung in mindestens zwei der nachgenannten Bereiche, vorzugsweise in drei oder mehr Bereichen, im ersten Bereich 1, der Wellenlängen etwa zwischen 300 und 3^-5 nm umfaßt und ein Maximum insbesondere bei etwa 325 nm aufweist, im zweiten Bereich ZI, der Wellenlängen etwa zwischen 3^-0 und 3^5 &ni umfaßt und ein Maximum insbesondere bei etwa 352 nm aufweist, im dritten Bereich III, der Wellenlängen etwa zwischen und 375 ma umfaßt und ein Maximum insbesondere bei etwa 365 ωη aufweist, im vierten Bereich IV, der Wellenlängen etwa zwischen 372 und 392 nm umfaßt und ein Maximum insbesondere bei etwa 377 nm aufweist und im fünften -Bereich V, der Wellenlängen etwa zwischen 395 und A-15 nm ' umfaßt und ein Maximum insbesondere bei etwa höh nm aufweist,' vorzugsweise in den Bereichen I, II und IV, mit einer umgesetzten Leistung pro cm. Lichtbogenlänge von mindestens 100 Watt, bei einem Strahler-/Objektabstand von etwa 1,0 cm bis 60,0 cm und ein oder mehrseitig über eine Dauer von mindestens 1/IOOO s, durchgeführt wird.2, Verfahren nach. Punkt 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Maximum des ersten Bereiches zwischen j23 um und 333 mn liegt, des zweiten Bereiches zwischen 350 nm und 360 nm, des dritten Bereiches zwischen 302 -und 372 nm, des vierten Bereiches zwischen 376 und 386 nm und des fünften Bereiches zwischen A-02 nm und 412 nm liegt»3* Verfahren nach Punkt 1, dadurch gekennzeichnet, daß die spektrale Breite für die Maxima 5 mn beträgt«h, Verfahren nach Punkt 1, dadurch gekennzeichnet, daß derStrahler/Objektabstand von 2,0 - 12,0 em eingehalten 'virda5» Verfahren nach Punkt i, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlung über Opxiken und/oder Ref 3.ektoren und/oder Lichtleiter oder entsprechende Filter, Masken tmd/oder durchstrahlbare Zwischenschichten durchgeführt >;irdä6, Verfahren nach Punkt 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlung im Vakuum, unter Schutzgasatmosphäre oder unter einer Gasatmosphäre, die zur Beschichtung geeignete gasförmige Monomere und/oder Polymere und/oder Elastomere enthält, durchgeführt "wird,7« Verfahren .nach Punkt 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß Sensibilisatoren den Polymeren und/oder Monomeren und/ oder ihren Verbindungen und/oder Mischungen in der Größenordnung vos 0,01 bis 10,0, vorzugsweise 0,1 bis 4,0 Ge-. wicht s an teile zur Verschiebung der. Haupt- und/oder Neben«· absorptionsmaxima um mindestens 1,0 nm, vorzugsweise um mehr als 10,0 nm, zugesetzt werden«S. Verfahren nach Punkt 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß bei Epoxidharzen Sensibilisatoren aus Organohalogenver-bin dun gen, vorzugsweise aromatischen Onium- oder Jod— onirnnsalzen oder —Komplexsalzen eingesetzt werden.9» Verfahren nach Punkt 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß bei Polyesterharzen Sensibilisatoren aus Benzoin— und/oder Benzil- und/oder Anthrachinon- und/oder Karbonylderivaten, vorzugsweise Benzoinäther und Benzilketale oder insbesondere gleichseitig als Monoaeres wirkende Benzoinacrylate oder Furionacrylate eingesetzt werden,10. Verfahren nach Punkt 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß bei Acrylharzen Sensibilisatoren aus Benzoinderivaten, insbesondere aromatischen Ketonen, eingesetzt werden.
- 11. Verfahren nach Punkt 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß bei Polyurethanen Sensibilisatoren aus Acrylsäureester:! oder Acrylatverbindüngen eingesetzt werden»
- 12. Verfahren nach Punkt 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß aus den Sensibilisatoren oder ihren Verbindungen oder Mischungen solche ausgewählt -werden, die allein oder in Mischung mit den genannten Polymeren und/oder Monomeren und/oder ihren Verbindungen und/oder Mischungen eine möglichst vollständige Anpassung an mindestens ein, vorzugsweise an die der Bereiche I, II und IV, insbesondere alle genannten Emissionsmaxima des oder der Strahler erzeugen.13« Verfahren nach Punkt 1 bis 12, gekennzeichnet durch die Anwendung von solchen Polymeren und/oder Monomeren und/ oder ihren Verbindungen und/oder Mischungen mit einer Jodfarbzahl bziv, einer Farbzahl nach Gardner, unter 2,5, vorzugsweise unter 1,3» gegebenenfalls unter Zusatz von solchen insbesondere Faserverstärkungsmaterialien und/_ 1 ·% i 3 ~H 4 «Joder Pigmenten und/oder Füllstoffen., die die emittierten Stx'äiileii 'wenig oder nicht absorbieren, insbesondere solche mit einem Brechungsindex von unter 1,7? insbesondere einein solchen, der dem Brechungsindex des Polymeren und/ oder Monomeren und/oder ihren Verbindungen und/oder Mischungen entspricht oder nahekommt,14# Verfahren nach Punkt 1 bis 13» dadurch gekennzeichnet, daß den Sensibilisatoren 0,01 bis 3.0 Gewichtsanteile lasierende Farbstoffe zugesetzt "werden,15» Verfahren nach Punkt 1 bis i4, dadurch gekennzeichnet, daß Farbstoffe, Füllstoffe oder Faserstoffe enthaltende Polymere und/oder Monomere vor ihrer Bestrahlung mechanischen Schwingungen, vorzugsweise im Ultraschallbereich zur Beeinflussung von Phas er· grenz schicht en ausgesetzt werden»
- 16. Verfahren nach Punkt 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlung mit HalogenmetalldampfStrahlern mit Emissionsraaxima bei 313 nm, 3-25 nmi 352 nm, 366 nm, 377 nm und h10 nm durchgeführt wird*iisrau: 1 Blatt Zeichnung
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD23130981A DD160038A1 (de) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | Verfahren zur erzeugung intersiver reaktion durch elektromagnetische energie |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD23130981A DD160038A1 (de) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | Verfahren zur erzeugung intersiver reaktion durch elektromagnetische energie |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DD160038A1 true DD160038A1 (de) | 1983-04-27 |
Family
ID=5531993
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DD23130981A DD160038A1 (de) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | Verfahren zur erzeugung intersiver reaktion durch elektromagnetische energie |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DD (1) | DD160038A1 (de) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0213738A1 (de) * | 1985-08-07 | 1987-03-11 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Überzogenes Schleifmittel mit durch Bestrahlung härtbarem Bindemittel |
-
1981
- 1981-06-30 DD DD23130981A patent/DD160038A1/de not_active IP Right Cessation
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0213738A1 (de) * | 1985-08-07 | 1987-03-11 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Überzogenes Schleifmittel mit durch Bestrahlung härtbarem Bindemittel |
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